[發明專利]一種濾除雜波的設備外殼及帶有該設備外殼的設備

在審

• 申請號: 202110690861.7
• 申請日: 2021-06-22
• 公開（公告）號: CN113412044A
• 公開（公告）日: 2021-09-17
• 發明（設計）人: 賴秉豊
• 申請（專利權）人: 廈門翔澧工業設計有限公司
• 主分類號: H05K9/00
• 分類號: H05K9/00;H01Q17/00
• 代理公司: 廈門原創專利事務所(普通合伙) 35101
• 代理人: 魏思凡

1.一種濾除雜波的設備外殼，所述設備外殼設置有濾除雜波裝置，所述濾除雜波裝置用于吸收雜訊，所述濾除雜波裝置包含從左到右依次間隙設置的干擾雜訊吸收件、雜訊余波降頻件、低頻雜訊吸收件，其特征在于：

定義工作信號的頻率為f、波長為λ；

所述干擾雜訊吸收件的長度為0.125λ-1.25λ且不為(0.125*N)λ，其中N為1-8的整數，用于吸收工作頻率以外的雜訊，所述干擾雜訊吸收件用于消耗部分所述干擾雜訊并得到雜訊余波；

所述雜訊余波降頻件包含雜訊余波耦合部和雜訊余波消耗部，所述雜訊余波耦合部耦合設置于所述干擾雜訊吸收件的一側，所述雜訊余波耦合部的長度和所述干擾雜訊吸收件的長度相同，所述雜訊余波消耗部的長度大于所述干擾雜訊吸收件的長度，所述雜訊余波耦合部和雜訊余波消耗部的底端通過連接件電性連接，所述雜訊余波降頻件用于耦合所述雜訊余波并降低所述雜訊余波的頻率得到低頻雜訊；

所述低頻雜訊吸收件的長度和所述雜訊余波消耗部的長度相同，所述雜訊余波吸收件用于耦合所述低頻雜訊并消耗所述低頻雜訊。

2.根據權利要求1所述的一種濾除雜波的設備外殼，其特征在于：所述雜訊余波消耗部的長度為0.375λ-1.625λ且不為(0.125*M)λ，其中M為3-8的整數。

3.根據權利要求1所述的一種濾除雜波的設備外殼，其特征在于：所述干擾雜訊吸收件、所述雜訊余波降頻件、所述低頻雜訊吸收件的結構為若干層疊加結構，每一層均包含穿插設置的導電片和氮化硼片。

4.根據權利要求3所述的一種濾除雜波的設備外殼，其特征在于：所述導電片為石墨烯基底或碳基底其中的一種。

5.根據權利要求3所述的一種濾除雜波的設備外殼，其特征在于：所述干擾雜訊吸收件的長度方向、所述雜訊余波降頻件的長度方向、所述低頻雜訊吸收件的長度方向互相平行設置。

6.根據權利要求5所述的一種濾除雜波的設備外殼，其特征在于：所述氮化硼片與所述長度方向相垂直。

7.根據權利要求3所述的一種濾除雜波的設備外殼，其特征在于：所述干擾雜訊吸收件、所述低頻雜訊吸收件底端均設置有接地端。

8.根據權利要求1所述的一種濾除雜波的設備外殼，其特征在于：所述濾除雜波裝置貼設于所述設備外殼。

9.一種電子設備，其特征在于：包含如權利要求1所述設備外殼，所述設備外殼安裝后，所述濾除雜波裝置與電子設備的接地端相連接。