[發明專利]一種電弧陰極磁過濾鍍膜裝置

有效

• 申請號: 202110746031.1
• 申請日: 2021-07-01
• 公開（公告）號: CN113463041B
• 公開（公告）日: 2022-08-02
• 發明（設計）人: 鄭軍;趙棟才;劉興光;王啟民;張子揚;張浩洋
• 申請（專利權）人: 安徽工業大學
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32
• 代理公司: 合肥昊晟德專利代理事務所(普通合伙) 34153
• 代理人: 何梓秋

1.一種電弧陰極磁過濾鍍膜裝置，其特征在于：包括真空腔室、擋板組件、工件轉架、兩個電弧陰極組、四個第二真空室、兩個第一真空室、第一線圈組、第二線圈組、第三線圈組；所述工件轉架、所述擋板組件均設置在所述真空腔室的內部，所述擋板組件與真空腔室活動連接并接地；兩個所述第一真空室分別對稱設置在所述真空腔室的兩側并與其連通，各所述電弧陰極組對應設置在兩個所述第二真空室上，兩個第二真空室為一組分別對稱設置在所述第一真空室上并與其連通；所述第一線圈組設置在所述真空腔室外部，所述第一線圈組將整個真空腔室納入過濾通道，使待鍍工件均暴露于等離子體環境中，所述第二線圈組設置在所述第一真空室外部，所述第三線圈組設置在所述第二真空室的外部；

所述擋板組件包括擋板、傳動軸、固定梁，所述傳動軸貫穿設置在所述真空腔室室頂，所述固定梁設置在所述真空腔室內部，所述傳動軸通過所述固定梁與擋板連接，所述傳動軸帶動所述擋板旋轉進而改變擋板與工件轉架的相對位置，通過所述擋板阻斷等離子體從真空腔室一側向另一側的傳輸，進而阻擋等離子體穿越工件轉架區域后直接到達另一端電弧陰極組位置，使工件轉架浸入等離子體中，完成對待鍍工件膜層的均勻沉積；

所述電弧陰極磁過濾鍍膜裝置還包括轉架底座，所述轉架底座設置在所述真空腔室的內部，所述工件轉架設置在所述轉架底座上；

所述轉架底座內部設置有傳動機構，所述傳動機構與外部動力組件連接，所述外部動力組件設置在所述真空腔室底部。

2.根據權利要求1所述的一種電弧陰極磁過濾鍍膜裝置，其特征在于：所述真空腔室呈空心長方體結構。

3.根據權利要求1所述的一種電弧陰極磁過濾鍍膜裝置，其特征在于：所述電弧陰極磁過濾鍍膜裝置還包括懸臂組件，所述懸臂組件包括第一懸臂、第二懸臂，所述第一懸臂與所述第一線圈組中一側線圈連接，所述第二懸臂與所述第一線圈組另一側線圈連接。

4.根據權利要求3所述的一種電弧陰極磁過濾鍍膜裝置，其特征在于：所述真空腔室上設置有真空腔室門，所述真空腔室門與所述真空腔室之間設置有液壓機構，所述真空腔室門的開閉由所述液壓機構控制。

5.根據權利要求4所述的一種電弧陰極磁過濾鍍膜裝置，其特征在于：所述真空腔室門需要開啟時所述第一懸臂、第二懸臂帶動所述第一線圈組遠離所述真空腔室，所述真空腔室門關閉后所述第一懸臂、第二懸臂帶動所述第一線圈組靠近所述真空腔室。

6.根據權利要求1所述的一種電弧陰極磁過濾鍍膜裝置，其特征在于：一組所述電弧陰極組包括兩組電弧源，一組電弧源包括多個電弧陰極，各組電弧源對應安裝在各第二真空室上。