[發(fā)明專利]葉片開裂的監(jiān)測模型訓(xùn)練方法及葉片開裂的監(jiān)測方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110741070.2
• 申請日: 2021-06-30
• 公開（公告）號: CN115544676A
• 公開（公告）日: 2022-12-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 俠惠芳;王門麟
• 申請（專利權(quán)）人: 北京金風(fēng)慧能技術(shù)有限公司
• 主分類號: G06F30/17
• 分類號: G06F30/17;G06F30/20
• 代理公司: 北京東方億思知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11258
• 代理人: 賀琳

1.一種葉片開裂的監(jiān)測模型訓(xùn)練方法，其特征在于，包括：

獲取m組訓(xùn)練樣本，其中，每組訓(xùn)練樣本為風(fēng)機(jī)機(jī)組在第一預(yù)設(shè)時長內(nèi)的運(yùn)行參數(shù)，所述m為正整數(shù)；

對每組訓(xùn)練樣本標(biāo)記狀態(tài)標(biāo)簽；其中，對第一目標(biāo)時段中的每組訓(xùn)練樣本標(biāo)記第一狀態(tài)標(biāo)簽，對第二目標(biāo)時段中的每組訓(xùn)練樣本標(biāo)記第二狀態(tài)標(biāo)簽；其中，所述第一預(yù)設(shè)時長之內(nèi)包括所述第一目標(biāo)時段和/或所述第二目標(biāo)時段，所述第一目標(biāo)時段為未發(fā)現(xiàn)葉片開裂、且距離發(fā)現(xiàn)葉片開裂超過第二預(yù)設(shè)時長的時段，所述第二目標(biāo)時段為距離發(fā)現(xiàn)葉片開裂未超過所述第二預(yù)設(shè)時長的時段；所述第一狀態(tài)標(biāo)簽為常量；所述第二狀態(tài)標(biāo)簽為變量，所述變量的值根據(jù)距離發(fā)現(xiàn)葉片開裂的時長確定；

通過標(biāo)記所述狀態(tài)標(biāo)簽后的所述m組訓(xùn)練樣本對監(jiān)測模型進(jìn)行訓(xùn)練，得到完成訓(xùn)練的監(jiān)測模型，其中，所述完成訓(xùn)練的監(jiān)測模型用于根據(jù)風(fēng)機(jī)機(jī)組的運(yùn)行參數(shù)監(jiān)測風(fēng)機(jī)機(jī)組的葉片開裂狀態(tài)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一狀態(tài)標(biāo)簽為第一數(shù)值，所述對第二目標(biāo)時段中的每組訓(xùn)練樣本標(biāo)記第二狀態(tài)標(biāo)簽，包括：

確定所述第二目標(biāo)時段中每組訓(xùn)練樣本的監(jiān)測數(shù)據(jù)條數(shù)p，所述p為正整數(shù)；

根據(jù)第一映射函數(shù)，生成p個數(shù)值，以用于作為所述第二狀態(tài)標(biāo)簽，并使得所述p個數(shù)值從所述第一數(shù)值逐漸增加或減小至第二數(shù)值；

分別對所述第二目標(biāo)時段中的p組訓(xùn)練樣本一一對應(yīng)地標(biāo)記p個數(shù)值。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述第一映射函數(shù)包括S型生長曲線sigmoid函數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述通過標(biāo)記所述狀態(tài)標(biāo)簽后的所述m組訓(xùn)練樣本對監(jiān)測模型進(jìn)行訓(xùn)練，得到完成訓(xùn)練的監(jiān)測模型，包括：

對每組訓(xùn)練樣本中的運(yùn)行參數(shù)執(zhí)行特征值映射處理，以將所述運(yùn)行參數(shù)映射為對應(yīng)的特征值，得到與所述m組訓(xùn)練樣本一一對應(yīng)的m組特征值訓(xùn)練樣本；其中，所述特征值映射處理用于將每個運(yùn)行參數(shù)的數(shù)值按照與所述運(yùn)行參數(shù)的類型對應(yīng)的第二映射函數(shù)映射為對應(yīng)的特征值；

根據(jù)標(biāo)記所述狀態(tài)標(biāo)簽后的所述m組特征值訓(xùn)練樣本，對所述監(jiān)測模型進(jìn)行機(jī)器學(xué)習(xí)訓(xùn)練，得到所述完成訓(xùn)練的監(jiān)測模型。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述對每組訓(xùn)練樣本中的運(yùn)行參數(shù)執(zhí)行特征值映射處理，包括：

針對每組訓(xùn)練樣本，對所述運(yùn)行參數(shù)中第一類型的運(yùn)行參數(shù)進(jìn)行取整處理；

和/或，

針對每組訓(xùn)練樣本，對所述運(yùn)行參數(shù)中的第二類型的運(yùn)行參數(shù)按照預(yù)設(shè)間隔劃分等級并標(biāo)記等級；

和/或，

針對每組訓(xùn)練樣本，利用所述運(yùn)行參數(shù)中至少一種類型的運(yùn)行參數(shù)，按照預(yù)設(shè)公式進(jìn)行計(jì)算。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述通過標(biāo)記所述狀態(tài)標(biāo)簽后的所述m組訓(xùn)練樣本對監(jiān)測模型進(jìn)行訓(xùn)練，得到完成訓(xùn)練的監(jiān)測模型，包括：

在所述m組訓(xùn)練樣本訓(xùn)練完畢的情況下，完成對所述監(jiān)測模型的訓(xùn)練，得到所述完成訓(xùn)練的監(jiān)測模型；

或者，

在訓(xùn)練次數(shù)達(dá)到預(yù)設(shè)訓(xùn)練次數(shù)的情況下，完成對所述監(jiān)測模型的訓(xùn)練，得到所述完成訓(xùn)練的監(jiān)測模型。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在通過標(biāo)記所述狀態(tài)標(biāo)簽后的所述m組訓(xùn)練樣本對監(jiān)測模型進(jìn)行訓(xùn)練，得到完成訓(xùn)練的監(jiān)測模型之前，所述方法還包括：

對所述m組訓(xùn)練樣本執(zhí)行數(shù)據(jù)清洗，以刪除存在數(shù)據(jù)異常的訓(xùn)練樣本；

和/或，

以預(yù)設(shè)條件在所述m組訓(xùn)練樣本中篩選出風(fēng)機(jī)機(jī)組穩(wěn)定運(yùn)行時段的特征數(shù)據(jù)記錄，并刪除穩(wěn)定運(yùn)行時段之外的特征數(shù)據(jù)記錄。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)條件包括以下至少之一：

所述風(fēng)機(jī)機(jī)組的開機(jī)時長超過第一閾值；

所述風(fēng)機(jī)機(jī)組的發(fā)電機(jī)轉(zhuǎn)速超過第二閾值；

所述風(fēng)機(jī)機(jī)組的有功功率超過第三閾值；

所述風(fēng)機(jī)機(jī)組的變槳速度小于第四閾值；

所述風(fēng)機(jī)機(jī)組的變槳角度小于第五閾值。