[發(fā)明專利]超聲清潔高效散熱型磁控濺射陰極有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110756278.1 | 申請日: | 2021-07-05 |
| 公開(公告)號: | CN113463052B | 公開(公告)日: | 2022-06-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 肖舒;吳熠;李嘉坤;孫澤潤 | 申請(專利權(quán))人: | 華南理工大學(xué) |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 北京中濟(jì)緯天專利代理有限公司 11429 | 代理人: | 黃攀 |
| 地址: | 510641*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 超聲 清潔 高效 散熱 磁控濺射 陰極 | ||
一種超聲清潔高效散熱型磁控濺射陰極,包括安裝組件,以及設(shè)于安裝組件上的屏蔽罩,屏蔽罩內(nèi)由上至下依序安裝靶材組件、超聲清潔冷卻組件、磁性組件以及磁短路組件;超聲清潔冷卻組件包括冷卻元件和導(dǎo)熱元件,以及設(shè)于冷卻元件外側(cè)壁上的多個(gè)超聲振子;冷卻元件的頂部內(nèi)凹形成供冷卻介質(zhì)通過的冷卻流道,導(dǎo)熱元件的底部設(shè)有多個(gè)外凸且延伸至冷卻流道中的導(dǎo)熱柱。本發(fā)明通過導(dǎo)熱元件將靶材組件的熱量快速導(dǎo)出至導(dǎo)熱柱中,冷卻流道中的冷卻介質(zhì)迅速與導(dǎo)熱柱中的熱量進(jìn)行熱交換,從而提高散熱效果,此外,可以通過超聲振子對冷卻流道中產(chǎn)生的水垢及靶材表面的顆粒物進(jìn)行自動清潔,從而提高冷卻效率、減少靶材打火,提高沉積涂層速率及質(zhì)量。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及等離子體材料表面處理技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種超聲清潔高效散熱型磁控濺射陰極。
背景技術(shù)
OLED柔性顯示技術(shù)因其具有可彎曲、響應(yīng)速度快、高色域、寬視角的特點(diǎn),以及對比傳統(tǒng)的顯示技術(shù)其不論是在畫面品質(zhì)、功耗及成本上都有很大的優(yōu)勢,使得其大規(guī)模取代傳統(tǒng)顯示技術(shù)而被在應(yīng)用在電視、手機(jī)、平板顯示等領(lǐng)域。
目前,OLED柔性顯示屏幕的表面主要采用封裝掩膜版(CVD Mask),且通過表面鍍膜的方法以提高其阻隔絕緣耐腐蝕特性,即通過磁控濺射方式在表面制備氧化鋁涂層。
現(xiàn)有的磁控濺射方式中,濺射陰極一般均為矩形平面結(jié)構(gòu),但是現(xiàn)有濺射陰極在濺射過程中的散熱效果欠佳,使得靶材表面的溫度較高,熱輻射導(dǎo)致基材溫升過快不易實(shí)現(xiàn)靶材的大功率密度濺射;且長時(shí)間使用后,磁控濺射陰極的冷卻水道中容易形成水垢,會進(jìn)一步影響散熱;此外,反應(yīng)濺射過程中靶材表面容易產(chǎn)生氧化顆粒引起靶材打火,使放電不穩(wěn)定。
發(fā)明內(nèi)容
基于此,本發(fā)明的目的是提供一種超聲清潔高效散熱型磁控濺射陰極,能夠清除水垢和靶材表面的氧化顆粒,提高散熱效果,以及使放電更加穩(wěn)定。
一種超聲清潔高效散熱型磁控濺射陰極,包括固定于真空腔體內(nèi)的安裝組件,以及設(shè)于所述安裝組件上的屏蔽罩,所述屏蔽罩內(nèi)由上至下依序安裝靶材組件、超聲清潔冷卻組件、磁性組件以及磁短路組件,所述磁短路組件固定在所述安裝組件上,所述靶材組件頂部貫穿所述屏蔽罩頂部;
所述超聲清潔冷卻組件包括相連接的冷卻元件和導(dǎo)熱元件,以及設(shè)于所述冷卻元件外側(cè)壁上的多個(gè)超聲振子,所述導(dǎo)熱元件的頂部與所述靶材組件的底部貼合,所述冷卻元件安裝在所述磁短路組件的頂部;
所述冷卻元件的頂部內(nèi)凹形成供冷卻介質(zhì)通過的冷卻流道,所述導(dǎo)熱元件的底部設(shè)有多個(gè)外凸且延伸至所述冷卻流道中的導(dǎo)熱柱。
相較現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明中,通過所述導(dǎo)熱元件將所述靶材組件的熱量快速導(dǎo)出至所述導(dǎo)熱柱中,所述冷卻流道中的冷卻介質(zhì)迅速與所述導(dǎo)熱柱中的熱量進(jìn)行熱交換,從而提高散熱效果,此外,可以通過超聲振子對冷卻流道中產(chǎn)生的水垢進(jìn)行自動清潔,從而提高散熱效率和使用壽命,還可用于清理靶材表面的氧化物顆粒,減少放電打火,提高濺射穩(wěn)定性。
進(jìn)一步地,所述冷卻流道的深度與所述導(dǎo)熱柱的長度相等。
進(jìn)一步地,所述導(dǎo)熱柱上設(shè)有散熱流道,所述散熱流道位于所述導(dǎo)熱柱的外壁上或貫穿所述導(dǎo)熱柱的側(cè)壁。
進(jìn)一步地,所述冷卻流道為矩形凹槽,矩形凹槽的底部一端設(shè)有進(jìn)液孔,另一端設(shè)有出液孔;
多個(gè)所述導(dǎo)熱柱呈陣列分布,且直徑為0.5~3mm。
進(jìn)一步地,所述冷卻元件和導(dǎo)熱元件均采用銅或鋁制成。
進(jìn)一步地,所述靶材組件包括貼設(shè)于所述導(dǎo)熱元件頂部表面上的濺射靶材,用于將導(dǎo)熱元件固定在所述冷卻元件上的第一固定板,以及用于將所述濺射靶材固定在所述第一固定板上的第二固定板。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





