[發明專利]一種用于MPCVD金剛石的制備裝置

在審

• 申請號: 202110695694.5
• 申請日: 2021-06-23
• 公開（公告）號: CN113416947A
• 公開（公告）日: 2021-09-21
• 發明（設計）人: 劉宏明;任澤陽;李升
• 申請（專利權）人: 浙江鴻芯科技有限公司
• 主分類號: C23C16/54
• 分類號: C23C16/54;C23C16/27;C23C16/02;C23C16/511
• 代理公司: 北京華際知識產權代理有限公司 11676
• 代理人: 黃永蘭

1.一種用于MPCVD金剛石的制備裝置，包括底座(10)，其特征在于：所述底座(10)的底面設置基底物預處理機構，所述基底物預處理機構包括固定桿(23)、弧片一(24)、弧片二(25)、圓環(26)和連桿(27)，所述固定桿(23)為實心圓柱體，固定桿(23)的上端面與底座(10)底面固定連接，所述固定桿(23)和弧片一(24)的均與固定桿(23)的圓周面轉動連接，所述圓環(26)與弧片一(24)的滑動連接，所述連桿(27)與圓環(26)固定連接，弧片一(24)和弧片二(25)的水平截面均為花瓣狀，連桿(27)通過基底物再處理機構與底座(10)活動連接，所述基底物再處理機構包括撥動桿(15)、推動塊(16)、翅片一(19)和轉動槽(22)，所述推動塊(16)與底座(10)滑動鏈接，底座(10)上開設轉動槽(22)，所述撥動桿(15)穿過轉動槽(22)且撥動桿(15)與底座(10)轉動連接，撥動桿(15)位于底座(10)外的一端與翅片一(19)固定連接，撥動桿(15)位于底座(10)內的一端與推動塊(16)嚙合，所述翅片一(19)的水平截面為月牙形，底座(10)上還設置深度調節機構。

2.根據權利要求1所述的一種用于MPCVD金剛石的制備裝置，其特征在于：所述深度調節機構包括豎直頂桿(28)、齒輪(32)和豎板(33)，所述豎板(33)的橫向截面為矩形，豎板(33)中心處開設長方形槽，豎板(33)的內左側壁和內右側壁均開設齒口，所述齒輪(32)位于豎板(33)的長方形槽內且齒輪(32)只有半圈齒牙，所述豎直頂桿(28)與底座(10)底面固定連接，豎直頂桿(28)的底面與豎板(33)的外頂面轉動連接。

3.根據權利要求2所述的一種用于MPCVD金剛石的制備裝置，其特征在于：所述弧片二(25)和弧片一(24)的數量均為六，六個弧片一(24)均與固定桿(23)的側壁轉動連接，六個弧片二(25)均與固定桿(23)的側壁轉動連接，各個弧片二(25)位于各個弧片一(24)的上方，六個弧片一(24)和六個弧片二(25)均在固定桿(23)上等分設置，弧片一(24)和弧片二(25)交錯設置。

4.根據權利要求3所述的一種用于MPCVD金剛石的制備裝置，其特征在于：所述基底物預處理機構還包括翅片二(20)和翅片三(21)，底座(10)的水平截面為兩個弓形組成的共同體，底座(10)的圓周面上開設轉動槽(22)，所述轉動槽(22)的數量為六，其中三個轉動槽(22)位于底座(10)的右半部分圓周面上，位于底座(10)右半部分圓周面上的三個轉動槽(22)靠近底座(10)的后沿，另外三個轉動槽(22)開設在底座(10)的左半部分圓周面上，位于底座(10)左半部分圓周面上的三個轉動槽(22)靠近底座(10)的前沿，所述翅片二(20)和翅片三(21)依次穿過轉動槽(22)且翅片二(20)和翅片三(21)與底座(10)位于底座(10)的同一側，翅片二(20)和翅片三(21)均以上述相同方式與推動塊(16)活動連接。

5.根據權利要求4所述的一種用于MPCVD金剛石的制備裝置，其特征在于：所述所述推動塊(16)的數量為二，兩個推動塊(16)上以上述相同方式設置相同的撥動桿(15)，翅片一(19)、翅片二(20)和翅片三(21)，所述翅片二(20)和翅片三(21)的水平截面均為弓形。

6.根據權利要求5所述的一種用于MPCVD金剛石的制備裝置，其特征在于：所述基底物再處理機構還包括豎管(29)、螺旋槽(30)和滾珠(31)，所述豎管(29)為兩端開口的空心圓管，豎管(29)內壁開設螺旋槽(30)，所述螺旋槽(30)為螺旋狀，所述滾珠(31)與豎直頂桿(28)的側壁固定連接且滾珠(31)位于螺旋槽(30)內，所述連桿(27)與豎管(29)的外圓周面固定連接。