[發明專利]串聯質譜設備和質譜檢測系統在審
| 申請號: | 202110737023.0 | 申請日: | 2021-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN113406182A | 公開(公告)日: | 2021-09-17 |
| 發明(設計)人: | 范榮榮;朱輝;黃曉;王攀攀;熊亮;劉毅;齊彥兵;張偉 | 申請(專利權)人: | 昆山禾信質譜技術有限公司 |
| 主分類號: | G01N27/62 | 分類號: | G01N27/62 |
| 代理公司: | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 劉廣 |
| 地址: | 215311 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 串聯 設備 檢測 系統 | ||
1.一種串聯質譜設備,其特征在于,包括聚焦裝置、飛行時間質量分析器、離子阱質量分析器和控制裝置;
所述聚焦裝置用于將待測離子聚焦,使所述待測離子到達后級的所述飛行時間質量分析器;
所述控制裝置用于根據測試要求,對所述飛行時間質量分析器和所述離子阱質量分析器中的電極進行電壓時序控制,調整所述待測離子的運行軌跡,實現飛行時間質譜分析或離子阱質譜分析的工作模式切換;
所述飛行時間質量分析器用于當所述工作模式為飛行時間質譜分析時,對所述待測離子進行飛行時間質譜分析,還用于當所述工作模式為離子阱質譜分析時,將所述待測離子傳輸至后級的所述離子阱質量分析器;
所述離子阱質量分析器用于當所述工作模式為離子阱質譜分析時,對穿過所述飛行時間質量分析器的待測離子進行離子阱質譜分析。
2.根據權利要求1所述的串聯質譜設備,其特征在于,所述聚焦裝置包括聚焦單元和偏轉單元;
所述聚焦單元用于將待測離子聚焦,以使所述待測離子到達所述偏轉單元;
所述偏轉單元用于對所述待測離子進行再聚焦,以使所述待測離子到達后級的所述飛行時間質量分析器。
3.根據權利要求1所述的串聯質譜設備,其特征在于,所述聚焦裝置為珊網式靜電四極桿、圓環透鏡組、直流四極桿和偏轉電極中一種或多種的組合。
4.根據權利要求1至3任意一項所述的串聯質譜設備,其特征在于,所述飛行時間質量分析器包括調制裝置、加速裝置、反射裝置和檢測裝置;
所述調制裝置設置于調制區,用于調制所述待測離子的運行軌跡,使所述待測離子進入加速區或到達所述離子阱質量分析器;
所述加速裝置設置于所述加速區,用于對進入所述加速區的所述待測離子進行加速處理,使所述待測離子被加速后穿過無場區進入反射區;
所述反射裝置設置于所述反射區,用于對進入所述反射區的所述待測離子進行反射處理,使所述待測離子被反射后穿過所述無場區到達檢測區;
所述檢測裝置設置于所述檢測區,用于對進入所述檢測區的所述待測離子進行檢測。
5.根據權利要求4所述的串聯質譜設備,其特征在于,所述調制裝置包括第一狹縫電極、門電極和推斥板;所述第一狹縫電極設置于所述調制區入口;所述門電極設置于所述調制區出口,且所述門電極的離子通道對準所述離子阱質量分析器的離子入口;
所述推斥板設置于所述第一狹縫電極和所述門電極之間,用于在所述工作模式為飛行時間質譜分析時,調制所述待測離子的運行軌跡,使所述待測離子進入所述加速區。
6.根據權利要求1至3任意一項所述的串聯質譜設備,其特征在于,所述離子阱質量分析器包括第一端蓋電極、反應電極、第二端蓋電極和離子檢測裝置;所述第一端蓋電極和所述第二端蓋電極相對設置,所述反應電極設置于所述第一端蓋電極和所述第二端蓋電極之間;
所述第一端蓋電極設置于所述離子阱質量分析器的離子入口,所述離子檢測裝置設置于所述離子阱質量分析器的離子出口;
所述第一端蓋電極用于當所述工作模式為離子阱質譜分析時開啟所述離子入口,使待測離子通過所述離子入口到達離子阱;
所述反應電極用于形成所述離子阱,還用于使所述離子阱作用于所述待測離子,最終使所述待測離子到達所述離子檢測裝置;
所述離子檢測裝置用于檢測所述待測離子。
7.一種質譜檢測系統,其特征在于,包括沿待測離子運行通道依次設置的毛細管、聚焦結構、傳輸四極桿和如權利要求1至6任意一項所述的串聯質譜設備。
8.根據權利要求7所述的質譜檢測系統,其特征在于,還包括四極桿濾質器和碰撞池,所述四極桿濾質器和所述碰撞池依次設置于所述傳輸四極桿和所述串聯質譜設備之間。
9.根據權利要求7所述的質譜檢測系統,其特征在于,所述毛細管和所述聚焦結構設置于同一腔室,所述傳輸四極桿設置于另一腔室;其中,不同腔室的真空度不同。
10.根據權利要求7至9任意一項所述的質譜檢測系統,其特征在于,所述聚焦結構為離子漏斗、射頻四極桿或離子遷移譜結構。
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