[發明專利]一種高純度錫酸鎘粉體及其制備方法有效
| 申請號: | 202110698372.6 | 申請日: | 2021-06-23 |
| 公開(公告)號: | CN113371754B | 公開(公告)日: | 2022-06-10 |
| 發明(設計)人: | 張君 | 申請(專利權)人: | 石久光學科技發展(北京)有限公司 |
| 主分類號: | C01G19/00 | 分類號: | C01G19/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 北京八月瓜知識產權代理有限公司 11543 | 代理人: | 張峰 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 純度 錫酸鎘粉體 及其 制備 方法 | ||
本發明涉及光伏發電半導體導電粉體領域,尤其是涉及一種高純度錫酸鎘粉體及其制備方法。包括以下步驟:將氫氧化鎘粉體、氧化亞錫粉體與草酸溶液混合,升溫干燥,有草酸鎘、草酸錫生成;然后裝入反應釜中,真空條件下升溫,有錫酸鎘和亞錫酸鎘生成,草酸與氫氧化鎘反應生成草酸鎘,通入氧氣繼續升溫,草酸鎘分解放熱,繼續有錫酸鎘和亞錫酸鎘生成,亞錫酸鎘再與氧氣反應變為錫酸鎘,冷卻,得到錫酸鎘粉體。本發明能夠降低反應溫度,對環境無污染,且反應完全,生成的錫酸鎘顏色均勻,單相率生成高,沒有結塊問題,具有優異的導電性能,得到理想的單相微米級或納米級錫酸鎘粉末。
技術領域
本發明涉及光伏發電半導體導電粉體領域,尤其是涉及一種高純度錫酸鎘粉體及其制備方法。
背景技術
目前現有技術中生產錫酸鎘粉末為在1100℃以上高溫進行反應,低于 1000℃則無法實現。具體為二氧化錫和氧化鎘粉混合后,再在1100℃以上進行高溫化合的方法,而氧化鎘在950℃時候就開始揮發,這就要求必須有足夠的氧化鎘在大量揮發前完成錫酸鎘的合成,由于溫度較高和氧化鎘揮發的不可控,從而導致反應的不完全,使得最終生成的錫酸鎘出現顏色不均勻、單相率生成低和結塊的問題,很難得到理想的單相微米級錫酸鎘粉末。這種方法很難得到均勻的單相化合物,并且由于反應溫度很高會導致氧化鎘的揮發,對環境造成污染,并且導致錫酸鎘中鎘元素的缺失,導致該化合物的不均勻性,從而影響導電性。
發明內容
本發明的目的在于提供一種高純度錫酸鎘粉體的制備方法,能夠降低反應溫度,實現較低溫度下反應制備錫酸鎘粉體,對環境無污染,且反應完全,生成的錫酸鎘顏色均勻,單相率生成高,沒有結塊問題,具有優異的導電性能,得到理想的單相微米級或納米級錫酸鎘粉末;本發明還提供一種由所述制備方法制備得到的高純度錫酸鎘粉體。
本發明所述的高純度錫酸鎘粉體的制備方法,包括以下步驟:包括以下步驟:將氫氧化鎘粉體、氧化亞錫粉體與草酸混合,升溫,有草酸鎘、草酸錫生成;然后裝入反應釜中,真空條件下升溫,有錫酸鎘和亞錫酸鎘生成,草酸與氫氧化鎘反應生成草酸鎘,通入氧氣繼續升溫,草酸鎘分解放熱,繼續有錫酸鎘和亞錫酸鎘生成,亞錫酸鎘再與氧氣反應變為錫酸鎘,冷卻,得到錫酸鎘粉體。
采用本發明所述的方法,能夠降低傳統的熱反應溫度,采用本發明所述的方法,升溫反應的最高溫度在900℃,使得參與反應的化合物不會揮發,防止高溫下氧化鎘揮發對環境造成的污染,同時此溫度又不會使錫酸鎘達到結塊的程度,能夠保持產品錫酸鎘粉體的粒徑;由于在此溫度下氧化鎘沒有揮發,避免了現有技術中由于溫度較高和氧化鎘揮發的不可控,從而導致反應的不完全,使得最終生成的錫酸鎘出現顏色不均勻、單相率生成低和結塊的問題,本發明得到均勻的微米級或納米級單相錫酸鎘粉末,顏色均勻、沒有結塊問題,具有優異的導電性能。在制備過程中,沒有任何摻雜和多余材料的介入,合成的粉體純度也不會受到外界影響,因此可以的保證粉體的純度。
優選地,草酸占氫氧化鎘粉體、氧化亞錫粉體和草酸三者總質量的 10%-15%。
優選地,將氫氧化鎘粉體、氧化亞錫粉體與草酸溶液混合,升溫至 90-130℃進行干燥,有草酸鎘、草酸錫生成;草酸溶液為草酸水溶液或草酸乙醇溶液。草酸溶液以草酸水溶液或草酸乙醇溶液的形式加入,使氫氧化鎘粉體、氧化亞錫粉體與草酸混合更均勻,然后升溫至90-130℃進行干燥,水或乙醇被蒸發,同時草酸處于半熔融狀態,從而使氧化亞錫與氫氧化鎘和草酸發生固相反應,有少量的草酸鎘、草酸錫生成。更優選地,在不銹鋼真空箱內在110-122℃下充分干燥,最佳溫度為120℃。
優選地,真空條件下升溫為:抽真空,升溫55-65min至340-360℃,并保溫110-130min,在此升溫條件下,反應溫和充分,如果升溫速率過快,有爆炸風險。更優選地,升溫60min至350℃,并保溫120min,此反應條件最佳。
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