[發明專利]一種高分子分離膜及其復合相分離制備方法、裝置在審
| 申請號: | 202110708612.6 | 申請日: | 2021-06-25 |
| 公開(公告)號: | CN113304626A | 公開(公告)日: | 2021-08-27 |
| 發明(設計)人: | 馬卓;張思強;池立麗;張晶 | 申請(專利權)人: | 北創清源(北京)科技有限公司 |
| 主分類號: | B01D71/34 | 分類號: | B01D71/34;B01D67/00 |
| 代理公司: | 北京力量專利代理事務所(特殊普通合伙) 11504 | 代理人: | 張力 |
| 地址: | 101407 北京市懷柔*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高分子 分離 及其 復合 制備 方法 裝置 | ||
1.一種高分子分離膜的復合相分離制備方法,其特征在于,包括:
S1:取鑄膜液并均勻涂覆在基材上,并在所述基材上形成液膜;
S2:將液膜置入具有穩定溫濕度的環境中5-300s得到半成品膜片;
S3:將半成品膜片置入凝膠槽中浸泡固化得到成品膜片;
S4:取成品膜片并進行后處理得到高分子分離膜。
2.根據權利要求1所述的高分子分離膜的復合相分離制備方法,其特征在于,步驟S2中,所述環境為半封閉環境,所述半封閉環境的穩定溫濕度由具有穩定溫濕度的潔凈空氣提供,所述潔凈空氣的濕度為20-80%RH、溫度為30-90℃。
3.根據權利要求2所述的高分子分離膜的復合相分離制備方法,其特征在于,步驟S2中,先將液膜置入濕度為20~50%RH、溫度為60~90℃的半封閉環境中2-200s,得到反應膜片,再將反應膜片置入濕度為50~80%RH、溫度為30~70℃的半封閉正壓環境中2-200s,得到半成品膜片。
4.根據權利要求3所述的高分子分離膜的復合相分離制備方法,其特征在于,步驟S1中,所述鑄膜液由高分子樹脂、溶劑和添加劑混合脫泡制備而成。
5.根據權利要求4所述的高分子分離膜的復合相分離制備方法,其特征在于,步驟S3中,所述凝膠槽中的液體為水,溫度環境為20~80℃,浸入時間為5-30s。
6.根據權利要求5所述的高分子分離膜的復合相分離制備方法,其特征在于,步驟S6中后處理包括清洗步驟、加保護液步驟和烘干步驟。
7.一種高分子分離膜的復合相分離制備裝置,其特征在于,用于實現權利要求1-6中任一項所述的方法,包括:
收放卷機構,所述收放卷機構包括收卷機、放卷機和轉向輥;所述轉向輥的數量為多個,并設于所述收卷機和所述放卷機之間,用于卷繞并改變所述收卷機和所述放卷機之間膜的傳動方向;
膜加工機構,所述膜加工機構包括涂膜機、控溫控濕器、凝膠槽和后處理組件,所述涂膜機、控溫控濕器、凝膠槽和后處理組件依次設于所述收卷機和放卷機之間,并通過轉向輥控制與膜接觸加工。
8.根據權利要求7所述的高分子分離膜的復合相分離制備裝置,其特征在于,所述后處理組件包括清洗槽、保護液槽和烘干機構,所述清洗槽、保護液槽和烘干機構在膜傳動方向上依次布設,依次用于清洗、加保護液和烘干。
9.根據權利要求8所述的高分子分離膜的復合相分離制備裝置,其特征在于,所述控溫控濕器至少提供一個具有指定濕度、溫度的半封閉環境的反應空間,當所述反應空間的數量多于一個時,所述反應空間依次排列,用于膜片依次通過。
10.一種高分子分離膜,其特征在于,根據權利要求1-5中任意一項所述的復合相分離方法制備得到,用作超濾膜、微濾膜、平板膜、中空纖維膜、或納濾/反滲透的基膜。
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