[發明專利]用于泡沫浮選的磺化改性劑

有效

• 申請號: 202110688383.6
• 申請日: 2017-08-25
• 公開（公告）號: CN113351374B
• 公開（公告）日: 2023-10-13
• 發明（設計）人: J·劉;K·奧布賴恩;D·N·T·哈伊;P·維亞特爾
• 申請（專利權）人: 埃科萊布美國股份有限公司
• 主分類號: B03D1/012
• 分類號: B03D1/012;B03D1/016;B03D1/02
• 代理公司: 北京世峰知識產權代理有限公司 11713
• 代理人: 王思琪;王建秀

1.一種噴射組合物，其包含：

(i)介質；

(ii)磷酸鹽礦石，其包含磷酸鹽精選礦和脈石；

(iii)捕收劑；和

(iv)磺化聚合物，其包含：

(a)單體殘基，其具有如下結構

以及選自以下的抗衡離子：NH₄⁺、Na⁺、K⁺、伯有機銨、仲有機銨、叔有機銨和季有機銨，

(b)具有如下結構的單體殘基

(c)具有如下結構的單體殘基

其中n是1、2或3，并且抗衡離子選自：NH₄⁺、Na⁺、K⁺、伯有機銨、仲有機銨、叔有機銨和季有機銨，

(d)具有如下結構的單體殘基

其中n是1、2或3，

(e)具有如下結構的單體殘基

(f)單體殘基，其具有如下結構

以及選自以下的抗衡離子：NH₄⁺、Na⁺、K⁺、伯有機銨、仲有機銨、叔有機銨和季有機銨，

(g)具有如下結構的單體殘基

其中R₄是烷基，

(h)具有如下結構的單體殘基

其中R₄是烷基，并且抗衡離子選自：NH₄⁺、Na⁺、K⁺、伯有機銨、仲有機銨、叔有機銨和季有機銨，

(i)具有如下結構的單體殘基

(j)單體殘基，其具有如下結構

以及選自以下的抗衡離子：NH₄⁺、Na⁺、K⁺、伯有機銨、仲有機銨、叔有機銨和季有機銨，或者

(k)其任何組合，

其所述磷酸鹽精選礦包含磷酸鹽。

2.根據權利要求1所述的噴射組合物，其中所述脈石包含硅酸鹽、二氧化硅、碳酸鹽或其任何組合。

3.根據權利要求1所述的噴射組合物，其中所述磺化聚合物的重均分子量為約300g/摩爾至約100,000g/摩爾。

4.根據權利要求1所述的噴射組合物，其中所述磷酸鹽精選礦包含磷灰石。

5.根據權利要求1所述的噴射組合物，所述噴射組合物還包含磷酸。

6.根據權利要求1所述的噴射組合物，所述噴射組合物還包含pH調節劑，其中進一步包含所述pH調節劑的所述噴射組合物的pH為約4至約7。

7.根據權利要求1-6中任一項所述的噴射組合物，其中所述磺化聚合物還包含以下項的殘基：丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酰胺、乙烯醇、馬來酸、馬來酸酯或其任何組合。

8.一種反向泡沫浮選的方法，所述方法包括：

形成噴射組合物，其包含

(i)介質，

(ii)磷酸鹽礦石，其包含磷酸鹽精選礦和脈石，

(iii)捕收劑，和

(iv)磺化聚合物，

噴射所述噴射組合物以產生噴射的組合物，

所述噴射的組合物包含泡沫和噴射的漿料，

其中所述噴射的漿料包含磷酸鹽精選礦的濃縮物，并且所述泡沫包含脈石尾礦；以及

將所述濃縮物的至少一部分與所述噴射的漿料分離。

9.根據權利要求8所述的方法，其中所述磺化聚合物包含以下項的殘基：丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酰胺、乙烯醇、馬來酸、馬來酸酯或其任何組合。

10.根據權利要求8所述的方法，其中所述噴射組合物還包含磷酸。