[發明專利]銅質引線框架及其表面處理方法、封裝體及其制備方法有效
| 申請號: | 202110712015.0 | 申請日: | 2021-06-25 |
| 公開(公告)號: | CN113594048B | 公開(公告)日: | 2022-03-11 |
| 發明(設計)人: | 魯緯;陳志釗;徐俊 | 申請(專利權)人: | 廣東華智芯電子科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/48 | 分類號: | H01L21/48;H01L23/495;H01L21/56;H01L23/31;C25F3/02;C25D11/34 |
| 代理公司: | 華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 袁薈 |
| 地址: | 528251 廣東省佛山市南海區獅山鎮軟件園桃*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 引線 框架 及其 表面 處理 方法 封裝 制備 | ||
1.一種銅質引線框架的表面處理方法,其特征在于,包括以下步驟:
將銅質引線框架依次進行脫脂處理、微蝕處理以及浸入電解氧化液中進行電解氧化處理;
所述銅質引線框架中,銅含量大于等于97%;所述電解氧化液中,電解氧化原液的體積分數為10%~15%,余量為水;所述電解氧化原液中包括質量濃度為200g/L~400g/L的堿和150g/L~250g/L的氧化劑;所述電解氧化處理的電流密度為0.05ASD~0.4ASD,所述電解氧化處理的溫度為50℃~70℃。
2.根據權利要求1所述的表面處理方法,其特征在于,所述電解氧化處理的時間為15min~40min。
3.根據權利要求1所述的表面處理方法,其特征在于,所述堿為氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸氫鈉或碳酸氫鉀中的一種或多種。
4.根據權利要求1所述的表面處理方法,其特征在于,所述氧化劑為過硫酸鈉、氯酸鈉或亞氯酸鈉中的一種或多種。
5.根據權利要求1~4任一項所述的表面處理方法,其特征在于,所述脫脂處理為化學脫脂和/或電解脫脂。
6.根據權利要求1~4任一項所述的表面處理方法,其特征在于,所述微蝕處理采用過硫酸鈉-硫酸體系、過硫酸銨-硫酸體系、雙氧水-硫酸體系中的一種或多種微蝕液體系進行處理。
7.根據權利要求1~4任一項所述的表面處理方法,其特征在于,所述脫脂處理后、所述微蝕處理前,對所述銅質引線框架進行酸洗;所述酸洗是指在常溫下,采用體積濃度為5%~10%的硫酸或鹽酸溶液將所述銅質引線框架浸泡1min~2min。
8.根據權利要求1~4任一項所述的表面處理方法,其特征在于,所述微蝕處理后、所述電解氧化處理前,對所述銅質引線框架進行酸洗;所述酸洗是指在常溫下,采用體積濃度為5%~10%的硫酸或鹽酸溶液將所述銅質引線框架浸泡1min~2min。
9.根據權利要求8所述的表面處理方法,其特征在于,所述酸洗后、所述電解氧化處理前,將所述銅質引線框架在質量濃度為3%~5%的堿液中常溫浸泡0.5min~1min,所述堿液中的堿為氫氧化鈉和/或氫氧化鉀。
10.一種銅質引線框架,其特征在于,由權利要求1~9任一項所述的表面處理方法處理得到。
11.一種封裝體,其特征在于,包括權利要求10所述的銅質引線框架。
12.一種封裝體的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
將權利要求10所述的銅質引線框架放入模具內,與塑膠在120℃以上的溫度下模內成型。
13.根據權利要求12所述的制備方法,其特征在于,所述塑膠為聚對苯二甲酸丁二醇脂、聚苯硫醚樹脂、聚酰胺樹脂、高分子液晶聚合物以及其玻纖增強塑料中的一種或多種。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于廣東華智芯電子科技有限公司,未經廣東華智芯電子科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110712015.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





