[發(fā)明專(zhuān)利]一種高分辨率慢正電子束形貌的測(cè)量方法及裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110732713.7 | 申請(qǐng)日: | 2021-06-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113447976A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-09-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 況鵬;胡譽(yù);劉福雁;曹興忠;于潤(rùn)升;王寶義;張鵬;魏龍 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院高能物理研究所 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01T1/29 | 分類(lèi)號(hào): | G01T1/29 |
| 代理公司: | 北京天達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11386 | 代理人: | 龐許倩 |
| 地址: | 100049 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 高分辨率 電子束 形貌 測(cè)量方法 裝置 | ||
本發(fā)明涉及一種高分辨率慢正電子束形貌的測(cè)量方法及裝置,屬于束流測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域,解決了現(xiàn)有技術(shù)中慢正電子束流的診斷精度受探測(cè)器分辨率的限制,診斷精度低的問(wèn)題。該方法包括:根據(jù)慢正電子束的目標(biāo)形貌圖像的像素?cái)?shù)及稀疏度確定束流掩膜板的數(shù)量,并確定每一束流掩膜板對(duì)應(yīng)的稀疏二進(jìn)制隨機(jī)矩陣;將慢正電子束流分別照射每一束流掩膜板對(duì)應(yīng)獲得多個(gè)伽馬光子數(shù)值;基于每一束流掩膜板的稀疏二進(jìn)制隨機(jī)矩陣以及對(duì)應(yīng)的伽馬光子數(shù)值進(jìn)行圖像重建獲得慢正電子束的形貌圖像。該方法通過(guò)提高束流掩膜板的分辨率從而提高慢正電子束流的形貌圖像分辨率,很大程度上提高了診斷精度。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及束流測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種高分辨率慢正電子束形貌的測(cè)量方法及裝置。
背景技術(shù)
慢正電子束技術(shù)不僅能給出原子尺度局域缺陷及微觀物相變化的信息,也能探測(cè)表面最外面幾層原子的狀況,并且為非破壞性測(cè)量。近年來(lái),慢正電子束技術(shù)不斷發(fā)展創(chuàng)新,應(yīng)用領(lǐng)域不斷擴(kuò)大,已經(jīng)成為凝聚態(tài)物理、化學(xué)和材料科學(xué)研究的研究工具之一。隨著粒子束的微束技術(shù)發(fā)展,對(duì)束流特性診斷的要求也越來(lái)越高,特別是,束流形貌的測(cè)量精度已到微米量級(jí),甚至更小。
現(xiàn)有技術(shù)中,常用熒光靶結(jié)合熒光成像探測(cè)器或者多通道倍增管來(lái)診斷慢正電子束流形貌及強(qiáng)度分布,熒光成像探測(cè)器的分辨率直接決定了診斷精度。任何探測(cè)器都存在分辨率上限,因此探測(cè)器的分辨率一定程度上限制了慢正電子束的診斷精度。
現(xiàn)有技術(shù)至少存在以下缺陷,一是,束流微束化后導(dǎo)致亮度提升,即單位面積內(nèi)的粒子個(gè)數(shù)增大,導(dǎo)致熒光成像探測(cè)器(或者多通道倍增管)的局域信號(hào)強(qiáng)度陡增,可能超過(guò)承載極限,導(dǎo)致信號(hào)飽和或失真,從而無(wú)法真實(shí)獲得束流診斷參數(shù);二是,慢正電子束作為一種低能粒子束,由于低能正電子的弱穿透性和湮滅特性,使得慢正電子束流的診斷技束十分局限,采用任何熒光成像探測(cè)器(或者多通道倍增管)都存在分辨率上限,因此探測(cè)器(或多通道倍增管)的分辨率很大程度上限制了慢正電子束的診斷精度。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述的分析,本發(fā)明旨在提供一種高分辨率慢正電子束形貌的測(cè)量方法及裝置,用以解決現(xiàn)有測(cè)量方法中慢正電子束的診斷精度受探測(cè)器分辨力的限制,診斷精度低的問(wèn)題。
一方面,本發(fā)明提供了一種高分辨率慢正電子束形貌的測(cè)量方法,包括:
根據(jù)慢正電子束的目標(biāo)形貌圖像的像素?cái)?shù)及稀疏度確定束流掩膜板的數(shù)量,并確定每一所述束流掩膜板對(duì)應(yīng)的稀疏二進(jìn)制隨機(jī)矩陣;
將慢正電子束流分別照射每一所述束流掩膜板對(duì)應(yīng)獲得多個(gè)伽馬光子數(shù)值;
基于每一束流掩膜板的稀疏二進(jìn)制隨機(jī)矩陣以及對(duì)應(yīng)的伽馬光子數(shù)值進(jìn)行圖像重建獲得慢正電子束的形貌圖像。
進(jìn)一步的,所述基于每一束流掩膜板的稀疏二進(jìn)制隨機(jī)矩陣以及對(duì)應(yīng)的伽馬光子數(shù)值進(jìn)行圖像重建獲得慢正電子束的形貌圖像包括:
基于每一所述束流掩膜板對(duì)應(yīng)的稀疏二進(jìn)制隨機(jī)矩陣獲得對(duì)應(yīng)的觀測(cè)矩陣,根據(jù)該觀測(cè)矩陣和稀疏矩陣獲得對(duì)應(yīng)的測(cè)量矩陣;所述稀疏矩陣為所述慢正電子束的形貌圖像與其對(duì)應(yīng)的稀疏圖像矩陣間的轉(zhuǎn)換矩陣;
將所述多個(gè)伽馬光子數(shù)值對(duì)應(yīng)組成一維縱向向量,進(jìn)而獲得觀測(cè)圖像矩陣,根據(jù)該觀測(cè)圖像矩陣及所述測(cè)量矩陣?yán)每臻g追蹤算法計(jì)算獲得所述慢正電子束的形貌圖像對(duì)應(yīng)的稀疏圖像矩陣;
對(duì)獲得的所述稀疏圖像矩陣進(jìn)行反稀疏變換以獲得所述慢正電子束的形貌圖像對(duì)應(yīng)的原圖像矩陣,進(jìn)而獲得所述慢正電子束的形貌圖像。
進(jìn)一步的,所述根據(jù)該觀測(cè)圖像矩陣及所述測(cè)量矩陣?yán)每臻g追蹤算法計(jì)算獲得所述慢正電子束的形貌圖像對(duì)應(yīng)的稀疏圖像矩陣,包括:
基于所述測(cè)量矩陣與所述觀測(cè)圖像矩陣相乘、取值獲得初始化指標(biāo)向量,并基于該初始化指標(biāo)向量通過(guò)下述公式計(jì)算獲得初始化殘差:
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