[發明專利]一種零VOC排放的POS機用色漿有效
| 申請號: | 202110708712.9 | 申請日: | 2021-06-25 |
| 公開(公告)號: | CN113321972B | 公開(公告)日: | 2022-05-06 |
| 發明(設計)人: | 陳君;鄭慧娜;馬春福 | 申請(專利權)人: | 浙江納美新材料股份有限公司 |
| 主分類號: | C09D17/00 | 分類號: | C09D17/00;C08G77/395 |
| 代理公司: | 浙江千克知識產權代理有限公司 33246 | 代理人: | 裴金華 |
| 地址: | 313300 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 voc 排放 pos 用色 | ||
1.一種零VOC排放的POS機用色漿,其特征在于,按照重量份數計包括:水50份、色粉30~45份、零VOC表面活性劑10~20份、保濕劑10~15份、流變改性劑5~10份、pH調節劑1~5份以及功能性添加劑0~5份;
其中,所述零VOC表面活性劑為核心為有機硅結構,端基結構為磷酸酯結構的超支化聚合物;
所述流變改性劑由第一改性二氧化硅以及第二改性二氧化硅按照質量比(1~3):1復配得到,其兩者的制備方法如下:
(a)二氧化硅表面改性:將氣相法二氧化硅分散在水溶液中,形成并在水溶液中加入等質量的硅烷偶聯劑KH-570,30~50℃下攪拌反應0.5~1.5h后,過濾水洗烘干,得到硅烷改性二氧化硅;
(b)第一改性二氧化硅制備:將硅烷改性二氧化硅分散于水中,加入丙烯酰胺以及過硫酸鉀,攪拌條件下升高溫度至85~95℃,反應0.5~1.5h后,降至室溫,然后在攪拌條件下將反應液滴加至甲醇中,過濾得濾渣,烘干研磨后得到第一改性二氧化硅;
(c)第二改性二氧化硅制備:將硅烷改性二氧化硅分散于水中,加入丙烯酸以及過硫酸鉀,攪拌條件下升高溫度至85~95℃,反應0.5~1.5h后,降至室溫后加入氫氧化鈉中和,然后在攪拌條件下將反應液滴加至甲醇中,過濾得濾渣,烘干研磨后得到第二改性二氧化硅。
2.根據權利要求1所述的一種零VOC排放的POS機用色漿,其特征在于,所述零VOC表面活性劑的制備方法如下:
(S.1)將甲基氫環硅氧烷、乙烯基三甲氧基硅烷、有機溶劑以及鉑催化劑加入到反應釜中,發生硅氫加成反應,得到有機硅核心A;
(S.2)將有機硅核心A、二甲基氯硅烷、有機溶劑以及催化劑氯化鐵加入到反應釜中,得到端基為硅氫結構的有機硅核心B;
(S.3)將有機硅核心B、2-丁烯-1,4-二醇、有機溶劑以及鉑催化劑加入到反應釜中,再次發生硅氫加成反應,得到多元醇;
(S.4)將得到的有機硅多元醇與五氧化二磷混合,升溫攪拌反應一定時間后,加入堿液中和,然后經過萃取提純,得到零VOC表面活性劑。
3.根據權利要求2所述的一種零VOC排放的POS機用色漿,其特征在于,所述步驟(S.1)中甲基氫環硅氧烷中硅氧鏈節的數量為3~8,乙烯基三甲氧基硅烷與甲基氫環硅氧烷中的硅氫基團的摩爾比為(1~1.2):1,硅氫加成反應溫度在75~90℃之間,反應時間1~5h。
4.根據權利要求2所述的一種零VOC排放的POS機用色漿,其特征在于,所述步驟(S.2)中二甲基氯硅烷的摩爾量為有機硅核心A中烷氧基摩爾量的1~1.5倍,反應溫度為40~60℃,反應時間5~8h。
5.根據權利要求2所述的一種零VOC排放的POS機用色漿,其特征在于,所述步驟(S.3)2-丁烯-1,4-二醇的摩爾量為有機硅核心B中硅氫鍵的摩爾量的1~1.5倍,硅氫加成反應溫度在75~90℃之間,反應時間3~5h。
6.根據權利要求2所述的一種零VOC排放的POS機用色漿,其特征在于,所述步驟(S.4)中五氧化二磷的摩爾量為有機硅多元醇中羥基摩爾量的1/4~1/2,反應溫度為65~75℃,攪拌反應時間3~6h。
7.根據權利要求1~6中任意一項所述的一種零VOC排放的POS機用色漿,其特征在于,所述零VOC表面活性劑還經過超臨界二氧化碳處理。
8.根據權利要求7所述的一種零VOC排放的POS機用色漿,其特征在于,所述超臨界二氧化碳處理時的壓力為10~25MPa,溫度為35~45℃,超臨界處理時間為1~5h。
9.根據權利要求1所述的一種零VOC排放的POS機用色漿,其特征在于,
步驟(b)中,硅烷改性二氧化硅、丙烯酰胺以及過硫酸鉀的質量之比為100:(20~30):(1~3);
步驟(c)中,硅烷改性二氧化硅、丙烯酸以及過硫酸鉀的質量之比為100:(20~30):(1~3)。
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