[發(fā)明專利]一種三層梯度GIS/GIL支撐絕緣子的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110701103.0 | 申請日: | 2021-06-23 |
| 公開(公告)號: | CN113284684B | 公開(公告)日: | 2022-04-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王超;張冠軍;李文棟;尹昊陽;楊雄;張宇程 | 申請(專利權(quán))人: | 西安交通大學(xué) |
| 主分類號: | B29C69/00 | 分類號: | B29C69/00;B29C64/106;B29C64/176;B29C64/188;B29C39/02;B29C39/10;B29C39/42;B29C39/44;H01B19/00;B33Y10/00;B33Y50/02;B29K63/00;B29L31/34 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200 | 代理人: | 高博 |
| 地址: | 710049 *** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 三層 梯度 gis gil 支撐 絕緣子 制備 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種三層梯度GIS/GIL支撐絕緣子的制備方法,以降低絕緣子沿面或局部區(qū)域電場強度為優(yōu)化目標(biāo),利用變密度算法求解支撐絕緣子內(nèi)部介電常數(shù)的最優(yōu)空間分布;根據(jù)優(yōu)化結(jié)果,將介電常數(shù)發(fā)生變化區(qū)域分為介電常數(shù)過渡區(qū)域和高介電區(qū)域,并將介電常數(shù)過渡區(qū)域的結(jié)合輪廓提取出來,隨后利用光固化3D打印生成帶有支撐和樹脂澆注口中空介電常數(shù)過渡區(qū)域;采用高介電填料/聚合物共混的方式制備可熱固化的高介電復(fù)合材料,隨后將高介電復(fù)合材料倒入介電常數(shù)過渡區(qū)域,并整體放入金屬模具中予以固定;采用低介電填料/聚合物共混的方式制備可熱固化的高介電復(fù)合材料,隨后倒入金屬模具中,真空中固化完成后即可得到三層梯度GIS/GIL支撐絕緣子。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于高電壓電力設(shè)備制造技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種三層梯度GIS/GIL支撐絕緣子的制備方法。
背景技術(shù)
氣體絕緣組合電器(Gas Insulated Switchgear,GIS)因其占地面積小,運行環(huán)境穩(wěn)定等優(yōu)點,廣泛應(yīng)用于超、特高壓變電站中。而氣體絕緣管道輸電(Gas InsulatedTransmission Line,GIL)作為一種新型的先進(jìn)輸電方式,具有輸送容量大、傳輸損耗小、安全性高等優(yōu)點,常作為架空線路的替代方案,應(yīng)用于特殊的輸電環(huán)境中。
在GIS/GIL電力設(shè)備中,支撐絕緣子起到了支撐金屬導(dǎo)桿、隔離電位、氣室密封隔氣等作用。而當(dāng)其結(jié)構(gòu)設(shè)計不合理或表面存在氣泡、金屬微粒等缺陷時,SF6氣體在均勻及稍不均勻電場中優(yōu)異的絕緣性能會因局部電場的畸變而迅速劣化,誘發(fā)沿面閃絡(luò)。傳統(tǒng)改善電場分布的方法主要為絕緣子/金屬電極結(jié)構(gòu)優(yōu)化設(shè)計。如在高壓側(cè)加裝金屬屏蔽罩優(yōu)化盆體頭部電場;設(shè)計合理的絕緣子中心嵌件結(jié)構(gòu);罐體法蘭處設(shè)有“R”弧形金屬屏蔽以及絕緣內(nèi)嵌金屬屏蔽內(nèi)環(huán)降低盆體根部電場。然而,上述方法使得結(jié)構(gòu)復(fù)雜度上升,制造難度增加,也常會帶來附生問題。例如,現(xiàn)有GIS設(shè)備在罐體制造過程中,往往在接地法蘭處設(shè)置“R”弧金屬屏蔽,由于特殊的形狀設(shè)計,往往需焊接后進(jìn)行人工打磨,費時費力,且打磨不當(dāng)容易形成金屬尖端,引發(fā)局部放電。金屬屏蔽內(nèi)環(huán)的存在可在一定程度上均化法蘭處電場,但一方面優(yōu)化效果有限,另一方面,易造成絕緣子出現(xiàn)開裂等現(xiàn)象,劣化盆體的機械性能。近年來,通過材料介電分布優(yōu)化主動調(diào)控電場分布的方法逐漸成為絕緣結(jié)構(gòu)設(shè)計制造領(lǐng)域的研究熱點。大量的數(shù)值模擬結(jié)果表明,通過疊層優(yōu)化、拓?fù)鋬?yōu)化等數(shù)值模擬手段構(gòu)建介電參數(shù)梯度分布,可以大幅降低絕緣系統(tǒng)最大電場,均化沿面電場分布?;诓牧咸匦哉{(diào)整改善電場分布突破了以往形狀優(yōu)化設(shè)計的局限性,為解決高電壓等級GIS小型化提供了新思路。
然而,目前的梯度絕緣子缺乏行之有效的快速制造方案,疊層以及離心方法可控性差,同時成型尺寸受限,采用3D打印技術(shù)可在一定程度上避免上述問題,但僅靠3D打印完成絕緣子制造加工時間長,且材料熱膨脹系數(shù)等力學(xué)/熱學(xué)特性難以與傳統(tǒng)真空澆注環(huán)氧樹脂相匹配。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于針對上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足,提供一種三層梯度GIS/GIL支撐絕緣子的制備方法,實現(xiàn)絕緣子制備效率和電場控制效果的大幅提高。
本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
一種三層梯度GIS/GIL支撐絕緣子的制備方法,包括以下步驟:
將支撐絕緣子劃分為光固化介電過渡區(qū)域、熱固化高介電區(qū)域以及熱固化低介電區(qū)域;將絕緣子離散化,確定約束條件,尋找支撐絕緣子內(nèi)部介電常數(shù)最優(yōu)空間分布,根據(jù)最優(yōu)空間分布結(jié)果劃分介電常數(shù)過渡區(qū)域和高介電區(qū)域,生成中空的三維模型,通過光固化3D打印生成中空且?guī)в兄魏蜆渲瑵沧⒖诘墓夤袒殡娺^渡區(qū)域;然后采用真空澆注方式將摻有高介電填料的熱固化環(huán)氧樹脂復(fù)合漿料倒入光固化介電過渡區(qū)域內(nèi),再將光固化介電過渡區(qū)域放入金屬模具中固定;再采用真空澆注方式將摻有低介電填料的熱固化環(huán)氧樹脂復(fù)合漿料倒入金屬模具中制成熱固化低介電區(qū)域;最后經(jīng)真空熱固化處理得到三層梯度GIS/GIL支撐絕緣子。
具體的,制備光固化介電過渡區(qū)域具體為:
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