[發明專利]顯示設備和制造該顯示設備的方法

在審

• 申請號: 202110737033.4
• 申請日: 2021-06-30
• 公開（公告）號: CN113889511A
• 公開（公告）日: 2022-01-04
• 發明（設計）人: 柳春基;金亨學
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32;H01L27/12
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 韓芳;劉美華

1.一種顯示設備，所述顯示設備包括：

基底，包括主顯示區域、組件區域和外圍區域，其中，所述組件區域包括透射區域，并且所述外圍區域布置在所述主顯示區域外部；

主薄膜晶體管，布置在所述主顯示區域中；

主有機發光二極管，布置在所述主顯示區域中并連接到所述主薄膜晶體管；

輔助薄膜晶體管，布置在所述組件區域中；

輔助有機發光二極管，布置在所述組件區域中并連接到所述輔助薄膜晶體管；以及

下金屬層，在所述組件區域中布置在所述基底與所述輔助薄膜晶體管之間并且具有底切結構。

2.根據權利要求1所述的顯示設備，其中，所述下金屬層包括在所述顯示設備的厚度方向上具有第一厚度的第一金屬層和在所述顯示設備的所述厚度方向上具有第二厚度的第二金屬層，

其中，所述第二厚度大于所述第一厚度。

3.根據權利要求2所述的顯示設備，其中，所述第一厚度為至并且所述第二厚度為至

4.根據權利要求2所述的顯示設備，其中，所述下金屬層包括對應于所述透射區域的第一孔。

5.根據權利要求2所述的顯示設備，其中，所述第二金屬層具有所述底切結構。

6.根據權利要求2所述的顯示設備，其中，所述第一金屬層包括Ti、Cr、ITO、IZO、ZnO、In₂O₃、IGO和AZO中的至少一種。

7.根據權利要求2所述的顯示設備，其中，所述第二金屬層包括Mo。

8.根據權利要求1所述的顯示設備，其中，所述下金屬層直接布置在所述基底的上表面上。

9.根據權利要求1所述的顯示設備，其中，所述下金屬層和所述輔助薄膜晶體管至少部分地彼此疊置。

10.根據權利要求1所述的顯示設備，所述顯示設備還包括：

封裝基底，布置在所述基底上方。

11.根據權利要求1所述的顯示設備，所述顯示設備還包括：

組件，在所述組件區域中布置在所述基底下方。

12.根據權利要求11所述的顯示設備，其中，所述組件包括成像裝置或傳感器。

13.一種顯示設備，所述顯示設備包括：

基底，包括主顯示區域、組件區域和外圍區域，其中，所述組件區域包括透射區域，并且所述外圍區域布置在所述主顯示區域外部；

主薄膜晶體管，布置在所述主顯示區域中；

主有機發光二極管，布置在所述主顯示區域中并連接到所述主薄膜晶體管；

輔助薄膜晶體管，布置在所述組件區域中；

輔助有機發光二極管，布置在所述組件區域中并連接到所述輔助薄膜晶體管；

下金屬層，在所述組件區域中布置在所述基底與所述輔助薄膜晶體管之間；以及

金屬層，布置在所述下金屬層上并且具有底切結構。

14.根據權利要求13所述的顯示設備，所述顯示設備還包括：

輔助存儲電容器，布置在所述組件區域中，

其中，所述輔助薄膜晶體管包括輔助柵電極，并且所述輔助存儲電容器包括輔助下電極和輔助上電極。

15.根據權利要求14所述的顯示設備，其中，所述金屬層包括第一金屬層和布置在所述第一金屬層上并具有所述底切結構的第二金屬層。

16.根據權利要求15所述的顯示設備，其中，所述金屬層與所述輔助柵電極布置在同一層上。