[發(fā)明專利]一種目標(biāo)跟蹤設(shè)備值班日志自動(dòng)生成方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110757029.4 | 申請(qǐng)日: | 2021-07-05 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113589272A | 公開(公告)日: | 2021-11-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郭劍輝;劉帆;徐如峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇濟(jì)邦智能科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01S13/72 | 分類號(hào): | G01S13/72;G01S13/90;G01S7/41;G06T7/246;G06K9/62;G06N3/04;G06N3/08 |
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| 地址: | 226000 江蘇省*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 目標(biāo) 跟蹤 設(shè)備 值班 日志 自動(dòng) 生成 方法 | ||
1.一種目標(biāo)跟蹤設(shè)備值班日志自動(dòng)生成方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1、提取目標(biāo)狀態(tài);
S2、時(shí)間滑窗生成狀態(tài)序列;
S3、目標(biāo)威脅度判斷;
S4、計(jì)算位置、速度和加速度、航向差;
S5、判斷目標(biāo)機(jī)動(dòng);
S6、生成日志文件。
2.據(jù)權(quán)利要求1所述的一種目標(biāo)跟蹤設(shè)備值班日志自動(dòng)生成方法,其特征在于,包括以下步驟:根據(jù)S1中的操作步驟,所述目標(biāo)狀態(tài)主要包括直線機(jī)動(dòng)、轉(zhuǎn)彎?rùn)C(jī)動(dòng)、俯沖機(jī)動(dòng)和上仰機(jī)動(dòng),短時(shí)間內(nèi)的目標(biāo)機(jī)動(dòng)狀態(tài)通過(guò)計(jì)算少量相鄰特征點(diǎn)的變化即可進(jìn)行識(shí)別,直線機(jī)動(dòng)和轉(zhuǎn)彎?rùn)C(jī)動(dòng)主要是對(duì)機(jī)動(dòng)的方向的斜率進(jìn)行判別。
3.據(jù)權(quán)利要求1所述的一種目標(biāo)跟蹤設(shè)備值班日志自動(dòng)生成方法,其特征在于,包括以下步驟:根據(jù)S4中的操作步驟,所述俯沖和上仰機(jī)動(dòng)重點(diǎn)在于高度變化,計(jì)算方式如下:已知特征點(diǎn)的距離r、方位a、仰角e,根據(jù)球坐標(biāo)系轉(zhuǎn)換三維坐標(biāo)系可知:
4.據(jù)權(quán)利要求1所述的一種目標(biāo)跟蹤設(shè)備值班日志自動(dòng)生成方法,其特征在于,包括以下步驟:根據(jù)S4中的操作步驟,所述水平面上斜率的計(jì)算如下:
5.據(jù)權(quán)利要求1所述的一種目標(biāo)跟蹤設(shè)備值班日志自動(dòng)生成方法,其特征在于,包括以下步驟:根據(jù)S1中的操作步驟,所述因?yàn)槔走_(dá)數(shù)據(jù)采集存在一定誤差,而且飛行目標(biāo)因?yàn)槿藶椴倏睾痛髿鈿饬髟颍茈y進(jìn)行完全的直線機(jī)動(dòng),所以在進(jìn)行識(shí)別時(shí),需要放寬目標(biāo)是否轉(zhuǎn)彎的閾值,根據(jù)三角函數(shù)可知,kji=tanθ,其中,θ為斜率直線與x軸的夾角,所以識(shí)別閾值就可以設(shè)置為kji±tanφ,及為kji-tanφ≤k(j+1)j≤kji+tanφ。
6.據(jù)權(quán)利要求1所述的一種目標(biāo)跟蹤設(shè)備值班日志自動(dòng)生成方法,其特征在于,包括以下步驟:根據(jù)S4中的操作步驟,俯沖與上仰機(jī)動(dòng)識(shí)別高度變化ΔHji的計(jì)算公式如下:ΔHji=zj-zi(i,j=1,2,3...、ji),若ΔHji0,則說(shuō)明目標(biāo)在進(jìn)行上仰機(jī)動(dòng);若ΔHji0,則說(shuō)明目標(biāo)在進(jìn)行俯沖機(jī)動(dòng),同時(shí),因?yàn)榭陀^原因存在,也應(yīng)該設(shè)置判定閾值,即|ΔHji|≤H。
7.據(jù)權(quán)利要求1所述的一種目標(biāo)跟蹤設(shè)備值班日志自動(dòng)生成方法,其特征在于,包括以下步驟:根據(jù)S4中的操作步驟,所述H為設(shè)定的高度變化閾值,高度變化不超過(guò)這個(gè)閾值則未發(fā)生俯沖或上仰機(jī)動(dòng),至此,可以通過(guò)少量特征點(diǎn),對(duì)其相對(duì)位置變化進(jìn)行計(jì)算后識(shí)別出目標(biāo)機(jī)動(dòng)狀態(tài)。
8.據(jù)權(quán)利要求1所述的一種目標(biāo)跟蹤設(shè)備值班日志自動(dòng)生成方法,其特征在于,包括以下步驟:根據(jù)S5中的操作步驟,所述分別進(jìn)行兩次卷積和池化操作是最佳方案,故本文采用卷積層1、池化層1、卷積層2、池化層2、全連接層的網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)模型。
9.據(jù)權(quán)利要求1所述的一種目標(biāo)跟蹤設(shè)備值班日志自動(dòng)生成方法,其特征在于,包括以下步驟:根據(jù)S5中的操作步驟,所述卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)之后,需要進(jìn)行模型編譯,選擇損失函數(shù)、和優(yōu)化器,損失函數(shù)用來(lái)衡量模型的預(yù)測(cè)能力,用來(lái)定義模型預(yù)測(cè)結(jié)果與實(shí)際結(jié)果之間的差距,所以得出的交叉熵值越小,兩種結(jié)果概率的分布越相似,針對(duì)于本文所構(gòu)建的多種航跡類型的分類回歸模型,選用交叉熵?fù)p失函數(shù),其定義如下其中,x表示為樣本數(shù)據(jù),y表示為模型實(shí)際分類識(shí)別結(jié)果,a表示為預(yù)測(cè)結(jié)果,n表示為樣本數(shù)據(jù)的數(shù)量,優(yōu)化器利用梯度下降的方式修正模型訓(xùn)練與模型輸出的參數(shù)值,最優(yōu)化損失函數(shù),Adam是目前大部分分類識(shí)別模型的優(yōu)化器選擇,Adam計(jì)算公式為:mt=μ*mt-1+(1-μ)*gt,
10.據(jù)權(quán)利要求1所述的一種目標(biāo)跟蹤設(shè)備值班日志自動(dòng)生成方法,其特征在于,包括以下步驟:根據(jù)S5中的操作步驟,所述mt表示為t時(shí)刻的指數(shù)衰減平均值,nt表示為t時(shí)刻的平方指數(shù)衰減平均值,gt表示t時(shí)刻的梯度,和分別表示對(duì)應(yīng)的偏差校正,Δθt表示為參數(shù)變化值,μ、v、∈為超參數(shù)值,分別設(shè)定為0.9、0.999、10-8,η表示為學(xué)習(xí)率,設(shè)定為0.002,但是Adam在收斂性上存在一定問(wèn)題,所以本發(fā)明采用改進(jìn)自Adam的Adamax算法,其在Adam基礎(chǔ)上加入了無(wú)窮范數(shù)(infinity norm),為學(xué)習(xí)率提供了一個(gè)范圍變化公式,改善了適應(yīng)性學(xué)習(xí)算法收斂性不佳的問(wèn)題,具體改進(jìn)如下:nt=max(ν*nt-1,|gt|),
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G01S 無(wú)線電定向;無(wú)線電導(dǎo)航;采用無(wú)線電波測(cè)距或測(cè)速;采用無(wú)線電波的反射或再輻射的定位或存在檢測(cè);采用其他波的類似裝置
G01S13-00 使用無(wú)線電波的反射或再輻射的系統(tǒng),例如雷達(dá)系統(tǒng);利用波的性質(zhì)或波長(zhǎng)是無(wú)關(guān)的或未指明的波的反射或再輻射的類似系統(tǒng)
G01S13-02 .利用無(wú)線電波反射的系統(tǒng),例如,初級(jí)雷達(dá)系統(tǒng);類似的系統(tǒng)
G01S13-66 .雷達(dá)跟蹤系統(tǒng);類似系統(tǒng)
G01S13-74 .應(yīng)用無(wú)線電波再輻射的系統(tǒng),例如二次雷達(dá)系統(tǒng);類似系統(tǒng)
G01S13-86 .雷達(dá)系統(tǒng)與非雷達(dá)系統(tǒng)
G01S13-87 .雷達(dá)系統(tǒng)的組合,例如一次雷達(dá)與二次雷達(dá)
- 目標(biāo)檢測(cè)裝置、學(xué)習(xí)裝置、目標(biāo)檢測(cè)系統(tǒng)及目標(biāo)檢測(cè)方法
- 目標(biāo)監(jiān)測(cè)方法、目標(biāo)監(jiān)測(cè)裝置以及目標(biāo)監(jiān)測(cè)程序
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- 目標(biāo)跟蹤方法和目標(biāo)跟蹤設(shè)備
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- 目標(biāo)檢測(cè)方法和目標(biāo)檢測(cè)裝置
- 目標(biāo)跟蹤方法、目標(biāo)跟蹤裝置、目標(biāo)跟蹤設(shè)備
- 目標(biāo)處理方法、目標(biāo)處理裝置、目標(biāo)處理設(shè)備及介質(zhì)
- 目標(biāo)處理方法、目標(biāo)處理裝置、目標(biāo)處理設(shè)備及介質(zhì)
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