[發明專利]基于菲林光刻工藝的透明天線制備方法及透明天線有效
| 申請號: | 202110702327.3 | 申請日: | 2021-06-21 |
| 公開(公告)號: | CN113437504B | 公開(公告)日: | 2023-08-01 |
| 發明(設計)人: | 胡承剛;程晉廣;史浩飛;張恒;邵麗;周萌;王剛 | 申請(專利權)人: | 中國科學院重慶綠色智能技術研究院 |
| 主分類號: | H01Q1/38 | 分類號: | H01Q1/38;H05K3/12 |
| 代理公司: | 北京元本知識產權代理事務所(普通合伙) 11308 | 代理人: | 黎昌莉 |
| 地址: | 400714 *** | 國省代碼: | 重慶;50 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 光刻 工藝 透明 天線 制備 方法 | ||
1.一種基于菲林光刻工藝的透明天線制備方法,其特征在于,按照如下步驟進行透明天線的制備:
S1.低可視透明天線結構的設計;
S2.繪制低可視透明天線結構圖形,將低可視透明天線結構圖形出到菲林片上制作菲林掩膜版;
S3.對透明導電膜和感光干膜進行預定尺寸的裁切以及前處理;
S4.透明導電膜表面貼上感光干膜,將貼好感光干膜的導電薄膜曝光;貼好感光干膜的透明導電膜置于曝光區的平面上,然后蓋上制作好的菲林掩膜版并壓平,使菲林掩膜版與感光干膜充分接觸,采用紙膠帶將菲林掩膜版固定于曝光區平面上,然后打開曝光機進行曝光,曝光過程中光垂直打到菲林掩膜版上;
S5.顯影露出透明天線的結構圖案;
S6.通過刻蝕液刻蝕出透明天線的形狀;
S7.去除透明導電膜表面的感光干膜并清洗烘干,得到所需透明導電膜;
S8.將得到的透明導電膜貼在透明板材上;
S9.對透明板材進行裁切,得到所需透明天線;
S10.將透明天線接上射頻接頭或射頻線纜;
所述步驟S5中采用碳酸鈉溶液對感光干膜進行顯影,碳酸鈉的質量分數為0.8-1.2%,所述步驟S5中顯影液溫度為32-35℃;
所述步驟S7中用氫氧化鈉溶液對感光干膜進行去膜,所述氫氧化鈉溶液的質量分數為2-5%,所述氫氧化鈉溶液溫度為50-55℃;
所述透明導電膜表面貼上感光干膜包括:
采用熱壓粘合的方式將感光干膜貼到透明導電膜上,熱壓粘合的條件為,熱壓輥溫度為80-110℃,壓合時壓力3-5kg/cm2;所述感光干膜具有三層結構,分別為PE層、光刻膠層、PET層將撕掉PE層的感光干膜放到透明導電膜上送進熱壓輥,拉住感光干膜后端,使其平穩進入熱壓輥,其中感光干膜前端要置于透明導電膜前端后0.5-1cm以防止透明導電膜和感光干膜卷進熱壓輥。
2.根據權利要求1所述的基于菲林光刻工藝的透明天線制備方法,其特征在于,所述步驟S2中繪制低可視透明天線圖形結構的最細線條寬度不超過10μm。
3.根據權利要求1所述的基于菲林光刻工藝的透明天線制備方法,其特征在于,所述步驟S3中透明導電膜為透明ITO薄膜、透明石墨烯薄膜、透明金屬網格薄膜、透明銀納米線薄膜中的一種。
4.根據權利要求1所述的基于菲林光刻工藝的透明天線制備方法,其特征在于,所述步驟S4中曝光使用的光源為紫外光,波長范圍為365-420nm。
5.根據權利要求1所述的基于菲林光刻工藝的透明天線制備方法,其特征在于,所述步驟S6中采用刻蝕溶液對透明導電膜進行刻蝕,刻蝕溶液根據透明導電薄膜的導電材質進行選型。
6.根據權利要求1所述的基于菲林光刻工藝的透明天線制備方法,其特征在于,所述步驟S3-S8在黃光區下完成。
7.采用如權利要求1~6任一項所述的方法制備得到的透明天線。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院重慶綠色智能技術研究院,未經中國科學院重慶綠色智能技術研究院許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110702327.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





