[發明專利]一種光刻膠組合物有效
| 申請號: | 202110731453.1 | 申請日: | 2021-06-29 |
| 公開(公告)號: | CN113419404B | 公開(公告)日: | 2023-04-18 |
| 發明(設計)人: | 馬潔;李冰;孫嘉;鄭金紅;陳昕;王文芳;董棟;張寧 | 申請(專利權)人: | 北京科華微電子材料有限公司;北京科華豐園微電子科技有限公司;上海彤程電子材料有限公司;彤程新材料集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/039 | 分類號: | G03F7/039;G03F7/004 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 王麗莎 |
| 地址: | 101312 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光刻 組合 | ||
1.一種光刻膠組合物,其特征在于,所述光刻膠組合物包括:100重量份化學放大正性光刻膠基體樹脂、0.2~30重量份光致產酸劑和0.01~5重量份堿性添加劑;
其中,所述光致產酸劑為三嗪類化合物,所述堿性添加劑包括含有氧原子的胺類化合物;
所述三嗪類化合物包括以下結構中的任意一種:
所述胺類化合物包括2-甲氧基乙氧基乙酯-2-三胺、異丙醇胺、N,N-二甲氨基乙酸乙酯、N,N-二甲基甘氨酸、N,N—二甲基乙醇胺、4,4’-二氨基二苯醚、N-叔丁氧基羰基二正辛基胺、N,N-二甲基甲酰胺、乙酰胺、N-甲基乙酰胺和苯甲酰胺中的任意一種或多種。
2.根據權利要求1所述的光刻膠組合物,其特征在于,所述基體樹脂包括帶有保護基團的聚對羥基苯乙烯。
3.根據權利要求1所述的光刻膠組合物,其特征在于,所述基體樹脂的結構通式如下:
其中,R為保護基團,R包括叔丁氧基羰基、1-甲氧基丙基、1-甲氧基-1-甲基乙基、1-乙氧基丙基、1-叔-丁氧基乙基、1-異丁氧基乙基和環氧戊烯中的任意一種或多種;
x+y=100,x為60~80之間的整數。
4.根據權利要求3所述的光刻膠組合物,其特征在于,所述基體樹脂的分子量為3000~30000。
5.根據權利要求1所述的光刻膠組合物,其特征在于,所述光刻膠組合物還包括助劑,所述助劑包括表面活性劑、溶解抑制劑、穩定劑、著色劑、增塑劑和防光暈劑中的任意一種或多種。
6.根據權利要求1所述的光刻膠組合物,其特征在于,所述光刻膠組合物還包括溶劑,所述溶劑的質量為所述光刻膠組合物質量的10~90wt%。
7.根據權利要求6所述的光刻膠組合物,其特征在于,所述溶劑包括丙二醇甲醚醋酸酯,乳酸乙酯,乙酸乙酯中的任意一種或多種。
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