[發(fā)明專利]一種X射線管及X射線成像系統(tǒng)

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110704892.3
• 申請(qǐng)日: 2021-06-24
• 公開（公告）號(hào): CN113421811A
• 公開（公告）日: 2021-09-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 賴登先;陳健;王宗寶;陸霽云
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇康眾數(shù)字醫(yī)療科技股份有限公司
• 主分類號(hào): H01J35/14
• 分類號(hào): H01J35/14;H01J35/06;H01J35/12
• 代理公司: 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 32103
• 代理人: 吳芳

本發(fā)明公開了一種X射線管及X射線成像系統(tǒng)，所述X射線管包括陰極和陽(yáng)極，所述陰極包括第一聚焦槽、設(shè)置在第一聚焦槽的底部的第二聚焦槽、部分地設(shè)置在所述第二聚焦槽中的陰極燈絲，所述陽(yáng)極包括散熱件和設(shè)置在散熱件上的陽(yáng)極靶，所述陽(yáng)極靶與所述第一聚焦槽相對(duì)設(shè)置，所述X射線管還具有穿過(guò)所述陽(yáng)極靶的虛擬的聚焦軸，當(dāng)所述X射線管處于工作狀態(tài)時(shí)，所述陰極發(fā)射的電子束沿所述聚焦軸所在的直線向所述陽(yáng)極移動(dòng)，使得所述電子束與所述陽(yáng)極靶發(fā)生碰撞。本發(fā)明提供的X射線管及X射線成像系統(tǒng)無(wú)需減小陰極燈絲即可獲得小焦點(diǎn)，并且為使用更大功率、更大尺寸的陰極燈絲提供了條件。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及醫(yī)療技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種X射線管及X射線成像系統(tǒng)。

背景技術(shù)

X射線成像系統(tǒng)在工業(yè)和醫(yī)療領(lǐng)域中有著越來(lái)越多的應(yīng)用，工業(yè)上可用來(lái)對(duì)材料進(jìn)行無(wú)損檢測(cè)；用于醫(yī)療領(lǐng)域時(shí)，能夠?qū)θ梭w的特定部位進(jìn)行掃描，掃描結(jié)果能夠輔助醫(yī)生作出診斷，甚至往往是重要的診斷依據(jù)，在腦科、骨科、牙科等領(lǐng)域都有重要的作用。

一般用有效焦點(diǎn)的規(guī)格大小來(lái)衡量X射線成像系統(tǒng)的性能。電子撞擊陽(yáng)極靶的面積大小稱為X射線產(chǎn)生時(shí)的實(shí)際焦點(diǎn)，實(shí)際焦點(diǎn)在X射線的主射出方向的投影稱為X射線產(chǎn)生時(shí)的有效焦點(diǎn)，有效焦點(diǎn)(以下簡(jiǎn)稱為焦點(diǎn))的規(guī)格越小，則性能越好。但現(xiàn)有技術(shù)中，得到小焦點(diǎn)比較困難，需要減小陰極燈絲的尺寸；不僅如此，焦點(diǎn)的減小還往往伴隨著一些負(fù)面效果，比如X射線管的功率必須降低，否則會(huì)造成陽(yáng)極局部過(guò)度升溫、縮短X射線管的壽命等后果，甚至損壞X射線管。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問(wèn)題，本發(fā)明提供了一種X射線管及X射線成像系統(tǒng)，能夠不必降低功率而得到更小的焦點(diǎn)，甚至可以用更大的功率得到小焦點(diǎn)。所述技術(shù)方案如下：

本發(fā)明提供了一種X射線管，所述X射線管包括：

陰極，所述陰極包括第一聚焦槽、設(shè)置在第一聚焦槽的底部的第二聚焦槽、部分地設(shè)置在所述第二聚焦槽中的陰極燈絲，所述第一聚焦槽的深度為6.0mm～30mm，所述陰極燈絲凸出于所述第一聚焦槽的底面的部分的高度為0.03mm～0.40mm；

陽(yáng)極，所述陽(yáng)極包括散熱件和設(shè)置在散熱件上的陽(yáng)極靶，所述陽(yáng)極靶與所述第一聚焦槽相對(duì)設(shè)置，所述X射線管還具有穿過(guò)所述陽(yáng)極靶的聚焦軸，所述陽(yáng)極靶與所述聚焦軸所在的直線之間的夾角為0°～90°；

所述X射線管具有工作狀態(tài)，當(dāng)所述X射線管處于工作狀態(tài)時(shí)，所述陰極發(fā)射的電子束沿所述聚焦軸所在的直線向所述陽(yáng)極移動(dòng)，使得所述電子束與所述陽(yáng)極靶發(fā)生碰撞。

進(jìn)一步地，所述X射線管還具有與所述聚焦軸垂直的虛擬平面，所述第二聚焦槽在所述虛擬平面上的投影部分或全部地與所述第一聚焦槽的底面在所述虛擬平面上的投影重合。

進(jìn)一步地：

所述第一聚焦槽的底面直徑為5.0～50mm；

和/或，所述陰極燈絲的有效長(zhǎng)度為3.0mm～12.0mm；

和/或，所述第二聚焦槽的寬度為1.0mm～5.0mm；

和/或，所述陰極到所述陽(yáng)極靶的距離為8.0mm～30.0mm。

進(jìn)一步地：

所述第一聚焦槽的深度為16.0mm～17.5mm；

和/或，所述陰極燈絲凸出于所述第一聚焦槽的底面的部分的高度為0.08mm～0.12mm；

和/或，所述第一聚焦槽的底面直徑為18.5mm～19.5mm；

和/或，所述陰極燈絲的有效長(zhǎng)度為5.5mm～6.5mm；

和/或，所述第二聚焦槽的寬度為2.3mm～2.5mm；