[發明專利]一種依次斷開導體和熔體的激勵熔斷器在審
| 申請號: | 202110702549.5 | 申請日: | 2021-06-24 |
| 公開(公告)號: | CN113205984A | 公開(公告)日: | 2021-08-03 |
| 發明(設計)人: | 戈西斌;段少波;石曉光;陳蓉蓉;王欣;王偉 | 申請(專利權)人: | 西安中熔電氣股份有限公司 |
| 主分類號: | H01H85/05 | 分類號: | H01H85/05;H01H85/055;H01H85/38;H01H85/175;H01H85/00;H01H71/12 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 付興奇 |
| 地址: | 710000 陜西省西安市高新區錦業路69*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 依次 斷開 導體 激勵 熔斷器 | ||
1.一種依次斷開導體和熔體的激勵熔斷器,包括殼體及殼體中的空腔;其特征在于在殼體及空腔中穿設有至少一根導體,所述導體兩端可與外部電路連接;在所述導體上并聯設置有至少一根熔體;在所述導體一側的空腔中安裝有激勵裝置和打斷裝置;所述激勵裝置可接收外部激勵信號動作,驅動所述打斷裝置依次在所述導體和所述熔體上分別形成至少一個斷口;所述導體上至少一個斷口與所述熔體并聯。
2.根據權利要求1所述的依次斷開導體和熔體的激勵熔斷器,其特征在于在所述殼體上設置有封閉的填充有滅弧介質的滅弧腔室;所述熔體部分或全部位于滅弧介質中。
3.根據權利要求2所述的依次斷開導體和熔體的激勵熔斷器,其特征在于在位于殼體內所述熔體上設置有至少一組施力組件,所述施力組件在所述打斷裝置驅動下斷開熔體形成斷口。
4.根據權利要求3所述的依次斷開導體和熔體的激勵熔斷器,其特征在于所述施力組件設置在位于滅弧介質外部的熔體上;所述施力組件包括至少一組夾持在所述熔體上的夾持組件;所述打斷裝置斷開所述導體后可驅動所述夾持組件以直線或旋轉位移方式斷開所述熔體形成斷口;當以旋轉方式斷開所述熔體時,所述夾持組件的兩端通過旋轉軸固定在所述殼體上。
5.根據權利要求4所述的依次斷開導體和熔體的激勵熔斷器,其特征在于在所述熔體上設置有至少一組夾持組件,在所述夾持組件間形成斷開凹口;所述打斷裝置斷開所述導體后沖擊所述斷開凹口斷開所述熔體。
6.根據權利要求4所述的依次斷開導體和熔體的激勵熔斷器,其特征在于,所述導體具有轉動薄弱處,所述打斷裝置能夠打斷所述導體,所述導體的每一個所述斷開薄弱處都能夠用于形成一個斷口,所述轉動薄弱處設置于所述斷開薄弱處的一側或兩側以形成單開門或者雙開門的推門結構,斷開后的所述導體能夠被所述打斷裝置推開并以所述轉動薄弱處為軸轉動而并不隨著所述打斷裝置一起移動,所述打斷裝置運動的部分從所述導體轉動形成的空隙中通過。
7.根據權利要求6所述的依次斷開導體和熔體的激勵熔斷器,其特征在于,所述導體的轉動薄弱處設置于所述導體的斷開薄弱處的兩側,形成雙開門的推門結構,所述打斷裝置斷開所述導體后,所述打斷裝置的運動部分從所述導體轉動形成的空隙中通過;所述導體通過電流情況下,斷開的兩段所述導體之間形成電弧,所述電弧受到所述打斷裝置的運動部分的作用以及電動力的作用環繞運動部分的頭部,并持續運動和拉長。
8.根據權利要求7所述的依次斷開導體和熔體的激勵熔斷器,其特征在于,所述殼體內設置有滅弧結構,所述滅弧結構位于所述雙開門的推門結構的電弧運動路徑中或附近,對所述導體斷開后的兩部分之間的電弧進行滅弧。
9.根據權利要求4所述的依次斷開導體和熔體的激勵熔斷器,其特征在于,所述打斷裝置包括具有絕緣材料的沖擊端,所述具有絕緣材料的沖擊端能夠在斷開所述導體后與所述殼體形成絕緣墻,所述絕緣墻能夠隔開兩側的斷開后的所述導體。
10.根據權利要求9所述的依次斷開導體和熔體的激勵熔斷器,其特征在于,所述打斷裝置包括熔體沖擊端,所述熔體沖擊端位于所述具有絕緣材料的沖擊端的兩側,所述打斷裝置工作前,所述具有絕緣材料的沖擊端與所述導體的間距小于所述熔體沖擊端與所述熔體的間距;
或者是,所述熔體沖擊端位于所述具有絕緣材料的沖擊端的下方且與所述具有絕緣材料的沖擊端串聯,所述打斷裝置工作前,所述具有絕緣材料的沖擊端與所述導體的間距小于所述熔體沖擊端與所述熔體的間距。
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