[發明專利]一種將旋涂液涂抹基板的新型濾光片制作工藝在審
| 申請號: | 202110691021.2 | 申請日: | 2021-06-22 |
| 公開(公告)號: | CN113307506A | 公開(公告)日: | 2021-08-27 |
| 發明(設計)人: | 張威;周常河;丁自強;謝才林;馬帥 | 申請(專利權)人: | 江蘇星浪光學儀器有限公司 |
| 主分類號: | C03C17/34 | 分類號: | C03C17/34 |
| 代理公司: | 蘇州翔遠專利代理事務所(普通合伙) 32251 | 代理人: | 劉計成 |
| 地址: | 225600 江蘇省揚州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 將旋涂液 涂抹 新型 濾光 制作 工藝 | ||
一種將旋涂液涂抹基板的新型濾光片制作工藝,在藍玻璃鏡片原材料進行鍍膜之前,先在鏡片上涂上旋涂液,再將鏡片放置在轉盤上,利用轉盤帶動鏡片轉動使旋涂液均勻布滿整個鏡片表面,然后再進行后期的鏡片鍍膜工作,旋涂液可以改變鏡片的光譜,從而有效地解決傳統藍玻璃濾光片因UV波長無法管控,中心波長的偏移量較多,從而導致透過段將從可見光區域往紫外偏移,對拍照造成干擾的技術問題,從根本上改善濾光片的產品質量。
技術領域
本發明屬于濾光片制作工藝技術領域,具體涉及一種將旋涂液涂抹基板的新型濾光片制作工藝。
背景技術
傳統藍玻璃濾光片只對IR波長(T=50%處,右邊T50)0度和30度的偏移有效果,通常中心波長的偏移量可以控制在5nm以內,但對UV波長(T=50%處,左邊T50)是無法管控的,中心波長的偏移量達到10nm甚至更多,一旦UV往短波偏移過大,透過段將從可見光區域往紫外偏移,對拍照造成干擾。
因此,有必要設計一種將旋涂液涂抹基板的新型濾光片制作工藝來解決上述技術問題。
發明內容
為克服上述現有技術中的不足,本發明目的在于提供一種將旋涂液涂抹基板的新型濾光片制作工藝。
為實現上述目的及其他相關目的,本發明提供的技術方案是:一種將旋涂液涂抹基板的新型濾光片制作工藝,其包括如下步驟:
步驟一:將藍玻璃鏡片原材料清洗干凈并放置在勻速旋轉的轉盤上;
步驟二:配置旋涂液,并將配置好的旋涂液從上方滴在鏡片上表面中間部位,通過轉盤高速旋轉,使旋涂液從鏡片的中心點向外擴散,直至旋涂液均勻鋪滿整個鏡片表面;
步驟三:將涂完旋涂液的鏡片靜置,使所有的旋涂液與鏡片充分結合;
步驟四:調試鍍膜機至規定參數,再將步驟三中落好的鏡片放在鍍膜機的鍍膜傘上準備鍍膜;
步驟五:用氟化鎂作為鍍膜材料在鏡片的表面鍍第一層膜;
步驟六:用五氧化三鈦與二氧化硅按照規定的比例混合作為鍍膜材料,在第一層膜上繼續鍍制AR膜,完成鏡片正面鍍膜;
步驟七:鏡片上表面鍍膜完成后,將鏡片翻轉至背面朝上放入鍍膜機內繼續鍍膜;
步驟八:重復上述步驟五,用氟化鎂作為鍍膜材料在鏡片的表面鍍第一層膜;
步驟九:用五氧化三鈦與二氧化硅按照規定的比例混合作為鍍膜材料,在第一層膜上繼續鍍制IR膜,完成鏡片反面鍍膜。
優選的,上述步驟四中,鍍膜機調試的參數具體為:抽真空達到1.0 3Pa ~2.03Pa,鍍膜溫度設定100~120℃。
優選的,上述步驟五~步驟九的所有鍍膜過程中,都采用離子輔助鍍膜。
優選的,上述步驟六中鍍制IR膜的層數在39~43層。
優選的,上述步驟九中鍍制AR膜的層數在7~9層。
由于上述技術方案運用,本發明與現有技術相比具有的優點如下:
本方案設計的一種將旋涂液涂抹基板的新型濾光片制作工藝,在藍玻璃鏡片原材料進行鍍膜之前,先在鏡片上涂上旋涂液,再將鏡片放置在轉盤上,利用轉盤帶動鏡片轉動使旋涂液均勻布滿整個鏡片表面,然后再進行后期的鏡片鍍膜工作,旋涂液可以改變鏡片的光譜,從而有效地解決傳統藍玻璃濾光片因UV波長無法管控,中心波長的偏移量較多,從而導致透過段將從可見光區域往紫外偏移,對拍照造成干擾的技術問題,從根本上改善濾光片的產品質量。
附圖說明
圖1為傳統藍玻璃波長曲線圖。
圖2為旋涂藍玻璃波長曲線圖。
具體實施方式
以下由特定的具體實施例說明本發明的實施方式,熟悉此技術的人士可由本說明書所揭露的內容輕易地了解本發明的其他優點及功效。
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