[發(fā)明專利]一種自適應(yīng)統(tǒng)計(jì)模型訓(xùn)練方法、焊點(diǎn)缺陷檢測方法及系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110698845.2 | 申請(qǐng)日: | 2021-06-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113378957B | 公開(公告)日: | 2023-04-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蔡念;莫卓錕;肖盟;黃欽豪;鄧宇宏;陳梅云;王晗 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣東工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G06V10/74 | 分類號(hào): | G06V10/74;G06V10/778;G06V10/774 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 韓靜粉 |
| 地址: | 510060 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 自適應(yīng) 統(tǒng)計(jì) 模型 訓(xùn)練 方法 點(diǎn)缺陷 檢測 系統(tǒng) | ||
1.一種自適應(yīng)統(tǒng)計(jì)模型訓(xùn)練方法,其特征在于,所述方法包括:
從樣本訓(xùn)練集中選取IC元件焊點(diǎn)樣本;
將所述IC元件焊點(diǎn)樣本與初始化后的自適應(yīng)統(tǒng)計(jì)模型中的模板進(jìn)行匹配,并判斷是否匹配成功;
若是,則進(jìn)行模板重要性累積,得到重要性累積值,以及更新模板重要性;若否,則直接更新所述模板重要性;
將所述重要性累積值與累積閾值進(jìn)行比較,判斷所述重要性累積值是否小于所述累積閾值;
若否,則更新模板數(shù)量和鄰域模板重要性;若是,則判斷已匹配的模板數(shù)量是否大于所述自適應(yīng)統(tǒng)計(jì)模型中的模板總數(shù)量;
若否,則返回執(zhí)行所述將所述IC元件焊點(diǎn)樣本與初始化后的自適應(yīng)統(tǒng)計(jì)模型中的模板進(jìn)行匹配,并判斷是否匹配成功的步驟;若是,則更新模板數(shù)量和鄰域模板重要性;
對(duì)匹配距離閾值、更新概率、最小重要性模板、頻率分布圖以及缺陷度閾值進(jìn)行更新;
判斷已匹配的樣本數(shù)量是否大于所述樣本訓(xùn)練集中的樣本總數(shù)量;
若否,則返回執(zhí)行從樣本訓(xùn)練集中選取IC元件焊點(diǎn)樣本的步驟;若是,則訓(xùn)練完畢,獲得訓(xùn)練后的自適應(yīng)統(tǒng)計(jì)模型;
自適應(yīng)統(tǒng)計(jì)模型的基本形式由以下公式給出:
M(x,y)={m1(x,y),m2(x,y),...,mK(x,y)},k=1,2,...,K;
式中,(x,y)為像素點(diǎn)坐標(biāo),mk為模板,K為模板數(shù)量;
模板公式如下:
式中,為IC焊點(diǎn)樣本像素值,為該樣本的重要性值;
模板重要性公式如下:
式中,為模板被匹配成功的次數(shù),為模板在模型訓(xùn)練中進(jìn)入潛在缺陷檢測的次數(shù);
更新模板數(shù)量時(shí)依據(jù)的模板數(shù)量自適應(yīng)公式如下:
式中,n為IC焊點(diǎn)樣本訓(xùn)練集的樣本索引,n+1為下一個(gè)樣本索引,N為IC焊點(diǎn)樣本訓(xùn)練集樣本數(shù)量,為IC焊點(diǎn)樣本訓(xùn)練集截止當(dāng)前樣本索引與所有模板匹配成功的最大距離的均值,用公式表示如下:
qk(x,y)為模板與IC焊點(diǎn)樣本進(jìn)行匹配時(shí)的匹配公式;
式中,R(x,y)為匹配距離閾值,每一個(gè)像素點(diǎn)有著IC焊點(diǎn)樣本集自適應(yīng)獲得的距離閾值,對(duì)進(jìn)行了匹配的結(jié)果進(jìn)行累積,與潛在缺陷閾值比對(duì)獲得潛在缺陷檢測結(jié)果,公式如下:
式中,0為沒有潛在缺陷,1為有潛在缺陷,W(x,y)為潛在缺陷閾值,每一個(gè)像素點(diǎn)有著基于模型自適應(yīng)獲得的潛在缺陷閾值;W(x,y)的公式如下:
更新匹配距離閾值時(shí)依據(jù)的匹配閾值自適應(yīng)公式如下:
式中,為IC焊點(diǎn)樣本訓(xùn)練集截止當(dāng)前樣本索引與所有模板匹配成功的最小距離的均值,step(x,y)為步長;公式如下:
用單個(gè)IC焊點(diǎn)樣本初始化步長公式如下:
式中,Kmax為歸一化值,含義為所有像素點(diǎn)中IC焊點(diǎn)模板數(shù)量最大值;鄰域模板重要性的更新在潛在缺陷檢測進(jìn)程中進(jìn)行,當(dāng)進(jìn)入檢測進(jìn)程時(shí)所有模板加1,為模板在模型訓(xùn)練中進(jìn)入潛在缺陷檢測的次數(shù),若IC焊點(diǎn)樣本與模板匹配成功則加1,為模板被匹配成功的次數(shù),否則不變;
加入更新最小重要性模板機(jī)制,該機(jī)制以1/P(x,y)的概率將IC焊點(diǎn)樣本替換模型中的最小重要性模板,新加入的模板像素值為當(dāng)前的IC焊點(diǎn)像素值,重要性值中和均為1;更新概率分母P(x,y)通過自適應(yīng)獲得,公式如下:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自適應(yīng)統(tǒng)計(jì)模型訓(xùn)練方法,其特征在于,所述樣本訓(xùn)練集中的IC元件焊點(diǎn)樣本為合格樣本。
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