[發明專利]電解水生成裝置和電解水生成裝置的清洗方法

在審

• 申請號: 202110695745.4
• 申請日: 2021-06-23
• 公開（公告）號: CN113845181A
• 公開（公告）日: 2021-12-28
• 發明（設計）人: 小玉誠;清水榮
• 申請（專利權）人: 松下知識產權經營株式會社
• 主分類號: C02F1/461
• 分類號: C02F1/461
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

1.一種電解水生成裝置，其中，

該電解水生成裝置具備：

第1電解槽，該第1電解槽包括第1陰極室、第1陽極室以及陽離子交換膜，該陽離子交換膜將所述第1陰極室與所述第1陽極室分隔；

第2電解槽，該第2電解槽包括第2陰極室、第2陽極室以及中性隔膜，該中性隔膜將所述第2陰極室與所述第2陽極室分隔，抑制分子通過，但允許陽離子和陰離子通過；

入水口；

主干輸入流路，其與所述入水口相連；

陰極側輸入流路，其從所述主干輸入流路分支出來，與所述第1陰極室的入口連接；

陽極側輸入流路，其從所述主干輸入流路分支出來，與所述第1陽極室的入口連接；

陰極側轉接流路，其與所述第1陰極室的出口和所述第2陰極室的入口連接；

陽極側轉接流路，其與所述第1陽極室的出口和所述第2陽極室的入口連接；

陰極側噴水流路，其與所述第2陰極室的出口連接；

陽極側排水流路，其與所述第2陽極室的出口連接；

噴水口，其與所述陰極側噴水流路連接；

排水口，其與所述陽極側排水流路連接；

主干旁通流路，其從所述主干輸入流路分支出來；

陰極側旁通流路，其從所述主干旁通流路分支出來，與所述陰極側轉接流路連接；

陽極側旁通流路，其從所述主干旁通流路分支出來，與所述陽極側轉接流路連接；

流路切換閥，其配置于所述主干輸入流路與所述主干旁通流路之間的分支部；

逆清洗排水流路，其與所述分支部和所述陽極側排水流路連接；以及

排水閥，其配置于所述陽極側排水流路的同所述逆清洗排水流路之間的分支部與所述排水口之間的部分，

所述流路切換閥配置為能夠在第1模式和第2模式之間進行切換，

在該第1模式時，所述入水口能夠與所述主干輸入流路連通，且所述入水口能夠與所述主干旁通流路連通，

在該第2模式時，所述排水口能夠與所述主干輸入流路連通，且所述排水口能夠與所述主干旁通流路連通。

2.根據權利要求1所述的電解水生成裝置，其中，

所述流路切換閥被施力構件施力，由此，在未從所述入水口供給水的情況下成為所述第2模式，在從所述入水口供給水的情況下成為所述第1模式。

3.根據權利要求1或2所述的電解水生成裝置，其中，

在所述主干輸入流路和所述主干旁通流路分別配置有電磁閥，

至少在所述第1模式時使所述電磁閥中的任一者開放。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的電解水生成裝置，其中，

在所述陰極側噴水流路的比所述排水口高的位置配置有開放閥。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的電解水生成裝置，其中，

在所述陽極側轉接流路配置有活性炭。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的電解水生成裝置，其中，

在所述第1電解槽的上部設有用于積存水的空間。

7.一種電解水生成裝置的清洗方法，其是權利要求1至6中任一項所述的電解水生成裝置的清洗方法，其中，

該電解水生成裝置的清洗方法具有逆清洗工序，在該逆清洗工序中，在進行了所述第2電解槽的逆清洗之后進行所述第1電解槽的逆清洗。

8.根據權利要求7所述的電解水生成裝置的清洗方法，其中，

所述逆清洗工序具有貯存工序，該貯存工序在進行了所述第1電解槽的逆清洗之后進行，在該貯存工序中，將所述第1電解槽的內部的水貯存一定時間。

9.根據權利要求7或8所述的電解水生成裝置的清洗方法，其中，

在進行所述逆清洗工序時，所述第2陽極室分別與所述陽極側排水流路和所述逆清洗排水流路連通。

10.根據權利要求7至9中任一項所述的電解水生成裝置的清洗方法，其中，

在所述逆清洗工序中使所述排水閥開口。