[發(fā)明專利]一種帶內(nèi)腔的無氧銅背板的制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110721894.3
• 申請(qǐng)日: 2021-06-28
• 公開（公告）號(hào): CN113430489B
• 公開（公告）日: 2023-02-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 姚力軍;邊逸軍;潘杰;王學(xué)澤;章麗娜
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 寧波江豐電子材料股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/34
• 分類號(hào): C23C14/34;B23P15/00;C22F1/08
• 代理公司: 北京遠(yuǎn)智匯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11659
• 代理人: 王巖

本發(fā)明提供一種帶內(nèi)腔的無氧銅背板的制備方法，所述制備方法包括：對(duì)無氧銅坯料依次進(jìn)行鍛伸處理、第一熱處理、冷軋?zhí)幚怼⒌诙崽幚怼⒋帚娞幚怼⑼诓邸⒌谌裏崽幚硪约熬娞幚怼Ｋ鲋苽浞椒ń鉀Q了帶內(nèi)腔背板加工過程中的變形問題，提高了背板的平面度。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于背板制造領(lǐng)域，涉及一種無氧銅背板的制備方法，尤其涉及一種帶內(nèi)腔的無氧銅背板的制備方法。

背景技術(shù)

濺射靶材背板(Sputtering Target Back Plate，BP)：金屬濺射靶材是濺射沉積技術(shù)中用做陰極的材料。該陰極材料在濺射機(jī)臺(tái)中被帶正電荷的陽離子撞擊下以分子、原子或離子的形式脫離陰極而在陽極表面重新沉積。由于金屬濺射靶材往往是高純的鋁、銅、鈦、鎳、鉭及貴金屬等比較貴重的材料，所以在其制造時(shí)常常使用比較普通的材料來作為背板。背板起到支撐靶材、冷卻、降低成本等作用，常用的材料有鋁合金(ALBP)、銅合金(CUBP)等。

CN211689221U公開了一種內(nèi)部含水道槽的背板及靶材，白背板包括底板和蓋板，所述水道槽密封于底板和蓋板之間；所述水道槽為設(shè)置在底板上、圍繞底板中心并折疊延伸形成2圈水路的凹槽結(jié)構(gòu)；該靶材包括靶坯和與靶坯結(jié)合使用的內(nèi)部含水道槽的背板。該背板能有效降低濺射過程中產(chǎn)生的高溫，且底面為平面，不易發(fā)生變形，重復(fù)使用次數(shù)可達(dá)10次以上。

CN203765207U公開了一種靶坯與背板的組件結(jié)構(gòu)，該組件結(jié)構(gòu)中，在靶坯底部設(shè)置凸臺(tái)，在背板上設(shè)置凹槽，所述凸臺(tái)與凹槽通過過盈配合相連，配合后所述凸臺(tái)的凸起部分嵌合在凹槽中；同時(shí)在所述靶坯與背板配合相連處設(shè)置相互咬合的防脫緊固結(jié)構(gòu)。該組件結(jié)構(gòu)降低了硬脆難加工材料和稀有貴金屬材料的加工難度和生產(chǎn)成本，克服現(xiàn)有常規(guī)焊接方法的不足，能夠得到高可靠結(jié)合的靶坯與背板組件。

發(fā)明內(nèi)容

為解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種帶內(nèi)腔的無氧銅背板的制備方法，所述制備方法解決了帶內(nèi)腔背板加工過程中的變形問題，提高了背板的平面度。

為達(dá)到上述技術(shù)效果，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

本發(fā)明提供一種帶內(nèi)腔的無氧銅背板的制備方法，所述制備方法包括：

對(duì)無氧銅坯料依次進(jìn)行鍛伸處理、第一熱處理、冷軋?zhí)幚怼⒌诙崽幚怼⒋帚娞幚怼⑼诓邸⒌谌裏崽幚硪约熬娞幚怼?/p>

本發(fā)明中，通過對(duì)加工順序的行列安排，通過鍛伸處理以及冷軋?zhí)幚砀淖儾牧献柚菇Y(jié)構(gòu)，同時(shí)通過熱處理減少背板加工過程中產(chǎn)生的內(nèi)部應(yīng)力，增加背板的銑削性能。

作為本發(fā)明優(yōu)選的技術(shù)方案，所述鍛伸處理包括對(duì)所述無氧銅坯料依次進(jìn)行鐓粗處理以及拔長(zhǎng)處理。

優(yōu)選地，所述鐓粗處理至所述無氧銅坯料原長(zhǎng)度的50～60％，如51％、52％、53％、54％、55％、56％、57％、58％或59％等，但并不僅限于所列舉的數(shù)值，該數(shù)值范圍內(nèi)其他未列舉的數(shù)值同樣適用。

優(yōu)選地，所述拔長(zhǎng)處理至所述無氧銅坯料原長(zhǎng)度的120～130％，如121％、122％、123％、124％、125％、126％、127％、128％或129％等，但并不僅限于所列舉的數(shù)值，該數(shù)值范圍內(nèi)其他未列舉的數(shù)值同樣適用。

優(yōu)選地，所述鐓粗處理以及拔長(zhǎng)處理重復(fù)至少2次，如3次、4次或5次等，但并不僅限于所列舉的數(shù)值，該數(shù)值范圍內(nèi)其他未列舉的數(shù)值同樣適用。

優(yōu)選地，所述鍛伸處理的溫度為490～510℃，如492℃、495℃、498℃、500℃、502℃、505℃或508℃等，但并不僅限于所列舉的數(shù)值，該數(shù)值范圍內(nèi)其他未列舉的數(shù)值同樣適用。

作為本發(fā)明優(yōu)選的技術(shù)方案，所述第一熱處理的溫度為345～355℃，如346℃、347℃、348℃、349℃、350℃、351℃、352℃、353℃、354℃或355℃等，但并不僅限于所列舉的數(shù)值，該數(shù)值范圍內(nèi)其他未列舉的數(shù)值同樣適用。