[發(fā)明專利]一種移動式限位機構(gòu)及清洗機

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110736175.9
• 申請日: 2021-06-30
• 公開（公告）號: CN115532688A
• 公開（公告）日: 2022-12-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳新亮
• 申請（專利權(quán)）人: 廣東聚華印刷顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B1/00;B08B13/00
• 代理公司: 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 徐世俊

本申請?zhí)峁┮环N移動式限位機構(gòu)及清洗機，該移動式限位機構(gòu)包括：驅(qū)動裝置；與驅(qū)動裝置連接的移動支架，驅(qū)動裝置控制所述移動支架在第一方向移動；沿第一方向平行設(shè)置的多個固定板，固定板的一端與移動支架連接；位于固定板的另一端的限位滾輪。由此，驅(qū)動裝置可以控制移動支架在第一方向移動，使得限位滾輪可以在第一方向移動，可以控制限位滾輪在第一方向的位置使其與待限位基板的邊緣接觸，從而實現(xiàn)對不同尺寸待限位基板的限位。由于清洗機包括移動式限位機構(gòu)，因此一臺清洗機可以適應(yīng)多種尺寸的待限位基板，進而可以提升單臺清洗機的設(shè)備綜合能力，極大地降低現(xiàn)有面板線購置多臺清洗設(shè)備所需的資金成本和人力管理成本。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及顯示面板加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種移動式限位機構(gòu)及清洗機。

背景技術(shù)

在當前光電顯示領(lǐng)域，顯示技術(shù)正迅猛發(fā)展，尤以O(shè)LED(有機發(fā)光二極管)顯示技術(shù)發(fā)展最為迅速。以O(shè)LED顯示器件工藝流程為例，玻璃基板上料后經(jīng)過Clean(清洗)、AOI(自動光學(xué)檢測)、TFE(薄膜封裝)等制程后，進行Barrier film(阻隔膜層貼附)、Bonding(綁定)、LLO(激光剝離)前清洗和LLO(激光剝離)等工藝。當前業(yè)界OLED顯示面板的工藝線中，需要在多個功能制程段之間進行基板清洗，包括基板上料后清洗、LLO前清洗等。基板異物、臟污的存在，對各制程段的良率損傷是嚴重的，清洗設(shè)備的清潔能力和基板清潔的干凈程度，極大地影響最終OLED產(chǎn)品的良率和可靠性。

清洗設(shè)備已經(jīng)廣泛應(yīng)用于各種顯示器件工藝中，清洗機的型式一般為直線型或者L型。清洗設(shè)備一般由很多清洗機構(gòu)組成，包括沖洗、刷洗和風干等機構(gòu)，基板在清洗機中的傳送主要采用Roller(滾輪)輸運方式。

目前面板業(yè)界各產(chǎn)線所配置的清洗機，其限位機構(gòu)的位置是固定的，只能對應(yīng)一種尺寸基板的限位和清潔。對于不同尺寸的基板，需要在產(chǎn)線上配置多臺清洗設(shè)備以實現(xiàn)兼容，這使得清洗機的設(shè)備綜合能力受到很大局限，并增加了購置多臺設(shè)備的資金成本，以及人力管理成本。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本申請的目的在于提供一種移動式限位機構(gòu)及清洗機，旨在提高清洗機的綜合能力。

一方面，本申請?zhí)峁┮环N移動式限位機構(gòu)，包括：

驅(qū)動裝置；

與所述驅(qū)動裝置連接的移動支架，所述驅(qū)動裝置控制所述移動支架在第一方向移動；

沿所述第一方向平行設(shè)置的多個固定板，所述固定板的一端與所述移動支架連接；

位于所述固定板的另一端的限位滾輪。

進一步優(yōu)選的，還包括：

在垂直于所述第一方向的平面設(shè)置的固定機架，所述驅(qū)動裝置位于所述固定機架與所述移動支架之間，所述驅(qū)動裝置包括：

安裝在所述固定機架上的氣缸；

固定在所述氣缸上的限位套筒；

與所述氣缸連接的伸縮桿，所述伸縮桿穿過所述限位套筒與所述移動支架連接，所述氣缸控制所述伸縮桿在所述第一方向往復(fù)運動。

進一步優(yōu)選的，所述固定板包括：

與所述移動支架連接的第一子固定板；

與所述第一子固定板連接的第二子固定板，所述第二子固定板的厚度小于所述第一子固定板的厚度，所述限位滾輪位于所述第二子固定板上。

進一步優(yōu)選的，還包括位于所述移動支架下方的導(dǎo)軌，所述導(dǎo)軌在所述第一方向延伸設(shè)置。

進一步優(yōu)選的，所述導(dǎo)軌的兩個相對的側(cè)面分別具有一個凹型軌道，所述移動支架的底部安裝有滑塊組，所述滑塊組具有兩個相對設(shè)置的滑塊，所述兩個滑塊分設(shè)在所述導(dǎo)軌兩側(cè)，所述兩個滑塊沿所述第一方向與兩個所述凹型軌道一一對應(yīng)地滑動配合。