[發(fā)明專(zhuān)利]金屬有機(jī)材料的制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110751617.7 | 申請(qǐng)日: | 2021-07-02 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113529015B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-10-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐海;梁哲文;劉雷;申德振 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/06 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/06;C23C14/12;C23C14/24;C23C14/58 |
| 代理公司: | 長(zhǎng)春中科長(zhǎng)光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 22218 | 代理人: | 高一明;郭婷 |
| 地址: | 130033 吉林省長(zhǎng)春*** | 國(guó)省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 金屬 有機(jī) 材料 制備 方法 | ||
1.一種金屬有機(jī)材料的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1、在真空條件下,分別將原子級(jí)平整的金屬基底、堿基金屬鹽和有機(jī)材料放入熱蒸發(fā)器中,進(jìn)行除氣、加熱,依次將堿基金屬鹽和有機(jī)材料分別均勻的擴(kuò)散在所述金屬基底上,沉積生長(zhǎng)均勻的薄膜;
S2、將所述金屬基底上沉積的堿基金屬鹽薄膜和有機(jī)材料薄膜進(jìn)行退火處理,完成制備金屬有機(jī)材料;
通過(guò)調(diào)節(jié)不同比例的NaCl與PTCDA的劑量,在不同溫度下進(jìn)行退火處理,從而制備出不同Na離子摻雜比例的PTCDA的金屬有機(jī)材料;Na離子與PTCDA的摻雜比例包括:1:1、1:2、1:4、2:1中的任意一種;
每次進(jìn)行退火處理時(shí),堿基金屬鹽劑量的覆蓋率≤50%,即堿基金屬鹽劑量≤0.5ML;有機(jī)材料劑量的覆蓋率≤80%,即有機(jī)材料劑量≤0.8ML。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬有機(jī)材料的制備方法,其特征在于,步驟S1中,
通過(guò)對(duì)金屬基底先濺射后經(jīng)退火處理,獲得原子級(jí)平整金屬基底;
濺射過(guò)程中,離子槍與所述金屬基底保持垂直,距離為80mm,離子槍高壓3000V,激發(fā)電流3mA,基底電流為7μA;
退火過(guò)程中,退火溫度為300~600℃,升溫速率為1℃/s,降溫速率為0.5℃/s。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬有機(jī)材料的制備方法,其特征在于,步驟S2中退火溫度為:50~350℃。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬有機(jī)材料的制備方法,其特征在于,原料的劑量≥在退火過(guò)程中沉積生長(zhǎng)速率×在退火過(guò)程中沉積生長(zhǎng)時(shí)間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的金屬有機(jī)材料的制備方法,其特征在于,堿基金屬鹽為鋰鹽、鈉鹽、鉀鹽、銣鹽、銫鹽、鈁鹽中的一種或幾種的混合物,有機(jī)材料為具有酸酐基團(tuán)、羧基、羰基、鹵素官能團(tuán)中的一種或幾種的有機(jī)小分子材料。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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