[發明專利]一種光刻膠及圖案化方法

有效

• 申請號: 202110707464.6
• 申請日: 2021-06-24
• 公開（公告）號: CN113341650B
• 公開（公告）日: 2022-08-02
• 發明（設計）人: 霍建輝;盧克軍;張寧
• 申請（專利權）人: 北京北旭電子材料有限公司;上海彤程電子材料有限公司;彤程新材料集團股份有限公司
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/00
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 唐菲

1.一種光刻膠，其特征在于，包括樹脂材料和感光劑，所述樹脂材料發生去保護反應時能夠產生羧酸和/或酚羥基，所述感光劑包括第一感光化合物和第二感光化合物，所述第一感光化合物的結構如式I所示，所述第二感光化合物如式II所示；

其中，R₁、R₂、R₃和R₄中的至少三者的結構如式III或式IV所示，剩余為氫基；R₅為烷基或芳香基；R₆為烷基、烷氧基或芳香基；

所述樹脂材料為單體共聚物，所述單體共聚物的單體包括第一單體和第二單體中的至少一種，所述第一單體的結構如式V所示，所述第二單體的結構如式VI所示；

其中，R₇為C4～C20的叔烷基；R₈為氫基或C1～C4的烷基；n為1～10的整數。

2.根據權利要求1所述的光刻膠，其特征在于，所述第二感光化合物在所述感光劑中的質量占比為10～20％，所述第一感光化合物在所述感光劑中的質量占比為80～90％。

3.根據權利要求1所述的光刻膠，其特征在于，所述單體共聚物的單體還包括第三單體和第四單體，所述第三單體的結構如式VII所示，所述第四單體的結構如式VIII所示；

其中，R₉為氫基或C1～C4的烷基。

4.根據權利要求3所述的光刻膠，其特征在于，所述第一單體在所述單體共聚物的單體中的質量占比為5～40％，所述第二單體在所述單體共聚物的單體中的質量占比為5～40％。

5.根據權利要求1所述的光刻膠，其特征在于，所述樹脂材料的重均分子量為5000～100000，所述樹脂材料的分子量分布為2～5。

6.根據權利要求1所述的光刻膠，其特征在于，所述樹脂材料的重均分子量為5000～50000。

7.根據權利要求1～6任一項所述的光刻膠，其特征在于，所述樹脂材料和所述感光劑的質量比為100:0.5～10。

8.根據權利要求1所述的光刻膠，其特征在于，所述光刻膠還包括有機堿。

9.根據權利要求8所述的光刻膠，其特征在于，所述有機堿包括含氮化合物。

10.根據權利要求8所述的光刻膠，其特征在于，所述有機堿包括一級脂肪胺、二級脂肪胺、三級脂肪胺、芳香胺、雜環胺、含氮化合物、酰胺衍生物和酰亞胺衍生物中的至少一種。

11.根據權利要求8所述的光刻膠，其特征在于，所述樹脂材料和所述有機堿的質量比為100:0.001～0.05。

12.一種圖案化方法，其特征在于，包括：采用如權利要求1～11任一項所述的光刻膠形成光刻膠層，并采用包括G線、H線和I線的混合光源通過掩模板對所述光刻膠層進行曝光，然后顯影去除所述光刻膠層的曝光部分形成光刻膠圖案。