[發(fā)明專利]一種硅片檢測(cè)裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110706393.8
• 申請(qǐng)日: 2021-06-24
• 公開（公告）號(hào): CN113433135B
• 公開（公告）日: 2023-02-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 盧亞賓;王維;王聚;杜若愚;劉中海;陳淼淼;馬行;程智;韓鑫;顧一鵬;朱江兵;梁坤;牛廣升
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 博眾精工科技股份有限公司
• 主分類號(hào): G01N21/88
• 分類號(hào): G01N21/88
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 郭利娜

本發(fā)明涉及硅片檢測(cè)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種硅片檢測(cè)裝置。其包括：圖像采集件、擋板組件和光源組件。圖像采集件用于采集待檢測(cè)硅片上采集區(qū)域的圖像；擋板組件置于圖像采集件與待檢測(cè)硅片之間，擋板組件包括第一擋板；光源組件包括兩個(gè)光源，其中一個(gè)光源位于第一擋板的第一側(cè)，另一個(gè)光源以及圖像采集件位于第一擋板的第二側(cè)，第一側(cè)與第二側(cè)相背設(shè)置，位于第一側(cè)的光源發(fā)出的光線照射至第一擋板上并能夠通過第一擋板散射至采集區(qū)域內(nèi)，位于第二側(cè)的光源出的光線能夠由第二側(cè)達(dá)到采集區(qū)域內(nèi)。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)了采集到的圖像灰度分布均勻，提升了圖像的對(duì)比度，更易于分析出硅片的缺陷，提高了硅片的檢測(cè)精度。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及硅片檢測(cè)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種硅片檢測(cè)裝置。

背景技術(shù)

光伏領(lǐng)域中，為了保證硅片的產(chǎn)品質(zhì)量，需要對(duì)硅片的缺陷進(jìn)行檢測(cè)。硅片的隱裂就是一種較為隱蔽的未穿透的裂紋，在常規(guī)條件下不可見，其是在粘膠面即將被切透時(shí)，由于晶體硅內(nèi)部熱應(yīng)力及機(jī)械加工中的應(yīng)力等多種原因造成的裂紋，由于該裂紋未穿透，可能位于硅片兩面中的任一面，傳統(tǒng)的檢測(cè)手段就是對(duì)著硅片表面進(jìn)行吹氣，蒸汽快速覆蓋并快速干燥的過程中，裂紋迅速顯示并消失。這樣的檢測(cè)手法存在兩個(gè)明顯的缺陷，批量生產(chǎn)過程中長(zhǎng)期吹氣，容易使檢測(cè)員產(chǎn)生疲勞及口干舌燥的不適感，吹氣還容易對(duì)硅片造成污染。目前通常采用紅外光檢測(cè)硅片的隱裂，通常在待檢測(cè)硅片上垂直設(shè)置擋板，在擋板的一側(cè)傾斜設(shè)置紅外光源，另一側(cè)設(shè)置用于采集圖像的紅外相機(jī)，紅外相機(jī)沿垂直方向進(jìn)行圖像采集，通過硅片的移動(dòng)實(shí)現(xiàn)對(duì)于整個(gè)硅片表面的圖像采集。其中，光源射出的光線傾斜照射至擋板上，再由擋板散射至硅片上，導(dǎo)致遠(yuǎn)離光源即靠近紅外相機(jī)一側(cè)的硅片亮度較低，使得采集到的圖像較暗，由于隱裂在采集的圖像上呈黑色，導(dǎo)致相機(jī)采集到的圖像上的隱裂不能清晰的顯示，使得采集到的圖像上灰度不均勻，對(duì)比度較差，不利于對(duì)采集到的圖像進(jìn)行處理，降低了檢測(cè)精度，也降低了檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性。

于此，亟需一種硅片檢測(cè)裝置用來解決如上提到的問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種硅片檢測(cè)裝置，實(shí)現(xiàn)了采集到的圖像灰度分布均勻，提升了圖像的對(duì)比度，更易于分析出硅片的缺陷，提高了硅片的檢測(cè)精度，提高了檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性。

為達(dá)此目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

一種硅片檢測(cè)裝置，其特征在于，包括：

圖像采集件，用于采集待檢測(cè)硅片上采集區(qū)域的圖像；

擋板組件，置于所述圖像采集件與所述待檢測(cè)硅片之間，所述擋板組件包括第一擋板；

光源組件，包括兩個(gè)光源，其中一個(gè)所述光源位于所述第一擋板的第一側(cè)，另一個(gè)所述光源以及所述中垂線位于所述第一擋板的第二側(cè)，所述第一側(cè)與所述第二側(cè)相背設(shè)置，位于所述第一側(cè)的所述光源發(fā)出的光線傾斜照射至所述第一擋板上并能夠經(jīng)由所述第一擋板散射至所述采集區(qū)域內(nèi)，位于所述第二側(cè)的所述光源發(fā)出的光線能夠由所述第二側(cè)達(dá)到所述采集區(qū)域內(nèi)。

優(yōu)選地，所述擋板組件還包括第二擋板，所述第二擋板位于所述第一擋板的所述第二側(cè)，且所述第一擋板與所述第二擋板置于兩個(gè)所述光源之間，位于所述第二側(cè)的所述光源發(fā)出的光線傾斜照射至所述第二擋板上并能夠經(jīng)由所述第二擋板散射至所述采集區(qū)域內(nèi)，所述第一擋板與所述第二擋板之間設(shè)置有采集間隙，所述圖像采集件能夠通過所述采集間隙采集所述采集區(qū)域的圖像。

優(yōu)選地，所述第一擋板與所述第二擋板平行設(shè)置，且與所述圖像采集件的鏡頭的中垂線平行。

優(yōu)選地，所述第一擋板與所述第二擋板遠(yuǎn)離所述圖像采集件的一端均設(shè)有斜面，所述斜面遠(yuǎn)離所述圖像采集件的一端朝向所述圖像采集件的鏡頭的中垂線傾斜，兩個(gè)所述光源發(fā)出的光線分別對(duì)應(yīng)傾斜照射至兩個(gè)所述斜面上。

優(yōu)選地，所述第一擋板與所述第二擋板朝向所述圖像采集件的一側(cè)均彎折有外延部，所述外延部朝向相背于所述采集間隙的方向傾斜。