[發明專利]無接觸操控式電磁爐及操作方法和存儲介質

在審

• 申請號: 202110693402.4
• 申請日: 2021-06-22
• 公開（公告）號: CN113324265A
• 公開（公告）日: 2021-08-31
• 發明（設計）人: 夏海波;賈飛;陸志遠;曹峰;王云龍;豆化乾
• 申請（專利權）人: 安徽省東超科技有限公司
• 主分類號: F24C7/08
• 分類號: F24C7/08
• 代理公司: 北京景聞知識產權代理有限公司 11742
• 代理人: 曹雪榮

1.一種無接觸操控式電磁爐，其特征在于，包括：

殼體，殼體上設有加熱臺；

加熱模塊，所述加熱模塊容置在殼體中并能夠對加熱臺上的物體進行加熱；

主控系統，主控系統可以控制加熱模塊開啟或關閉；

光學顯示模組，所述光學顯示模組設置在所述殼體中并與主控系統相連，所述光學顯示模組包括：成像模塊、檢測模塊和控制模塊，所述成像模塊用以在空中形成浮空實像，所述檢測模塊用于檢測用戶對所述浮空實像的操作，并將檢測到的交互信號反饋至所述控制模塊，所述控制模塊根據交互信號生成相應的控制信號并發送至主控系統，所述主控系統根據控制信號控制加熱模塊開啟。

2.根據權利要求1所述的無接觸操控式電磁爐，其特征在于，所述成像模塊包括等效負折射率光學元件及顯示器，所述顯示器設置在所述等效負折射率光學元件的一側，所述顯示器發出的光線經過所述等效負折射率光學元件后，在所述等效負折射率光學元件的另一側形成有與所述顯示器相對的浮空實像。

3.根據權利要求2所述的無接觸操控式電磁爐，其特征在于，所述等效負折射率光學元件包括：第一光波導陣列和第二光波導陣列，所述第一光波導陣列和所述第二光波導陣列在同一平面緊密貼合且正交布置。

4.根據權利要求3所述的無接觸操控式電磁爐，其特征在于，所述第一光波導陣列或所述第二光波導陣列由45°斜向布置的多個平行排列的反射單元組成，所述反射單元的橫截面為矩形，且沿所述反射單元的層疊方向的同一側或兩側面設置有反射膜。

5.根據權利要求4所述的無接觸操控式電磁爐，其特征在于，所述反射單元橫截面寬和長分別為a和b，且滿足：0.1mm≤a≤5mm，0.1mm≤b≤5mm。

6.根據權利要求3所述的無接觸操控式電磁爐，其特征在于，所述等效負折射率光學元件還包括兩個透明基板，所述第一光波導陣列和所述第二光波導陣列設置于兩個所述透明基板之間。

7.根據權利要求6所述的無接觸操控式電磁爐，其特征在于，所述等效負折射率光學元件還包括增透部件和視角控制部件，所述增透部件和所述視角控制部件設置在所述第一光波導陣列和所述第二光波導陣列之間；或

所述增透部件和所述視角控制部件設置在所述透明基板和所述第一光波導陣列之間；或

所述增透部件和所述視角控制部件設置在所述透明基板和所述第二光波導陣列之間。

8.根據權利要求6所述的無接觸操控式電磁爐，其特征在于，所述第一光波導陣列和所述第二光波導陣列之間，所述第一光波導陣列與相鄰的所述透明基板之間，以及所述第二光波導陣列和相鄰的所述透明基板之間均設置有膠粘劑。

9.根據權利要求1所述的無接觸操控式電磁爐，其特征在于，所述光學顯示模組還包括：全反射鏡，所述全反射鏡設置于所述等效負折射率光學元件的一側且與所述顯示器同側設置，以將所述顯示器的發出的光線反射給所述等效負折射率光學元件。

10.根據權利要求2所述的無接觸操控式電磁爐，其特征在于，所述等效負折射率光學元件包括：逆反射器和分束器，所述逆反射器和所述顯示器位于所述分束器的同一側且所述分束器將所述顯示器的光線反射給所述逆反射器，所述分束器透射所述逆反射器的光。

11.一種操作無接觸操控式電磁爐的操控方法，其特征在于，包括：

提供空中浮空實像；

檢測交互操作，獲得交互信息；

根據交互信息，生成控制指令。

12.一種存儲介質，其上存儲有計算機程序，其特征在于，所述計算機程序被處理器執行時實現權利要求11項所述的操作無接觸操控式電磁爐的方法。