[發(fā)明專(zhuān)利]一種紅外微流控芯片液體池以及制備方法以及一種活細(xì)胞的FTIR分析方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110762703.8 | 申請(qǐng)日: | 2021-07-06 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113484274B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-06-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周曉潔;鐘佳佳;俞文杰;唐雨釗 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院上海高等研究院 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N21/3577 | 分類(lèi)號(hào): | G01N21/3577;G01N21/03;B01L3/00 |
| 代理公司: | 上海智信專(zhuān)利代理有限公司 31002 | 代理人: | 余永莉 |
| 地址: | 201210 上海市*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 紅外 微流控 芯片 液體 以及 制備 方法 細(xì)胞 ftir 分析 | ||
1.一種紅外微流控芯片液體池,其特征在于,包括:基片,使用光刻膠采用紫外光刻工藝形成于基片上的光刻微圖形,以及覆蓋于基片上將光刻微圖形封閉的蓋片;該基片和蓋片所使用的紅外材料為拋光的氟化鈣晶片,該紅外微流控芯片液體池包括至少一個(gè)樣品室,作為活細(xì)胞的培養(yǎng)區(qū)域和紅外測(cè)量區(qū)域,所述紅外微流控芯片液體池可保證活細(xì)胞的48小時(shí)及以上的存活時(shí)間;
在基片上形成的光刻微圖形選自以下三種中的任意一種:
圖形一包括:居中布置的一個(gè)大樣品室,分別位于樣品室兩側(cè)的進(jìn)液孔、出液孔,將進(jìn)液孔與樣品室連接的進(jìn)液流道,將樣品室與出液孔連接的出液流道,以及背景采集室,樣品室與進(jìn)液流道和出液流道之間還設(shè)有多條緩沖流道;
圖形二包括:居中布置的一個(gè)大樣品室,分別位于樣品室兩側(cè)的第一進(jìn)液孔、第一出液孔,圍繞樣品室布置的兩個(gè)緩沖室,分別位于緩沖室兩側(cè)的第二進(jìn)液孔、第二出液孔,以及四個(gè)背景采集室,第一進(jìn)液孔和第一出液孔通過(guò)微流道與樣品室相連,第二進(jìn)液孔和第二出液孔通過(guò)微流道與緩沖室相連,緩沖室與樣品室之間由直徑4~8μm,間隔4μm的柱體分隔;
圖形三包括:居中布置的一個(gè)大樣品室,分別位于樣品室兩側(cè)的第一進(jìn)液孔、第一出液孔,圍繞樣品室布置的兩個(gè)緩沖室,分別位于緩沖室兩側(cè)的第二進(jìn)液孔、第二出液孔,以及四個(gè)背景采集室和第三進(jìn)液孔,第一進(jìn)液孔和第一出液孔通過(guò)微流道與樣品室相連,第二進(jìn)液孔和第二出液孔通過(guò)微流道與緩沖室相連,緩沖室與樣品室之間由直徑4~8μm,間隔4μm的柱體分隔,第三進(jìn)液孔通過(guò)微流道與其中一個(gè)緩沖室相連,用于補(bǔ)充添加物;
所述紅外微流控芯片液體池的制備方法包括以下步驟:
S1:提供一種既可以透過(guò)可見(jiàn)光,同時(shí)又可以透射或反射紅外光的紅外材料,超聲清洗,氮?dú)獯蹈?,所得材料作為基片和蓋片;
S2:采用紫外光刻工藝在基片上形成光刻微圖形,包括:使用光刻膠在基片上進(jìn)行均勻旋轉(zhuǎn)涂覆,配合光刻掩膜版,在一定溫度下曝光一段時(shí)間,使用顯影液進(jìn)行顯影,從而在基片上形成光刻微圖形,其中,光刻掩膜版根據(jù)所設(shè)計(jì)的微流控芯片圖形制作;
S3:采用熱壓鍵合或可逆鍵合,將蓋片與基片在光刻微圖形處進(jìn)行封接,形成具有至少一個(gè)樣品室的紅外微流控芯片液體池,該紅外微流控芯片液體池可為活細(xì)胞提供長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定、且精確可控的生存環(huán)境,用于活細(xì)胞的傅里葉變換紅外譜學(xué)和紅外顯微與成像研究;
當(dāng)使用的光刻膠為負(fù)膠SU-8時(shí),顯影液為T(mén)OK顯影液;紫外光刻工藝包括:在115~125℃條件下,烘烤基片4~6分鐘,然后,取在常溫下放置0.8~1.2小時(shí)的光刻膠負(fù)膠,在如下參數(shù)下進(jìn)行勻膠、光刻和顯影:500rpm轉(zhuǎn)速下動(dòng)態(tài)滴膠5s;5000rpm轉(zhuǎn)速下勻膠30s;前烘95℃下4分鐘;硬接觸hard模式曝光4秒;后烘95℃下4分鐘;使用顯影液進(jìn)行顯影1分鐘;
熱壓鍵合的工藝包括:0-10分鐘,溫度從25℃線(xiàn)性升溫至65℃;從10分鐘開(kāi)始,在65℃下維持20分鐘;30-45分鐘,線(xiàn)性降溫至25℃,45-55分鐘維持溫度在25℃;0-7分鐘,壓力從0bar線(xiàn)性升至15bar;7-20分鐘,維持在15bar壓力下;21-50分鐘,壓力維持在50bar下;50-55分鐘,壓力線(xiàn)性降低至0bar;
當(dāng)使用的光刻膠為正膠ARP3200時(shí),顯影液為ARP專(zhuān)用顯影液;紫外光刻工藝包括:取在常溫下放置0.4~0.6小時(shí)的光刻膠正膠,在如下參數(shù)下進(jìn)行勻膠、光刻和顯影:?以500r/(min?s)的加速度到達(dá)500rpm轉(zhuǎn)速下,動(dòng)態(tài)滴膠15s;以3000r/(min?s)?的加速度到達(dá)4000rpm轉(zhuǎn)速下,勻膠60s;前烘95℃下2分鐘;Low?vac模式曝光7秒;顯影液與水的比例為3:2,顯影2分鐘;
熱壓鍵合的工藝包括:0-15分鐘,溫度從25℃線(xiàn)性升溫至75℃;15-35分鐘,在75℃下維持20分鐘;35-50分鐘,線(xiàn)性降溫至25℃;0-15分鐘,壓力從0bar線(xiàn)性升至15bar;15-40分鐘,維持在15bar壓力下;40-50分鐘,壓力線(xiàn)性降低至0bar。
2.一種活細(xì)胞的傅里葉變換紅外分析方法,其特征在于,提供一種根據(jù)權(quán)利要求1所述的紅外微流控芯片液體池,使用圖形一~圖形三的微流控芯片液體池時(shí),將液體池的進(jìn)液孔和出液孔分別與進(jìn)樣裝置和出樣裝置相連;樣品進(jìn)入樣品室后,持續(xù)地進(jìn)行營(yíng)養(yǎng)液的注入和流出,保證了活細(xì)胞的48小時(shí)及以上的存活時(shí)間,以實(shí)現(xiàn)活細(xì)胞的傅里葉變換紅外譜學(xué)和紅外顯微與成像研究。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的活細(xì)胞的傅里葉變換紅外分析方法,其特征在于,在進(jìn)行紅外光譜分析時(shí),為去除營(yíng)養(yǎng)液和水對(duì)活細(xì)胞紅外光譜的影響,使用如下校正公式計(jì)算得出活細(xì)胞的紅外光譜:活細(xì)胞紅外光譜=細(xì)胞的原始紅外光譜—營(yíng)養(yǎng)液的光譜×系數(shù),其中,所述系數(shù)的選擇依據(jù)如下:以將2100cm-1處的水的組合頻區(qū)域變平為基線(xiàn)作為基準(zhǔn)。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專(zhuān)用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





