[發明專利]一種含氟光敏聚合物及其圖案化光固化涂層的制備方法和應用

在審

• 申請號: 202110692322.7
• 申請日: 2021-06-22
• 公開（公告）號: CN113444199A
• 公開（公告）日: 2021-09-28
• 發明（設計）人: 姜學松;高夏鑫;李甜甜
• 申請（專利權）人: 上海交通大學
• 主分類號: C08F220/24
• 分類號: C08F220/24;C08F212/14;C08F220/14;C08F220/34;C09D4/02;C09D4/06
• 代理公司: 上海恒慧知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31317
• 代理人: 張寧展

1.一種含氟光敏聚合物，其特征在于，包括式(1)，(2)，(3)，(4)所示重復結構單元：

其中：R₁、R₂、R₃、R₄和M分別獨立地選自氫、鹵素、烷基、烷氧基、硝基、氨基、羥基、羧基、腈基、磺酸基、酯基、環烷基、苯基、萘基或雜環式基的1價有機基團；A表示氟原子或者完全取代的碳原子數為1-30的烷基或烷氧基鏈，B表示共引發劑胺分子殘基，D表示可光二聚分子殘基，0X≤100，0Y≤100，0Z≤100，0≤W≤100，3≤X+Y+Z+W400；

所述共引發劑分子殘基B具有式(7)所示結構：

其中，R₇和R₈獨立地選自氫、烷基、烷氧基、羥基、羧基、酯基、環烷基、苯基、萘基或雜環式基；

所述可光二聚分子殘基D選自式(8)所列結構的一種：

其中，X表示S、O或N，且R₉、R₁₀、R₁₁、R₁₂、R₁₃、R₁₄、R₁₅、R₁₆、R₁₇各自獨立的表示氫、C₁-C₁₀直鏈或支鏈烷基、C₁-C₁₀烷氧基、羥基、羧基、C₃-C₁₀環烷基、C₆-C₁₄芳基、C₆-C₁₄烷芳基、C₆-C₁₄芳烷基苯基、雜環，及其衍生物或其組合，并且其中當X表示O時，R₁₁不存在；

所述L₁為或不存在，所述L₂或L₃具有如式(5)所示結構：

其中：R₅為烷基、烷氧基、氨基、酯基、環烷基、苯基、萘基或雜環式基的2價有機基團或者組合；

所述L₂選自式(5)所示結構，或者式(6)所示結構：

其中：R₆為烷基、烷氧基、氨基、酯基、環烷基、苯基、萘基或雜環式基的2價有機基團或者組合。

2.根據權利要求1所述含氟光敏聚合物，其特征在于，所述R₁、R₂、R₃、R₄和M分別獨立地選自氫、鹵素、C₁～C₂₀直鏈或支鏈烷基、C₁～C₂₀烷氧基、C₁～C₂₀酯基、羧基或腈基中任一種；所述R₅為C₁～C₂₀烷基、C₁～C₂₀烷氧基、C₂～C₂₀酯基的2價基團或其組合；所述R₆為C₁～C₂₀直鏈或支鏈烷基、C₁～C₂₀烷氧基、苯基的2價基團或者上述基團的組合。

3.根據權利要求1所述含氟光敏聚合物，其特征在于，所述R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆、R₇、R₈的雜環式基選自呋喃基、噻嗯基、咪唑基、噁唑基或吡啶基或這些芳香族環的氫原子被任意取代基取代的產物。