[發明專利]一種嵌套式平衡坩堝及控制方法

有效

• 申請號: 202110754366.8
• 申請日: 2021-07-01
• 公開（公告）號: CN113522393B
• 公開（公告）日: 2022-07-15
• 發明（設計）人: 彭學誠;郭漢杰;郭靖;王子涵;段生朝;蘇耀;張明春;張禮濤;盧秀艷
• 申請（專利權）人: 北京科技大學
• 主分類號: B01L3/04
• 分類號: B01L3/04
• 代理公司: 北京金智普華知識產權代理有限公司 11401
• 代理人: 朱艷華

1.一種嵌套式平衡坩堝，其特征在于，所述嵌套式平衡坩堝包括外置坩堝、內置坩堝和調節裝置，其中，所述內置坩堝和外置坩堝為嵌套式設置，所述內置坩堝嵌套于所述外置坩堝的內部；

所述外置坩堝包括外置坩堝蓋和外置坩堝底座，所述外置坩堝蓋和外置坩堝底座通過連接件進行連接；

所述外置坩堝蓋上設置有孔槽，所述孔槽用于放置所述調節裝置；

所述調節裝置用于控制調節所述嵌套式平衡坩堝的氣體進出；所述內置坩堝包括內置坩堝蓋和內置坩堝底座；所述內置坩堝蓋和內置坩堝底座之間設置有間隙，所述內置坩堝用于高溫還原反應，所述外置坩堝用于外界隔絕空氣進入所述嵌套式平衡坩堝。

2.根據權利要求1所述的嵌套式平衡坩堝，其特征在于，所述內置坩堝和外置坩堝的材質不同，所述外置坩堝的材質為石墨；所述內置坩堝的材質為氧化鋁。

3.根據權利要求1所述的嵌套式平衡坩堝，其特征在于，所述調節裝置的材質為高純氧化鋁。

4.根據權利要求1所述的嵌套式平衡坩堝，其特征在于，所述外置坩堝蓋和外置坩堝底座通過螺紋進行連接。

5.根據權利要求4所述的嵌套式平衡坩堝，其特征在于，所述螺紋的間距為0.05mm-0.1mm。

6.根據權利要求1所述的嵌套式平衡坩堝，其特征在于，所述外置坩堝的內壁與所述內置坩堝的外壁緊密貼合。

7.根據權利要求1所述的嵌套式平衡坩堝，其特征在于，所述孔槽的尺寸和所述調節裝置的尺寸相同。

8.一種根據權利要求1-7任一項所述的嵌套式平衡坩堝的控制方法，其特征在于，包括如下步驟：

S1.將反應物料配加一定含量的碳充分攪拌形成樣品；

S2.所述樣品加入所述內置坩堝中，將所述內置坩堝放置于外置坩堝內，并將所述調節裝置放置于所述孔槽處；

S3.將所述嵌套式平衡坩堝整體放置在馬弗爐中進行電加熱，所述樣品受熱后釋放氣體使得所述內置坩堝內氣體壓強增大，壓強增大的氣體從所述內置坩堝進入到所述外置坩堝中，當所述外置坩堝內部氣體壓強增大頂起所述調節裝置時，所述外置坩堝內部氣體將所述調節裝置由所述孔槽處頂出；

S4.當所述外置坩堝內部的氣體被釋放后，所述外置坩堝內部的壓力減小，所述調節裝置回落到所述孔槽處。