[發(fā)明專利]一種用于模擬點(diǎn)源光學(xué)目標(biāo)二維振動(dòng)的裝置及方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110691035.4 | 申請(qǐng)日: | 2021-06-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113532811A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-10-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 于鵬亮;饒奇;朱長(zhǎng)林 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 哈爾濱新光光電科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01M11/04 | 分類號(hào): | G01M11/04 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 150028 黑龍江*** | 國(guó)省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 模擬 光學(xué) 目標(biāo) 二維 振動(dòng) 裝置 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種用于模擬點(diǎn)源光學(xué)目標(biāo)二維振動(dòng)的裝置,用于解決現(xiàn)有技術(shù)需要帶動(dòng)整機(jī)運(yùn)動(dòng),難以模擬高頻二維振動(dòng)的缺陷。本發(fā)明的裝置包括:X向平移機(jī)構(gòu);Y向平移機(jī)構(gòu);光闌;控制機(jī)構(gòu);光源;以及光學(xué)成像系統(tǒng);控制機(jī)構(gòu)用于根據(jù)指令控制X向平移機(jī)構(gòu)和Y向平移機(jī)構(gòu)帶動(dòng)所述光闌作二維振動(dòng)。所述光學(xué)成像系統(tǒng)能夠在所述光闌作二維振動(dòng)時(shí)使光源所成的像也發(fā)生二維振動(dòng)。本發(fā)明還包括一種用于模擬點(diǎn)源光學(xué)目標(biāo)二維振動(dòng)的裝置。本發(fā)明的一個(gè)應(yīng)用是對(duì)點(diǎn)源目標(biāo)的高頻振動(dòng)進(jìn)行模擬。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光學(xué)模擬仿真與測(cè)試技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種用于模擬點(diǎn)源光學(xué)目標(biāo)二維振動(dòng)的裝置、方法及系統(tǒng)。
背景技術(shù)
現(xiàn)有的用于模擬點(diǎn)源光學(xué)目標(biāo)二維振動(dòng)的技術(shù)是采用二軸轉(zhuǎn)臺(tái)負(fù)載光學(xué)目標(biāo)模擬器整機(jī)的方法。該現(xiàn)有技術(shù)中二軸轉(zhuǎn)臺(tái)和光學(xué)目標(biāo)模擬器體積、重量均較大,因此該技術(shù)使用和維護(hù)成本高昂,并且很難對(duì)點(diǎn)源光學(xué)目標(biāo)的高頻二維振動(dòng)進(jìn)行模擬。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)目的是解決現(xiàn)有技術(shù)需要帶動(dòng)整機(jī)運(yùn)動(dòng),難以模擬高頻二維振動(dòng)的缺陷。
根據(jù)本發(fā)明的第一方面,提供了一種用于模擬點(diǎn)源光學(xué)目標(biāo)二維振動(dòng)的裝置,包括:X向平移機(jī)構(gòu);Y向平移機(jī)構(gòu);光闌;以及控制機(jī)構(gòu);所述控制機(jī)構(gòu)用于根據(jù)指令控制X向平移機(jī)構(gòu)和Y向平移機(jī)構(gòu)帶動(dòng)所述光闌作二維振動(dòng)。
優(yōu)選地,裝置還包括:光源;以及光學(xué)成像系統(tǒng);所述光學(xué)成像系統(tǒng)能夠在所述光闌作二維振動(dòng)時(shí)使光源所成的像也發(fā)生二維振動(dòng)。
優(yōu)選地,所述光源以及所述光學(xué)成像系統(tǒng)均固定不動(dòng)。
優(yōu)選地,所述X向平移機(jī)構(gòu)和Y向平移機(jī)構(gòu)均由直流電動(dòng)絲杠驅(qū)動(dòng),用于在垂直于光路方向做偏航方向和俯仰方向的振動(dòng)。
優(yōu)選地,本發(fā)明第一方面所述的裝置的載荷重量為0.1公斤,載荷體積為10立方厘米。
優(yōu)選地,所述光闌使用電機(jī)帶動(dòng)齒輪的傳動(dòng)方式。
根據(jù)本發(fā)明的第二方面,提供一種用于模擬點(diǎn)源光學(xué)目標(biāo)二維振動(dòng)的方法,包括:接收指令;根據(jù)所述指令控制X向平移機(jī)構(gòu)和Y向平移機(jī)構(gòu)帶動(dòng)光闌作二維振動(dòng);光源以及光學(xué)成像系統(tǒng)均固定不動(dòng)。
本發(fā)明的有益效果是:降低了光學(xué)目標(biāo)模擬仿真測(cè)試中對(duì)點(diǎn)源目標(biāo)高頻振動(dòng)進(jìn)行模擬的載荷體積與重量,減小了進(jìn)行模擬時(shí)需要的使用和維護(hù)成本,并提高了振動(dòng)頻率的上限閾值。并了解決舊型模擬器在無(wú)轉(zhuǎn)臺(tái)情形無(wú)法模擬目標(biāo)振動(dòng)的問(wèn)題。
通過(guò)以下參照附圖對(duì)本發(fā)明的示例性實(shí)施例的詳細(xì)描述,本發(fā)明的其它特征及其優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得清楚。
附圖說(shuō)明
被結(jié)合在說(shuō)明書(shū)中并構(gòu)成說(shuō)明書(shū)的一部分的附圖示出了本發(fā)明的實(shí)施例,并且連同其說(shuō)明一起用于解釋本發(fā)明的原理。
圖1為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)圖;其中1為X向平移機(jī)構(gòu);2為Y向平移機(jī)構(gòu);3為光闌;
圖2為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例從另一角度觀察的結(jié)構(gòu)圖;
圖3為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的系統(tǒng)原理圖;其中10為本發(fā)明的二維振動(dòng)裝置,20作為光源,30為光學(xué)成像系統(tǒng)。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)在將參照附圖來(lái)詳細(xì)描述本發(fā)明的各種示例性實(shí)施例。應(yīng)注意到:除非另外具體說(shuō)明,否則在這些實(shí)施例中闡述的部件和步驟的相對(duì)布置、數(shù)字表達(dá)式和數(shù)值不限制本發(fā)明的范圍。
以下對(duì)至少一個(gè)示例性實(shí)施例的描述實(shí)際上僅僅是說(shuō)明性的,決不作為對(duì)本發(fā)明及其應(yīng)用或使用的任何限制。
對(duì)于相關(guān)領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的技術(shù)、方法和設(shè)備可能不作詳細(xì)討論,但在適當(dāng)情況下,所述技術(shù)、方法和設(shè)備應(yīng)當(dāng)被視為說(shuō)明書(shū)的一部分。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于哈爾濱新光光電科技股份有限公司,未經(jīng)哈爾濱新光光電科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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- 目標(biāo)跟蹤方法、目標(biāo)跟蹤裝置、目標(biāo)跟蹤設(shè)備
- 目標(biāo)處理方法、目標(biāo)處理裝置、目標(biāo)處理設(shè)備及介質(zhì)
- 目標(biāo)處理方法、目標(biāo)處理裝置、目標(biāo)處理設(shè)備及介質(zhì)
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