[發(fā)明專利]高架污染源掃描成像的超光譜遙感系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110759520.0 | 申請(qǐng)日: | 2021-07-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113324924A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-08-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉誠(chéng);邢成志;林繼楠;李啟華;劉浩然;談偉;季祥光 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)先進(jìn)技術(shù)研究院 |
| 主分類號(hào): | G01N21/25 | 分類號(hào): | G01N21/25 |
| 代理公司: | 深圳市世紀(jì)恒程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44287 | 代理人: | 晏波 |
| 地址: | 230000 安徽*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 污染源 掃描 成像 光譜 遙感 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明公開(kāi)一種高架污染源掃描成像的超光譜遙感系統(tǒng),包括:視場(chǎng)定位相機(jī)裝置,用于對(duì)目標(biāo)工業(yè)區(qū)高架排放源進(jìn)行掃描,并在目標(biāo)工業(yè)區(qū)中存在高架排放源時(shí),獲取高架排放源對(duì)應(yīng)的目標(biāo)區(qū)域的第一目標(biāo)方位角;分析終端,用于基于第一目標(biāo)方位角,獲得目標(biāo)區(qū)域的光信號(hào)采集角,并利用光信號(hào)采集角,對(duì)光信號(hào)接收裝置進(jìn)行自動(dòng)調(diào)整;光信號(hào)接收裝置,用于采集目標(biāo)區(qū)域的光譜信息;光信號(hào)處理裝置,用于對(duì)光譜信息進(jìn)行轉(zhuǎn)換,以獲得數(shù)字信息;分析終端,還用于基于數(shù)字信息,獲得目標(biāo)區(qū)域的污染成分濃度。本發(fā)明還公開(kāi)一種污染成分檢測(cè)方法。本發(fā)明的系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)了對(duì)高架排放源的快速識(shí)別和高精度檢測(cè)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及環(huán)境檢測(cè)領(lǐng)域,特別涉及一種高架污染源掃描成像的超光譜遙感系統(tǒng)和污染成分檢測(cè)方法。
背景技術(shù)
工業(yè)區(qū)多通過(guò)高煙囪排放生產(chǎn)廢氣,污染物經(jīng)過(guò)大氣的擴(kuò)散和垂直傳輸作用會(huì)對(duì)地面造成污染,且通過(guò)水平傳輸影響大尺度范圍內(nèi)的空氣質(zhì)量。因此,對(duì)高架污染源的觀測(cè)和減排至關(guān)重要。工業(yè)廢氣是企業(yè)生產(chǎn)過(guò)程中由于燃料燃燒和生產(chǎn)加工工藝過(guò)程產(chǎn)生的無(wú)組織排放的氣體,可造成大氣污染的成分主要包括煙塵顆粒物、氮氧化物、二氧化硫及揮發(fā)性有機(jī)化合物等。
目前,在大氣污染成分觀測(cè)領(lǐng)域采用的技術(shù)手段包括衛(wèi)星遙感觀測(cè)。但是,利用衛(wèi)星遙感觀測(cè)進(jìn)行高架排放源的檢測(cè)時(shí),難以準(zhǔn)確的對(duì)待檢測(cè)高架排放源進(jìn)行識(shí)別和檢測(cè)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的是提供一種高架污染源掃描成像的超光譜遙感系統(tǒng)和污染成分檢測(cè)方法,旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中難以準(zhǔn)確的對(duì)待檢測(cè)高架排放源進(jìn)行識(shí)別和檢測(cè)的技術(shù)問(wèn)題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提出一種高架污染源掃描成像的超光譜遙感系統(tǒng),其特征在于,所述系統(tǒng)包括:視場(chǎng)定位相機(jī)裝置、光信號(hào)接收裝置、光信號(hào)處理裝置和分析終端;
所述視場(chǎng)定位相機(jī)裝置,用于對(duì)目標(biāo)工業(yè)區(qū)高架排放源進(jìn)行掃描,并在所述目標(biāo)工業(yè)區(qū)中存在高架排放源時(shí),獲取所述高架排放源對(duì)應(yīng)的目標(biāo)區(qū)域的第一目標(biāo)方位角;
所述分析終端,用于基于所述第一目標(biāo)方位角,獲得所述目標(biāo)區(qū)域的光信號(hào)采集角,并利用所述光信號(hào)采集角,對(duì)所述光信號(hào)接收裝置進(jìn)行自動(dòng)調(diào)整;
所述光信號(hào)接收裝置,用于采集所述目標(biāo)區(qū)域的光譜信息;
所述光信號(hào)處理裝置,用于對(duì)所述光譜信息進(jìn)行轉(zhuǎn)換,以獲得數(shù)字信息;
所述分析終端,還用于基于所述數(shù)字信息,獲得所述目標(biāo)區(qū)域的污染成分濃度。
可選的,所述光信號(hào)處理裝置包括分光組件和數(shù)模轉(zhuǎn)換部件;
所述分光組件,用于對(duì)所述光譜信息進(jìn)行分光,以獲得分光信息;
所述數(shù)模轉(zhuǎn)換部件,用于對(duì)所述分光信息進(jìn)行轉(zhuǎn)換,以獲得所述數(shù)字信息。
可選的,
所述分析終端,還用于基于所述數(shù)字信息,獲得所述目標(biāo)區(qū)域的污染成分斜程總量;并基于所述污染成分斜程總量,獲得污染成分垂直柱總量;以及基于所述污染成分垂直柱總量、所述光信號(hào)接收裝置的采集視場(chǎng)角、所述目標(biāo)區(qū)域的目標(biāo)觀測(cè)距離和所述目標(biāo)區(qū)域的目標(biāo)觀測(cè)高度,獲得所述污染成分濃度。
可選的,所述系統(tǒng)還包括成像裝置;
所述成像裝置,用于利用所述污染成分濃度,繪制所述目標(biāo)區(qū)域的污染成分圖像,并輸出所述污染成分圖像。
可選的,所述視場(chǎng)定位相機(jī)裝置包括定位相機(jī)、第一旋轉(zhuǎn)支架和方位數(shù)字顯示儀,所述第一旋轉(zhuǎn)支架可360°旋轉(zhuǎn);
所述定位相機(jī)設(shè)置于所述第一旋轉(zhuǎn)支架上,所述第一旋轉(zhuǎn)支架用于對(duì)所述定位相機(jī)的方位角進(jìn)行調(diào)整;所述定位相機(jī)與所述方位數(shù)字顯示儀連接;
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- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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