[發(fā)明專利]一種真空滅弧室及真空斷路器

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110757640.7
• 申請日: 2021-07-05
• 公開（公告）號: CN113628921A
• 公開（公告）日: 2021-11-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李永林;馬祥騰;趙曉民;閆靜;耿英三;李旭旭;馬朝陽;孫廣雷;劉慶;畢迎華;楊帆;何創(chuàng)偉;胡錦汐;龔炳正;關(guān)昕;李瀟;張航;劉先保;王銘飛;劉文魁
• 申請（專利權(quán)）人: 平高集團有限公司;西安交通大學(xué);國網(wǎng)浙江省電力有限公司
• 主分類號: H01H33/66
• 分類號: H01H33/66;H01H33/662;H01H33/666
• 代理公司: 鄭州睿信知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 41119
• 代理人: 李凱

本發(fā)明涉及一種真空滅弧室及真空斷路器。真空滅弧室包括：瓷殼，其軸向兩端分別設(shè)有靜側(cè)蓋板和動側(cè)蓋板；靜導(dǎo)電桿，處于瓷殼內(nèi)并與靜側(cè)蓋板連接；動導(dǎo)電桿，處于瓷殼內(nèi)并與動側(cè)蓋板連接，動導(dǎo)電桿與靜導(dǎo)電桿之間形成斷口；靜側(cè)端部屏蔽罩，固定在靜側(cè)蓋板內(nèi)側(cè)；動側(cè)端部屏蔽罩，固定在動側(cè)蓋板內(nèi)側(cè)；中央主屏蔽罩，罩設(shè)在斷口處；靜側(cè)均壓電容組，設(shè)置在瓷殼內(nèi)并繞靜導(dǎo)電桿周向布置有多組；動側(cè)均壓電容組，設(shè)置在瓷殼內(nèi)并與靜側(cè)均壓電容組一一對應(yīng)，動側(cè)均壓電容組繞動導(dǎo)電桿周向布置；靜側(cè)連接桿，導(dǎo)電連接靜側(cè)均壓電容組和靜側(cè)蓋板；動側(cè)連接桿，導(dǎo)電連接動側(cè)均壓電容組和動側(cè)蓋板；中間連接桿，導(dǎo)電連接動側(cè)均壓電容組和靜側(cè)均壓電容。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種真空滅弧室及真空斷路器。

背景技術(shù)

真空斷路器是保證電網(wǎng)安全可靠運行的重要開關(guān)設(shè)備。真空斷路器目前普遍應(yīng)用于中低壓領(lǐng)域的交流電網(wǎng)開斷中，具有可靠性高、免維護、開斷能力強等特點。目前，單斷口真空斷路器的電壓等級一般低于145kV,為實現(xiàn)363kV及以上電壓等級，需采用多個單斷口滅弧室進行串聯(lián)構(gòu)成多斷口真空斷路器。

但由于雜散電容的存在，造成多斷口真空斷路器的各個串聯(lián)斷口電壓分布不均勻，容易造成承受電壓高的真空滅弧室先擊穿，進而造成多斷口真空斷路器開斷失敗。為保證各串聯(lián)斷口的電壓分布均勻，一般會在各真空滅弧室處并聯(lián)均勻電容，如申請公布號為CN112382527A的中國專利文獻公開的多斷口真空斷路器。

由于上述專利文獻中的均壓電容處于真空滅弧室的瓷殼外部，導(dǎo)致真空滅弧室和均壓電容組合后的整體體積較大，不利于真空斷路器的小型化設(shè)計。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種真空滅弧室，以解決現(xiàn)有技術(shù)中均壓電容處于真空滅弧室的瓷殼外部，導(dǎo)致真空滅弧室和均壓電容組合后整體體積較大的技術(shù)問題；本發(fā)明的目的還在于提供一種真空斷路器，以解決現(xiàn)有技術(shù)中均壓電容處于真空滅弧室的瓷殼外部，導(dǎo)致真空滅弧室和均壓電容組合后的整體體積較大，不利于真空斷路器小型化設(shè)計的技術(shù)問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明真空滅弧室的技術(shù)方案是：

真空滅弧室，包括：

瓷殼，其軸向兩端分別設(shè)有靜側(cè)蓋板和動側(cè)蓋板；

靜導(dǎo)電桿，處于瓷殼內(nèi)并與靜側(cè)蓋板導(dǎo)電連接；

動導(dǎo)電桿，處于瓷殼內(nèi)并與動側(cè)蓋板導(dǎo)電連接，動導(dǎo)電桿與靜導(dǎo)電桿之間形成斷口；

靜側(cè)端部屏蔽罩，固定在靜側(cè)蓋板內(nèi)側(cè)；

動側(cè)端部屏蔽罩，固定在動側(cè)蓋板內(nèi)側(cè)；

中央主屏蔽罩，固定在瓷殼內(nèi)并罩設(shè)在斷口處；

靜側(cè)均壓電容組，設(shè)置在瓷殼內(nèi)并繞靜導(dǎo)電桿的周向布置有多組，靜側(cè)均壓電容組處于中央主屏蔽罩和靜側(cè)端部屏蔽罩之間；

動側(cè)均壓電容組，設(shè)置在瓷殼內(nèi)并與靜側(cè)均壓電容組一一對應(yīng)，動側(cè)均壓電容組繞動導(dǎo)電桿的周向布置，且處于中央主屏蔽罩和動側(cè)端部屏蔽罩之間；

靜側(cè)連接桿，由靜側(cè)端部屏蔽罩的內(nèi)部穿過并導(dǎo)電連接靜側(cè)均壓電容組和靜側(cè)蓋板；

動側(cè)連接桿，由動側(cè)端部屏蔽罩的內(nèi)部穿過并導(dǎo)電連接動側(cè)均壓電容組和動側(cè)蓋板；

中間連接桿，導(dǎo)電連接動側(cè)均壓電容組和靜側(cè)均壓電容組，以使動側(cè)均壓電容組和靜側(cè)均壓電容組串聯(lián)后與動、靜導(dǎo)電桿并聯(lián)。

有益效果是：本發(fā)明的真空滅弧室利用真空環(huán)境優(yōu)異的絕緣性能，將均壓電容組置于瓷殼內(nèi)部，實現(xiàn)了對斷口均壓，降低真空滅弧室的擊穿概率。而且，由于連接靜側(cè)均壓電容組的靜側(cè)連接桿由靜側(cè)端部屏蔽罩的內(nèi)部穿過，連接動側(cè)均壓電容組的動側(cè)連接桿由動側(cè)端部屏蔽罩的內(nèi)部穿過，使得真空滅弧室的整體結(jié)構(gòu)較為緊湊，體積相對較小。

作為進一步的改進，動側(cè)均壓電容組和靜側(cè)均壓電容組與中央主屏蔽罩在瓷殼的軸向上均具有重合部分。

有益效果是：這樣設(shè)計，使得動側(cè)均壓電容組和靜側(cè)均壓電容組進一步靠近瓷殼中心線，以進一步提高真空滅弧室的緊湊程度。