[發明專利]原子層沉積裝置

有效

• 申請號: 202110753358.1
• 申請日: 2021-07-02
• 公開（公告）號: CN113564564B
• 公開（公告）日: 2022-10-21
• 發明（設計）人: 陳蓉;邵華晨;劉瀟;向俊任;李嘉偉;弋戈
• 申請（專利權）人: 華中科技大學
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/458;C23C16/44
• 代理公司: 華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 姚莉娟

本發明涉及一種原子層沉積裝置，反應室包括反應室主體與腔門，反應室主體的內部形成反應腔體，反應室主體上設有進氣口與抽氣口，腔門與反應室主體可拆卸連接；安裝架與腔門固定連接，腔門與反應室主體連接時，安裝架位于反應腔體的內部；第一承載件用于承載塊狀待包覆物，第一承載件與安裝架可拆卸連接；第二承載件用于承載粉狀待包覆物，第二承載件與安裝架可拆卸連接；第一使用狀態下，第一承載件與安裝架固定連接；第二使用狀態下，第二承載件與安裝架連接，且驅動件與第二承載件連接，驅動件用于驅動第二承載件相對于安裝架轉動。該原子層沉積裝置可以對不同類型的待包覆物進行沉積，適用范圍更廣。

技術領域

本發明涉及原子層沉積技術領域，特別是涉及原子層沉積裝置。

背景技術

原子層沉積是一種將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的技術，其具有薄膜厚度納米可控，均勻性好等特點，因此被廣泛應用于微納米電子器件，太陽能電池等領域。原子層沉積的原理是將前驅體通入真空腔體中與待包覆基體發生化學吸附，伴隨惰性氣體清洗腔體之后，另一前驅體通入腔體與上階段生成物發生化學反應。這兩個階段組成一個原子層沉積反應循環，也即單層薄膜生長，通過控制循環的次數來達到所需厚度的薄膜。在相關技術中，存在許多專門進行原子層沉積的裝置，然而，這些裝置對于待包覆物的適用范圍較為單一，僅能用于單一類型的待包覆物的沉積。

發明內容

基于此，本發明提出一種原子層沉積裝置，可以對不同類型的待包覆物進行沉積，適用范圍更廣。

原子層沉積裝置，包括：

反應室，所述反應室包括反應室主體與腔門，所述反應室主體的內部形成反應腔體，所述反應室主體上設有進氣口與抽氣口，所述腔門與所述反應室主體可拆卸連接；

安裝架，所述安裝架與所述腔門固定連接，所述腔門與所述反應室主體連接時，所述安裝架位于所述反應腔體的內部；

第一承載件，所述第一承載件用于承載塊狀待包覆物，所述第一承載件與所述安裝架可拆卸連接；

第二承載件，所述第二承載件用于承載粉狀待包覆物，所述第二承載件與所述安裝架可拆卸連接；

驅動件；

第一使用狀態下，所述第一承載件與所述安裝架固定連接；

第二使用狀態下，所述第二承載件與所述安裝架連接，且所述驅動件與所述第二承載件連接，所述驅動件用于驅動所述第二承載件相對于所述安裝架轉動。

在其中一個實施例中，所述第一承載件上設有多個凹槽，所述凹槽用于容納所述塊狀待包覆物。

在其中一個實施例中，所述第一使用狀態下，所述第一承載件與所述安裝架通過螺紋緊固件連接；或者，所述第一承載件與所述安裝架卡扣連接；或者，所述第一承載件與所述安裝架通過磁吸固定。

在其中一個實施例中，所述第二使用狀態下，所述第二承載件與所述安裝架之間通過軸承連接，所述第二承載件的轉軸與所述驅動件連接。

在其中一個實施例中，所述第二承載件還包括抽氣管，所述抽氣管與所述抽氣口連接，所述抽氣管與所述轉軸同軸設置，且二者分別位于所述第二承載件沿軸向的兩端。

在其中一個實施例中，所述安裝架的中心區域設有貫通的容納槽，所述第二承載件位于所述容納槽內，沿所述軸向，所述容納槽的兩端各設有一個安裝槽，所述轉軸與所述抽氣管上均套設有所述軸承，所述軸承與對應的所述安裝槽過盈配合。

在其中一個實施例中，所述第二承載件包括沿徑向設置的內支撐網與外支撐網，以及分別連接于二者的兩端的第一端蓋與第二端蓋，所述內支撐網與所述外支撐網均呈鏤空狀，所述內支撐網的外部套設有內過濾網，所述外支撐網的外部套設有外過濾網，所述內過濾網與所述外支撐網之間形成用于容納所述粉狀待包覆物的容納腔體，所述內支撐網的內部形成與所述抽氣管連通的抽氣腔體。