[發明專利]一種普適性廣的奧氏體混晶評價方法有效
| 申請號: | 202110738402.1 | 申請日: | 2021-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN113552029B | 公開(公告)日: | 2022-09-30 |
| 發明(設計)人: | 徐月;劉建生;焦永星;李景丹;陳飛;鄭曉華;馬璟 | 申請(專利權)人: | 太原科技大學 |
| 主分類號: | G01N15/02 | 分類號: | G01N15/02 |
| 代理公司: | 太原達引擎專利代理事務所(特殊普通合伙) 14120 | 代理人: | 郭棟梁 |
| 地址: | 030000 山*** | 國省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 普適性廣 奧氏體 評價 方法 | ||
1.一種普適性廣的奧氏體混晶評價方法,其特征在于包括以下步驟:
1)、隨機選取視場,采用截弦法測量視場中的晶粒個數N以及每個晶粒的晶粒弦長Li,確定視場中晶粒總弦長其中i為由1至N的正整數;
2)、將步驟1)每個晶粒的晶粒弦長Li從大到小依次排列,并設置每組的組距寬度為0.5級晶粒度,歸納整理每組組距寬度內晶粒出現的個數n,計算每組晶粒總弦長
3)、根據步驟2)確定每組晶粒總弦長占視場中晶粒總弦長的百分比P%,繪制每組晶粒總弦長頻率分布圖;
4)、以視場中晶粒總弦長的15%作為非優勢樣本晶粒與優勢樣本晶粒的分界點,根據步驟3)繪制的每組晶粒總弦長頻率分布圖,分別從最小晶粒弦長和最大晶粒弦長開始向中部靠攏,依次將每組晶粒總弦長進行累加,直至若干組晶粒弦長累加值不小于視場中晶粒總弦長的15%時,確定小晶粒分界組與大晶粒分界組,將小晶粒分界組晶粒及比它小的若干組晶粒看作非優勢樣本晶粒,將大晶粒分界組晶粒及比它大的若干組晶粒同樣看作非優勢樣本晶粒,最后確定兩端非優勢樣本晶粒的平均弦長記為平均晶粒弦長
5)、將步驟4)確定的平均晶粒弦長換算成晶粒度級別混晶程度Gm為兩端非優勢樣本晶粒的晶粒度級別差:
2.根據權利要求1所述的一種普適性廣的奧氏體混晶評價方法,其特征在于:所述步驟1)中,所述晶粒個數N由國家標準GB/T 24177-2009給定的置信度以及±5%相對誤差確定。
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