[發明專利]一種氧化鎂靶材背板的氧化鋁涂層制備方法

有效

• 申請號: 202110746747.1
• 申請日: 2021-07-02
• 公開（公告）號: CN113416913B
• 公開（公告）日: 2023-05-09
• 發明（設計）人: 王永超;居炎鵬;趙澤良;仝紅巖;王留土;鄭海強;史豪杰;陳耘田;郭利樂;劉占軍;李偉
• 申請（專利權）人: 河南東微電子材料有限公司
• 主分類號: C23C4/134
• 分類號: C23C4/134;C23C4/11;C23C14/35
• 代理公司: 鄭州浩翔專利代理事務所(特殊普通合伙) 41149
• 代理人: 李偉

1.一種氧化鎂靶材背板的氧化鋁涂層制備方法，其特征在于，具體操作步驟如下：

（1）氧化鎂靶材與背板焊接后，將靶材濺射面、背板底面及其他非噴涂面均用耐高溫布包裹保護；

（2）將需噴涂的部位，包括焊接層進行清洗干凈；

所述步驟（2）清洗方法包括：先噴灑丙酮液除油污，再噴灑酒精溶液清洗10～20s后，用去離子水清洗，最后用壓縮空氣吹干燥；

（3）對噴涂部位進行噴砂處理；

所述步驟（3）中噴砂處理的砂粒選用50～100目的碳化硅或金剛砂的一種；噴砂壓力調整為0.2～0.4MPa；

（4）對噴涂部位用等離子噴涂工藝進行氧化鋁噴涂；

所述步驟（4）中噴涂用氧化鋁粉選用1μm～50μm，純度為99.9%以上；等離子噴涂氬氣流量為1800L/h～3000L/h，氫氣流量為720L/h～1500L/h；噴涂的氧化鎂靶材為圓形靶材，靶材連同背板一起固定在水平旋轉平臺上，噴涂時旋轉平臺轉速為50～200r/min；噴涂距離為100～150mm，送噴涂氧化鋁粉電壓8～15V；

（5）對氧化鋁涂層進行磨削拋光處理。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟（3）后還有用去離子水清洗、壓縮空氣吹干步驟。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟（5）中磨削拋光時用風冷冷卻，磨削拋光后涂層粗糙度為0.8μm～1.6μm。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，涂層經拋光后的厚度為0.3μm～0.5μm。