[發明專利]三維模型的生成方法、裝置、存儲介質、電子設備

有效

• 申請號: 202110763067.0
• 申請日: 2021-07-06
• 公開（公告）號: CN113256782B
• 公開（公告）日: 2021-10-01
• 發明（設計）人: 張學全;吳紅燕
• 申請（專利權）人: 武漢幻城經緯科技有限公司
• 主分類號: G06T15/04
• 分類號: G06T15/04
• 代理公司: 深圳智匯遠見知識產權代理有限公司 44481
• 代理人: 劉潔;牛悅涵

本發明公開了一種三維模型的生成方法、裝置、存儲介質、電子設備，屬于計算機可視化領域。其中，該方法包括：獲取目標電腦的顯卡參數，獲取源三維模型的所有零散紋理和幾何結構數據，其中，所述幾何結構數據包括所述源三維模型的幾何頂點坐標數據；根據所述顯卡參數確定所述目標電腦的顯卡支持的最大紋理尺寸；根據所述最大紋理尺寸合并所述源三維模型的所述零散紋理，得到合并紋理；將所述合并紋理貼圖到所述源三維模型的幾何結構上，生成目標三維模型。通過本發明，解決了相關技術在三維模型處理方面紋理精度下降、模型渲染效率較低的技術問題。

技術領域

本發明涉及計算機可視化領域，具體而言，涉及一種三維模型的生成方法、裝置、存儲介質、電子設備。

背景技術

相關技術中,隨著網絡三維渲染和虛擬現實技術的發展，網絡三維應用越來越廣泛，在網絡三維智慧城市系統中，高精度三維城市模型是構建智慧城市系統的重要數據來源，也是虛擬現實（VR）的重要數據支撐。但是，城市級三維模型數據量通常達到上百GB級，而其中紋理數據量一般遠大于幾何結構數據量，復雜建筑模型紋理貼圖眾多且尺寸不一，不僅提高了網絡傳輸時間，而且增加了本地模型載入和渲染批次，降低了三維場景的實時渲染效率。

相關技術中有的一些模型紋理處理方法可以通過計算機程序合并簡化三維模型紋理，但是它們沒有考慮不同電腦的顯卡差異性，模型紋理被合并為一整張紋理，合并完成后由于合并紋理的尺寸大于顯卡支持的最大尺寸，需要對紋理進行拉伸和壓縮等操作，從而導致紋理精度下降、模型渲染效率較低的技術問題。

針對相關技術中存在的上述問題，目前尚未發現有效的解決方案。

發明內容

本發明實施例提供了一種三維模型的生成方法、裝置、存儲介質、電子設備。

根據本發明實施例的一個方面，提供了一種三維模型的生成方法，包括：獲取目標電腦的顯卡參數，獲取源三維模型的所有零散紋理和幾何結構數據，其中，所述幾何結構數據包括所述源三維模型的幾何頂點坐標數據；根據所述顯卡參數確定所述目標電腦的顯卡支持的最大紋理尺寸；根據所述最大紋理尺寸合并所述源三維模型的所述零散紋理，得到合并紋理；將所述合并紋理貼圖到所述源三維模型的幾何結構上，生成目標三維模型。

進一步，根據所述最大紋理尺寸，合并所述源三維模型的所述零散紋理，得到合并紋理，包括：根據所述最大紋理尺寸創建空白紋理；將所述源三維模型的所述零散紋理填入至所述空白紋理，直到填完所有的所述零散紋理，得到至少一個填充紋理；將所述填充紋理輸出為所述合并紋理。

進一步，將所述源三維模型的所述零散紋理填入至所述空白紋理，直到填完所有的所述零散紋理，得到至少一個填充紋理，包括：根據預設最低水平線算法在第一空白紋理中插入所述源三維模型的所述零散紋理，得到第一填充紋理，所述第一填充紋理是已經被所述零散紋理填滿的填充紋理，直至所述源三維模型剩余的零散紋理不能被繼續填充到所述第一空白紋理；根據預設最低水平線算法在第二空白紋理中插入所述源三維模型剩余的零散紋理，得到第二填充紋理，所述第二填充紋理是未被所述零散紋理填滿的填充紋理。

進一步，在得到第二填充紋理之后，所述方法還包括：通過尺寸遞減的方法循環比對所述第二空白紋理的填充尺寸的比例，并裁剪所述第二填充紋理中的空白尺寸，直至所述第二空白紋理的尺寸最小，其中，所述第二空白紋理包括所述填充尺寸和所述空白尺寸。

進一步，根據所述最大紋理尺寸，合并所述源三維模型的所述零散紋理，得到合并紋理之后，還包括：根據所述顯卡參數，計算所述目標電腦的顯卡性能值；根據所述顯卡性能值，自適應選擇層次細節LOD層級算法，其中，LOD層級算法用于按照層級壓縮所述合并紋理的圖片質量；將所述源三維模型紋理處理為N層；針對每層所述源三維模型紋理，基于LOD基礎層級系數，所述顯卡性能值以及顯卡的最高性能值，計算得到當前層所述源三維模型紋理的壓縮比例，所述LOD基礎層級系數包括N個子系數，每個子系數對應一層所述源三維模型紋理，其中N為大于等于1的正整數；根據所述壓縮比例壓縮所述合并紋理的圖片質量。