[發(fā)明專利]一種測(cè)試案例處理方法、裝置、平臺(tái)及存儲(chǔ)介質(zhì)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110729999.3
• 申請(qǐng)日: 2021-06-29
• 公開（公告）號(hào): CN113342683A
• 公開（公告）日: 2021-09-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 史媛媛;盧道和;周杰;黃濤;陳文龍;袁文靜
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳前海微眾銀行股份有限公司
• 主分類號(hào): G06F11/36
• 分類號(hào): G06F11/36
• 代理公司: 北京派特恩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270
• 代理人: 崔曉嵐;張穎玲

1.一種測(cè)試案例處理方法，其特征在于，包括：

獲取待測(cè)系統(tǒng)版本集合中的所有前端測(cè)試案例，以及至少兩個(gè)歷史系統(tǒng)版本集合中每一歷史系統(tǒng)版本集合中的所有前端歷史案例；

計(jì)算所述所有前端測(cè)試案例中每一前端測(cè)試案例中的特征對(duì)應(yīng)的特征值，得到所述待測(cè)系統(tǒng)版本集合的測(cè)試特征矩陣；

計(jì)算所述每一歷史系統(tǒng)版本集合中所述所有前端歷史案例中每一前端歷史案例中的特征對(duì)應(yīng)的特征值，得到所述每一歷史系統(tǒng)版本集合的歷史特征矩陣；

基于非負(fù)矩陣分解算法，對(duì)所述測(cè)試特征矩陣進(jìn)行降維處理，得到降維后的測(cè)試特征矩陣；

基于所述非負(fù)矩陣分解算法，對(duì)所述歷史特征矩陣進(jìn)行降維處理，得到降維后的歷史特征矩陣；

計(jì)算所述降維后的測(cè)試特征矩陣中第n個(gè)前端測(cè)試案例的降維后的特征與所述降維后的歷史特征矩陣中每一前端歷史案例的降維后的特征的相似度，得到相似度矩陣；其中，所述n為大于等于1且小于等于N的正整數(shù)，N為所述待測(cè)系統(tǒng)版本集合中的前端測(cè)試案例的總數(shù)；

基于所述相似度矩陣，確定所述所有前端測(cè)試案例滿足自動(dòng)化測(cè)試條件時(shí)，對(duì)所述待測(cè)系統(tǒng)版本集合中的所有前端測(cè)試案例進(jìn)行自動(dòng)化測(cè)試。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于非負(fù)矩陣分解算法，對(duì)所述測(cè)試特征矩陣進(jìn)行降維處理，得到降維后的測(cè)試特征矩陣，包括：

基于確定的所述測(cè)試特征矩陣降維后的特征數(shù)，通過(guò)所述非負(fù)矩陣分解算法，對(duì)所述測(cè)試特征矩陣進(jìn)行分解，得到測(cè)試投影矩陣和測(cè)試基礎(chǔ)矩陣；

獲取所述測(cè)試投影矩陣和所述測(cè)試基礎(chǔ)矩陣相乘得到的第一乘積矩陣；

若所述測(cè)試特征矩陣減去所述第一乘積矩陣得到的第一差值矩陣符合差值閾值矩陣，確定所述第一差值矩陣對(duì)應(yīng)的所述測(cè)試投影矩陣為所述降維后的測(cè)試特征矩陣。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

若所述第一差值矩陣不符合所述差值閾值矩陣，通過(guò)投影矩陣調(diào)整模型對(duì)所述測(cè)試投影矩陣中的每一元素進(jìn)行調(diào)整，得到調(diào)整后的測(cè)試投影矩陣；

通過(guò)基礎(chǔ)矩陣調(diào)整模型對(duì)所述測(cè)試基礎(chǔ)矩陣中的每一元素進(jìn)行調(diào)整，得到調(diào)整后的測(cè)試基礎(chǔ)矩陣；

獲取所述調(diào)整后的測(cè)試投影矩陣和所述調(diào)整后的測(cè)試基礎(chǔ)矩陣相乘得到的第二乘積矩陣；

若所述測(cè)試特征矩陣減去所述第二乘積矩陣得到的第二差值矩陣符合所述差值閾值矩陣，確定所述第二差值矩陣對(duì)應(yīng)的所述調(diào)整后的測(cè)試投影矩陣為所述降維后的測(cè)試特征矩陣。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述投影矩陣調(diào)整模型為：

其中，所述W′_ns為所述調(diào)整后的測(cè)試投影矩陣中第n行第s列的元素，所述W為所述測(cè)試投影矩陣，所述W_ns為所述測(cè)試投影矩陣中第n行第s列的元素，所述X為所述測(cè)試特征矩陣，所述B為所述測(cè)試基礎(chǔ)矩陣，所述B^T為所述測(cè)試基礎(chǔ)矩陣的轉(zhuǎn)置矩陣，所述(XB^T)_ns為所述測(cè)試特征矩陣X與所述測(cè)試基礎(chǔ)矩陣的轉(zhuǎn)置矩陣B^T相乘后所得到的矩陣中第n行第s列的元素，所述(WBB^T)_ns為所述測(cè)試投影矩陣W、所述測(cè)試基礎(chǔ)矩陣B以及所述測(cè)試基礎(chǔ)矩陣的轉(zhuǎn)置矩陣B^T相乘后所得到的矩陣中第n行第s列的元素；

所述基礎(chǔ)矩陣調(diào)整模型為：

其中，所述B′_sm為所述調(diào)整后的測(cè)試基礎(chǔ)矩陣中第s行第m列的元素，所述B為所述測(cè)試基礎(chǔ)矩陣，所述B_sm為所述測(cè)試基礎(chǔ)矩陣中第s行第m列的元素，所述X為所述測(cè)試特征矩陣，所述W為所述測(cè)試投影矩陣，所述W^T為所述測(cè)試投影矩陣的轉(zhuǎn)置矩陣，所述(W^TX)_sm為所述測(cè)試投影矩陣的轉(zhuǎn)置矩陣W^T與所述測(cè)試特征矩陣X相乘后所得到的矩陣中第s行第m列的元素，所述(W^TWB)_sm為所述測(cè)試投影矩陣的轉(zhuǎn)置矩陣W^T、所述測(cè)試投影矩陣W和所述測(cè)試基礎(chǔ)矩陣B相乘后所得到的矩陣中第s行第m列的元素。