[發(fā)明專利]一種基于自主建圖的路線檢測(cè)方法、裝置以及電子設(shè)備

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110728027.2
• 申請(qǐng)日: 2021-06-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113538674A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-10-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 唐銘鍇;鄭林偉;李遠(yuǎn)航;陳映冰;劉天瑜;王魯佳;劉明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳一清創(chuàng)新科技有限公司
• 主分類號(hào): G06T17/05
• 分類號(hào): G06T17/05;G06T7/00
• 代理公司: 深圳市六加知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44372
• 代理人: 許銓芬

1.一種基于自主建圖的路線檢測(cè)方法，其特征在于，包括：

獲取待測(cè)軌跡點(diǎn)的曲率；

獲取與所述待測(cè)軌跡點(diǎn)相鄰的第一軌跡點(diǎn)的曲率；

獲取與所述待測(cè)軌跡點(diǎn)相鄰的第二軌跡點(diǎn)的曲率；

根據(jù)所述待測(cè)軌跡點(diǎn)的曲率，所述第一軌跡點(diǎn)的曲率，以及所述第二軌跡點(diǎn)的曲率，計(jì)算所述待測(cè)軌跡點(diǎn)的得分；

判斷所述待測(cè)軌跡點(diǎn)的得分是否大于預(yù)設(shè)值；

若是，則確定所述待測(cè)軌跡點(diǎn)是跳變軌跡點(diǎn)；

否則，確定所述待測(cè)軌跡點(diǎn)不是跳變軌跡點(diǎn)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述獲取待測(cè)軌跡點(diǎn)的曲率的步驟，進(jìn)一步包括：

擬合所述待測(cè)軌跡點(diǎn)和第二軌跡點(diǎn)所在的曲線的軌跡方程；

根據(jù)所述軌跡方程，獲取所述待測(cè)軌跡點(diǎn)的曲率。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述擬合所述待測(cè)軌跡點(diǎn)和第二軌跡點(diǎn)所在的曲線的軌跡方程的步驟，進(jìn)一步包括：

獲取所述待測(cè)軌跡點(diǎn)的橫縱坐標(biāo)；

獲取所述第二軌跡點(diǎn)的橫縱坐標(biāo)；

獲取所述第一軌跡點(diǎn)的橫縱坐標(biāo)；

獲取與所述第二軌跡點(diǎn)相鄰的第三軌跡點(diǎn)的橫縱坐標(biāo)，其中，所述第三軌跡點(diǎn)遠(yuǎn)離所述待測(cè)軌跡點(diǎn)；

根據(jù)所述待測(cè)軌跡點(diǎn)的橫縱坐標(biāo)、第二軌跡點(diǎn)的橫縱坐標(biāo)、第一軌跡點(diǎn)的橫縱坐標(biāo)和第三軌跡點(diǎn)的橫縱坐標(biāo)，擬合所述待測(cè)軌跡點(diǎn)和第二軌跡點(diǎn)所在的曲線的軌跡方程。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述待測(cè)軌跡點(diǎn)和第二軌跡點(diǎn)所在的曲線的軌跡方程為：

P(t)＝A+Bt+Ct²+Dt³；

其中，所述t為參數(shù)，t∈[0，1]；

其中，所述A、B、C和D可根據(jù)四個(gè)約束條件求解；

所述四個(gè)約束條件包括：

t＝0時(shí)，P(0)等于所述待測(cè)軌跡點(diǎn)的縱坐標(biāo)；

t＝1時(shí)，P(1)等于所述第二軌跡點(diǎn)的縱坐標(biāo)；

t＝0時(shí)，P′(0)等于第二軌跡點(diǎn)的縱坐標(biāo)與第一軌跡點(diǎn)的縱坐標(biāo)的差值，再乘以預(yù)設(shè)參數(shù)；

t＝1時(shí)，P′(1)等于第三軌跡點(diǎn)的縱坐標(biāo)與待測(cè)軌跡點(diǎn)的縱坐標(biāo)的差值，再乘以所述預(yù)設(shè)參數(shù)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述軌跡方程，獲取所述待測(cè)軌跡點(diǎn)的曲率的步驟，進(jìn)一步包括：

獲取所述待測(cè)軌跡點(diǎn)和第二軌跡點(diǎn)所在的曲線上的各個(gè)點(diǎn)的橫坐標(biāo)關(guān)于參數(shù)t的參數(shù)方程X(t)；

獲取所述待測(cè)軌跡點(diǎn)和第二軌跡點(diǎn)所在的曲線上的各個(gè)點(diǎn)的縱坐標(biāo)關(guān)于參數(shù)t的參數(shù)方程Y(t)；

所述待測(cè)軌跡點(diǎn)和第二軌跡點(diǎn)所在的曲線上的各個(gè)點(diǎn)的曲率公式為：

其中，t＝0時(shí)，K(0)即為所述待測(cè)軌跡點(diǎn)的曲率。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述待測(cè)軌跡點(diǎn)的曲率，所述第一軌跡點(diǎn)的曲率，以及所述第二軌跡點(diǎn)的曲率，計(jì)算所述待測(cè)軌跡點(diǎn)的得分的公式為：

score_i＝|K_i-K_i-1|+|K_i+1-K_i|；

其中，所述score_i為所述待測(cè)軌跡點(diǎn)的得分，所述K_i為所述待測(cè)軌跡點(diǎn)的曲率，所述K_i-1為所述第一軌跡點(diǎn)的曲率，所述K_i+1為所述第二軌跡點(diǎn)的曲率。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-5任意一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：標(biāo)記所述跳變軌跡點(diǎn)。