[發(fā)明專利]光刻機(jī)及其掩膜安裝板的調(diào)平結(jié)構(gòu)和調(diào)平方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110762209.1
• 申請(qǐng)日: 2021-07-06
• 公開（公告）號(hào): CN113448194A
• 公開（公告）日: 2021-09-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 霍錦充
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東莞王氏港建機(jī)械有限公司
• 主分類號(hào): G03F9/00
• 分類號(hào): G03F9/00;G03F7/20
• 代理公司: 北京盛凡智榮知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11616
• 代理人: 倪建娣

本發(fā)明涉及光刻機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，它涉及一種光刻機(jī)及其掩膜安裝板的調(diào)平結(jié)構(gòu)和調(diào)平方法，其中，掩膜安裝板用于安裝掩膜板，掩膜板周向上分布有四個(gè)基準(zhǔn)區(qū)域A、B、C和D，掩膜安裝板周向上分布有三個(gè)調(diào)節(jié)區(qū)域M1、M2和M3，調(diào)節(jié)區(qū)域M2與基準(zhǔn)區(qū)域D對(duì)應(yīng)，調(diào)節(jié)區(qū)域M3與基準(zhǔn)區(qū)域C對(duì)應(yīng)；上述的調(diào)平方法包括以下步驟：分別測(cè)量四個(gè)基準(zhǔn)區(qū)域A、B、C和D各自與晶圓支撐板之間的距離LA、LB、LC和LD；以LA、LB、LC和LD中的最大值或最小值作為基準(zhǔn)距離，對(duì)三個(gè)調(diào)節(jié)區(qū)域M1、M2和M3的位置分別進(jìn)行調(diào)節(jié)，使LA、LB、LC和LD與基準(zhǔn)距離一致。根據(jù)本發(fā)明的方案，其可以保證掩模板與晶圓支撐板上的晶圓平行。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光刻機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種光刻機(jī)及其掩膜安裝板的調(diào)平結(jié)構(gòu)和調(diào)平方法。

背景技術(shù)

光刻是半導(dǎo)體制造過程中一道非常重要的工序，它是將一系列掩模板上的芯片圖形通過曝光依次轉(zhuǎn)移到硅片相應(yīng)層上的工藝過程，被認(rèn)為是大規(guī)模集成電路制造中的核心步驟。半導(dǎo)體制造中一系列復(fù)雜而耗時(shí)的光刻工藝主要由相應(yīng)的光刻機(jī)來完成。

現(xiàn)有的光刻機(jī)包括掩膜安裝板以及用于承載晶圓的晶圓支撐板，為了提高加工精度，一般要求掩模板與晶圓平行，故如何保證掩模板與晶圓平行成了本領(lǐng)域急需解決的技術(shù)問題。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明提供一種光刻機(jī)及其掩膜安裝板的調(diào)平結(jié)構(gòu)和調(diào)平方法，主要所要解決的技術(shù)問題是：如何保證掩模板與晶圓支撐板上的晶圓平行。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明主要提供如下技術(shù)方案：

一方面，本發(fā)明的實(shí)施例提供一種光刻機(jī)掩膜安裝板的調(diào)平方法，掩膜安裝板用于安裝掩膜板，掩膜板周向上分布有四個(gè)基準(zhǔn)區(qū)域A、B、C和D，掩膜安裝板周向上分布有三個(gè)調(diào)節(jié)區(qū)域M1、M2和M3，其中，調(diào)節(jié)區(qū)域M1位于兩個(gè)基準(zhǔn)區(qū)域A和B之間，調(diào)節(jié)區(qū)域M2與基準(zhǔn)區(qū)域D對(duì)應(yīng)，調(diào)節(jié)區(qū)域M3與基準(zhǔn)區(qū)域C對(duì)應(yīng)；所述調(diào)平方法包括以下步驟：

步驟S1：分別測(cè)量四個(gè)基準(zhǔn)區(qū)域A、B、C和D各自與晶圓支撐板之間的距離LA、LB、LC和LD；

步驟S2：以LA、LB、LC和LD中的最大值或最小值作為基準(zhǔn)距離，對(duì)三個(gè)調(diào)節(jié)區(qū)域M1、M2和M3的位置分別進(jìn)行調(diào)節(jié)，使LA、LB、LC和LD與所述基準(zhǔn)距離一致。

可選的，四個(gè)基準(zhǔn)區(qū)域A、B、C和D為矩形的四個(gè)頂點(diǎn)；和/或，三個(gè)調(diào)節(jié)區(qū)域M1、M2和M3為等邊三角形的三個(gè)頂點(diǎn)。

可選的，在步驟S2中，僅對(duì)三個(gè)調(diào)節(jié)區(qū)域M1、M2和M3中兩個(gè)的位置分別進(jìn)行調(diào)節(jié)，其中：

若LA或LB為LA、LB、LC和LD四個(gè)中的最大值Lmax或Lmin，則僅調(diào)節(jié)調(diào)節(jié)區(qū)域M2和M3的位置；

若LC為LA、LB、LC和LD四個(gè)中的最大值Lmax或Lmin，則僅調(diào)節(jié)調(diào)節(jié)區(qū)域M1和M2的位置；

若LD為LA、LB、LC和LD四個(gè)中的最大值Lmax或Lmin，則僅調(diào)節(jié)調(diào)節(jié)區(qū)域M1和M3的位置。

可選的，若LA或LB為LA、LB、LC和LD四個(gè)中的最大值Lmax，則調(diào)節(jié)區(qū)域M2的上升高度為Lmax-LD，調(diào)節(jié)區(qū)域M3的上升高度為Lmax-LC；若LA或LB為LA、LB、LC和LD四個(gè)中的最小值Lmin，則調(diào)節(jié)區(qū)域M2的下降高度為LD-Lmin，調(diào)節(jié)區(qū)域M3的下降高度為LC-Lmin；

若LC為LA、LB、LC和LD四個(gè)中的最大值Lmax，則調(diào)節(jié)區(qū)域M1的上升高度為（（Lmax-LA）+（Lmax-LB））/2，調(diào)節(jié)區(qū)域M2的上升高度為Lmax-LD；若LC為LA、LB、LC和LD四個(gè)中的最小值Lmin，則調(diào)節(jié)區(qū)域M1的下降高度為（（LA-Lmin）+（LB-Lmin））/2，調(diào)節(jié)區(qū)域M2的下降高度為LD-Lmin；