[發(fā)明專利]表面清潔設(shè)備和表面清潔系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110688458.0
• 申請(qǐng)日: 2021-06-21
• 公開（公告）號(hào): CN113303729A
• 公開（公告）日: 2021-08-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐哲;唐成;段飛;鐘亮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京順造科技有限公司
• 主分類號(hào): A47L11/282
• 分類號(hào): A47L11/282;A47L11/40
• 代理公司: 北京庚致知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11807
• 代理人: 李曉輝;李偉波

1.一種表面清潔設(shè)備，其特征在于，包括：

清潔液體存儲(chǔ)部，所述清潔液體存儲(chǔ)部用于存儲(chǔ)清潔液體；

回水組件，所述回水組件與所述清潔液體存儲(chǔ)部連通，以通過所述回水組件向所述清潔液體存儲(chǔ)部?jī)?nèi)提供清潔液體或者將所述清潔液體存儲(chǔ)部?jī)?nèi)的清潔液體排出；以及

充電耦合結(jié)構(gòu)，所述充電耦合結(jié)構(gòu)位于所述表面清潔設(shè)備后部且位于所述回水組件的上方；

其中，所述回水組件包括閥組件和防護(hù)結(jié)構(gòu)，所述防護(hù)結(jié)構(gòu)至少部分地圍繞所述閥組件，且所述防護(hù)結(jié)構(gòu)的最低位置與所述閥組件的最低位置相同，或者低于所述閥組件的最低位置。

2.如權(quán)利要求1所述的表面清潔設(shè)備，其特征在于，所述充電耦合結(jié)構(gòu)鄰近所述回水組件。

3.如權(quán)利要求1所述的表面清潔設(shè)備，其特征在于，還包括：

框架結(jié)構(gòu)，所述防護(hù)結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述框架結(jié)構(gòu)，并位于所述框架結(jié)構(gòu)的下端。

4.如權(quán)利要求3所述的表面清潔設(shè)備，其特征在于，所述防護(hù)結(jié)構(gòu)的壁面沿所述防護(hù)結(jié)構(gòu)的軸線方向形成有固定肋條。

5.如權(quán)利要求3所述的表面清潔設(shè)備，其特征在于，還包括：

導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，所述導(dǎo)向結(jié)構(gòu)鄰近所述充電耦合結(jié)構(gòu)設(shè)置。

6.如權(quán)利要求5所述的表面清潔設(shè)備，其特征在于，所述導(dǎo)向結(jié)構(gòu)為從所述框架結(jié)構(gòu)的表面所形成的凸起結(jié)構(gòu)，或者在所述框架結(jié)構(gòu)上所形成的凹陷結(jié)構(gòu)。

7.如權(quán)利要求1-6之一所述的表面清潔設(shè)備，其特征在于，當(dāng)所述導(dǎo)向結(jié)構(gòu)為凹陷結(jié)構(gòu)時(shí)，所述充電耦合結(jié)構(gòu)位于所述凹陷結(jié)構(gòu)內(nèi)；

和/或，所述凹陷結(jié)構(gòu)包括至少兩個(gè)沿所述框架結(jié)構(gòu)的長(zhǎng)度方向延伸的導(dǎo)槽；

和/或，所述充電耦合結(jié)構(gòu)包括充電彈片；

和/或，所述防護(hù)結(jié)構(gòu)的內(nèi)部形成有容置空間，所述閥組件設(shè)置于所述防護(hù)結(jié)構(gòu)的容置空間內(nèi)；并且所述防護(hù)結(jié)構(gòu)和閥組件之間形成有腔室，所述腔室與所述清潔液體存儲(chǔ)部連通；

和/或，所述防護(hù)結(jié)構(gòu)的上部形成有水管接頭，所述水管接頭與所述腔室連通，以通過將水管接頭連接于清潔液體存儲(chǔ)部的方式，使得腔室與所述清潔液體存儲(chǔ)部連通；

和/或，所述閥組件包括：

閥體，所述閥體固定于所述防護(hù)結(jié)構(gòu)，并且所述閥體的內(nèi)部形成清潔液體流通的管路，所述清潔液體流通的管路與所述腔室連通；

閥桿，所述閥桿可滑動(dòng)地設(shè)置于所述閥體內(nèi)；并使得所述閥桿能夠處于第一位置和第二位置；以及

堵頭，所述堵頭設(shè)置于所述閥桿的一端，并且當(dāng)所述閥桿位于第一位置時(shí)，使得所述閥體的清潔液體流通的管路與所述腔室不連通，并且當(dāng)所述閥桿位于第二位置時(shí)，使得所述閥體的清潔液體流通的管路與所述腔室連通；

和/或，所述閥體的下半部分的外表面形成有至少一個(gè)容置密封圈的環(huán)形凹槽，所述環(huán)形凹槽內(nèi)設(shè)置有密封圈；

和/或，所述閥體的內(nèi)部設(shè)置有導(dǎo)向件，所述導(dǎo)向件與所述閥體的內(nèi)表面間隔預(yù)設(shè)距離；所述導(dǎo)向件形成有中心孔，所述閥桿可滑動(dòng)地設(shè)置于所述導(dǎo)向件的中心孔內(nèi)；

和/或，當(dāng)所述閥桿位于第一位置時(shí)，所述堵頭與所述閥體的內(nèi)壁面密封接觸，以使得所述閥體的清潔液體流通的管路與所述腔室不連通；當(dāng)所述閥桿位于第二位置時(shí)，所述堵頭與所述閥體的內(nèi)壁面間隔一定距離，以使得所述閥體的清潔液體流通的管路與所述腔室不連通；

和/或，所述閥桿的另一端形成有軸肩，彈簧的一端設(shè)置于所述軸肩，另一端設(shè)置于所述導(dǎo)向件，并且所述彈簧處于預(yù)壓縮狀態(tài)，以通過所述彈簧的彈力使得所述閥組件為常閉狀態(tài)。

8.一種表面清潔系統(tǒng)，其特征在于，包括權(quán)利要求1-7之一所述的表面清潔設(shè)備。