[發明專利]一種雙紋理效果復合板手機后蓋及其制造方法在審
| 申請號： | 202110732527.3 | 申請日： | 2021-06-29 |
| 公開（公告）號： | CN113422854A | 公開（公告）日： | 2021-09-21 |
| 發明（設計）人： | 章頌云 | 申請（專利權）人： | 東莞市聚龍高科電子技術有限公司 |
| 主分類號： | H04M1/02 | 分類號： | H04M1/02;B32B27/36;B32B27/30;B32B27/08;B32B33/00 |
| 代理公司： | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人： | 張艷美;侯柏龍 |
| 地址： | 523000 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 紋理 效果 復合板 手機 及其 制造 方法 | ||
1.一種雙紋理效果復合板手機后蓋的制造方法，其特征在于，制造步驟包括：
一、于PC/PMMA復合板材的PC層進行UV轉印形成第一紋理層；
二、于所述第一紋理層表面進行表面鍍膜處理形成第一PVD層；
三、于所述第一PVD層表面進行絲印或噴涂形成光學樹脂層；
四、于所述光學樹脂層表面進行UV轉印形成第二紋理層，所述第二紋理層與所述第一紋理層的紋理結構不相同；
五、于所述第二紋理層表面進行表面鍍膜處理形成第二PVD層；
六、于所述第二PVD層表面進行絲印或噴涂形成蓋底層；
七、于所述PC/PMMA復合板材的PMMA層表面進行淋涂形成硬化層。
2.如權利要求1所述的雙紋理效果復合板手機后蓋的制造方法，其特征在于，步驟一中，所述PC層的折光指數為1.54～1.58；
步驟一和步驟四中，所述UV轉印的轉印膠水的折光指數為1.44～1.46；
步驟四中，所述光學樹脂層的折光指數為1.54～1.66。
3.如權利要求1所述的雙紋理效果復合板手機后蓋的制造方法，其特征在于，所述第一PVD層為ZrO(鋯氧化物)/SiO(硅氧化物)/NbO(鈮氧化物)/SiO/NbO復合層。
4.如權利要求1所述的雙紋理效果復合板手機后蓋的制造方法，其特征在于，所述光學樹脂層選用含硫聚合物。
5.如權利要求4所述的雙紋理效果復合板手機后蓋的制造方法，其特征在于，所述含硫聚合物選用如下式一、式二、式三的含硫結構單元的聚合物：
6.如權利要求1所述的雙紋理效果復合板手機后蓋的制造方法，其特征在于，所述第二PVD層為ZrO/SiO/NbO/SiO/NbO復合層或者ZrO/SiO/NbO/In/SiO/NbO復合層。
7.如權利要求1所述的雙紋理效果復合板手機后蓋的制造方法，其特征在于，所述光學樹脂層的厚度為10～20微米。
8.如權利要求1所述的雙紋理效果復合板手機后蓋的制造方法，其特征在于，所述第一紋理層的厚度為8～12微米；所述第二紋理層的厚度為8～12微米。
9.如權利要求1所述的雙紋理效果復合板手機后蓋的制造方法，其特征在于，所述蓋底層的厚度為40～50微米。
10.一種雙紋理效果復合板手機后蓋，其特征在于，采用如權利要求1-9任一項所述的制造方法制得。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于東莞市聚龍高科電子技術有限公司，未經東莞市聚龍高科電子技術有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110732527.3/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
