[發明專利]檢查裝置及其檢查方法在審
| 申請號： | 202110697365.4 | 申請日： | 2019-03-19 |
| 公開（公告）號： | CN113432542A | 公開（公告）日： | 2021-09-24 |
| 發明（設計）人： | 本脇淑雄 | 申請（專利權）人： | 發那科株式會社 |
| 主分類號： | G01B11/06 | 分類號： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 上海華誠知識產權代理有限公司 31300 | 代理人： | 劉煜 |
| 地址： | 日本國山梨縣南都留*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 檢查 裝置 及其 方法 | ||
1.一種檢查裝置，其對具有基板和涂層的檢查對象物進行檢查，所述涂層形成在所述基板的表面上，所述檢查裝置的特征在于，具備：
多個發光部，它們對所述涂層照射截面為環形的光；
拍攝部，其拍攝所述涂層所反射的反射光；
計數部，其根據所述拍攝部所拍攝到的圖像，對圓形或橢圓的光像的每單位面積的個數進行計數；以及
厚度判定部，其基于所述計數部所計數到的所述圓形或橢圓的光像的個數，判定所述涂層的厚度的優劣。
2.根據權利要求1所述的檢查裝置，其特征在于，
所述計數部對與標準像的類似度成為規定的類似度閾值以上的所述圓形或橢圓的光像的每單位面積的個數進行計數。
3.根據權利要求1所述的檢查裝置，其特征在于，
所述厚度判定部在所述計數部所計數到的所述圓形或橢圓的光像的個數為閾值以上的情況下判定所述涂層的厚度為良好，在所述計數部所計數到的所述圓形或橢圓的光像的個數低于所述閾值的情況下，判定所述涂層的厚度為不良。
4.一種檢查方法，其為對具有基板和涂層的檢查對象物進行檢查的檢查裝置的檢查方法，所述涂層形成在所述基板的表面上，所述檢查方法的特征在于，包括：
照射步驟，從多個發光部對所述涂層照射截面為環形的光；
拍攝步驟，拍攝所述涂層所反射的反射光；
計數步驟，根據在所述拍攝步驟中拍攝到的圖像，對圓形或橢圓的光像的每單位面積的個數進行計數；以及
厚度判定步驟，基于在所述計數步驟中計數到的所述圓形或橢圓的光像的個數，判定所述涂層的厚度的優劣。
5.根據權利要求4所述的檢查方法，其特征在于，
在所述計數步驟中，對與標準像的類似度成為規定的類似度閾值以上的所述圓形或橢圓的光像的每單位面積的個數進行計數。
6.根據權利要求4所述的檢查方法，其特征在于，
在所述厚度判定步驟中，在所述計數步驟中計數到的所述圓形或橢圓的光像的個數為閾值以上的情況下，判定所述涂層的厚度為良好，在所述計數步驟中計數到的所述圓形或橢圓的光像的個數低于所述閾值的情況下，判定所述涂層的厚度為不良。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于發那科株式會社，未經發那科株式會社許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110697365.4/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
