[發(fā)明專利]一種Ce3+ 有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110741110.3 | 申請日: | 2021-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN113488596B | 公開(公告)日: | 2022-05-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 羅家俊;唐江;郭慶勛;楊龍波;王亮;段家順 | 申請(專利權(quán))人: | 華中科技大學(xué) |
| 主分類號: | H01L51/50 | 分類號: | H01L51/50;H01L51/54;H01L51/56 |
| 代理公司: | 華中科技大學(xué)專利中心 42201 | 代理人: | 祝丹晴 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 ce base sup | ||
本發(fā)明屬于光電器件領(lǐng)域,公開了一種Ce3+基鹵化物電致發(fā)光器件,自上而下依次包括頂電極、空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、空穴阻擋層、電子傳輸層和底電極,其中,所述發(fā)光層采用的材料為Ce3+基鹵化物材料,其結(jié)構(gòu)通式為AmCenXk,其中A為Na,K,Rb,Cs中的一種或多種,X為Cl,Br,I中的一種或多種,Ce的化學(xué)價態(tài)為+3,m+3n=k;該類Ce基鹵化物材料具有高效光致發(fā)光效率、優(yōu)良的熱穩(wěn)定性和較短的激發(fā)態(tài)壽命,可用于電致發(fā)光器件。所述空穴傳輸層和電子傳輸層分別用于將空穴和電子注入到發(fā)光層中。該電致發(fā)光器件具有制備工藝簡單、成本更低、毒性低的特點。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光電器件領(lǐng)域,更具體地,涉及一種Ce3+基鹵化物電致發(fā)光器件。
背景技術(shù)
近年來,金屬鹵化物材料以其高光致發(fā)光量子產(chǎn)率、良好的電荷輸運能力和優(yōu)異的色純度在顯示領(lǐng)域發(fā)展迅速,得到了科技界和企業(yè)界的高度關(guān)注。基于金屬鹵化物材料的發(fā)光二極管(LED)效率已突破20%,與商業(yè)化的有機發(fā)光二極管效率相當(dāng),但目前高效金屬鹵化物發(fā)光二極管的研究主要基于鉛基鈣鈦礦材料,鉛是一種有神經(jīng)毒性的重金屬元素,在實際應(yīng)用中含量要受到嚴(yán)格的控制。
因此,開發(fā)新型低毒非鉛金屬鹵化物材料有助于實現(xiàn)鈣鈦礦材料的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用。目前已經(jīng)開發(fā)出了Sn/Ge基,雙鈣鈦礦以及類鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的Bi/Sb 基鹵化物,但此類鈣鈦礦的熒光量子產(chǎn)率普遍偏低,不具有在LED領(lǐng)域的應(yīng)用價值。
發(fā)明內(nèi)容
三價鑭系Ce3+離子不僅具有與Pb2+相似的離子半徑,而且具有發(fā)光產(chǎn)率高、發(fā)射線寬窄、輻射復(fù)合速率快、穩(wěn)定性好等優(yōu)良的發(fā)光性能。在鹵化鉛鈣鈦礦中用低毒的Ce3+離子替代Pb2+離子,有望結(jié)合彼此的優(yōu)點,但目前Ce3+基金屬鹵化物在電致發(fā)光領(lǐng)域仍未被探索。
本發(fā)明的目的在于提供一種Ce3+基鹵化物電致發(fā)光器件,旨在解決新型非鉛金屬鹵化物材料在LED應(yīng)用上表現(xiàn)不佳的問題。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種Ce3+基鹵化物電致發(fā)光器件,其特征在于,自上而下依次包括頂電極、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層和底電極;
所述發(fā)光層采用的材料為Ce3+基鹵化物發(fā)光材料,所述Ce3+基鹵化物發(fā)光材料的結(jié)構(gòu)通式為AmCenXk,其中A為Na、K、Rb、Cs中的一種或多種,X為Cl、Br、I中的一種或多種,且m+3n=k。
進一步地,所述發(fā)光層采用Cs3CeBr6材料。
進一步地,所述發(fā)光層采用雙源共蒸真空熱蒸發(fā)法制備。
進一步地,所用蒸發(fā)源為CsBr和CeBr3。
進一步地,所述空穴傳輸層采用2,3,6,7,10,11-六氰基-1,4,5,8,9,12-六氮雜苯并菲(HAT-CN)和4,4′-環(huán)己基二[N,N-二(4-甲基苯基)苯胺](TAPC) 制得。
進一步地,所述電子傳輸層采用氧化鋅(ZnO)和氮化硅(Si3N4)制得。
進一步地,所述頂電極為Al電極。
進一步地,所述底電極為ITO電極。
通過本發(fā)明所構(gòu)思的以上技術(shù)方案,與現(xiàn)有技術(shù)相比,能夠取得以下有益效果:
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- 專利分類
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