[發(fā)明專利]電氣設(shè)備缺陷確定方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110688346.5
• 申請(qǐng)日: 2021-06-21
• 公開（公告）號(hào): CN113378818A
• 公開（公告）日: 2021-09-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 全曉方;鄭奇凱;孫上元;陳何成;李順;姚日斌;黃繁朝;劉彬;楊海亮;楊武志
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)南方電網(wǎng)有限責(zé)任公司超高壓輸電公司柳州局
• 主分類號(hào): G06K9/20
• 分類號(hào): G06K9/20;G06K9/32;G06K9/46;G06N3/04;G06N3/08
• 代理公司: 廣州德科知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44381
• 代理人: 蔡麗妮;萬(wàn)振雄

1.一種電氣設(shè)備缺陷確定方法，其特征在于，所述方法包括：

獲取待識(shí)別電氣設(shè)備的第一紅外圖像；

根據(jù)所述第一紅外圖像，獲取所述待識(shí)別電氣設(shè)備的溫度信息；

根據(jù)所述溫度信息，確定所述第一紅外圖像中的溫度異常區(qū)域；

通過(guò)訓(xùn)練好的缺陷確定模型提取所述溫度異常區(qū)域的特征，根據(jù)所述特征生成所述溫度異常區(qū)域?qū)?yīng)的多個(gè)第一掩膜，并確定所述溫度異常區(qū)域中缺陷部件的第一掩膜系數(shù)；

通過(guò)所述缺陷確定模型，根據(jù)所述多個(gè)第一掩膜以及所述第一掩膜系數(shù)生成所述溫度異常區(qū)域的第二掩膜；

通過(guò)所述缺陷確定模型，根據(jù)所述第二掩膜確定所述待識(shí)別電氣設(shè)備的缺陷部件在所述第一紅外圖像中的圖像位置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述缺陷確定模型是通過(guò)訓(xùn)練圖像集進(jìn)行訓(xùn)練得到的，所述訓(xùn)練圖像集包括電氣設(shè)備中各組成部件分別作為缺陷部件時(shí)對(duì)應(yīng)的紅外圖像，所述紅外圖像標(biāo)注有電氣設(shè)備中各組成部件分別作為缺陷部件時(shí)的信息。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在所述通過(guò)所述缺陷確定模型，根據(jù)所述第二掩膜確定所述待識(shí)別電氣設(shè)備的缺陷部件在所述第一紅外圖像中的圖像位置之后，所述方法還包括：

根據(jù)所述圖像位置從所述第一紅外圖像中截取所述缺陷部件對(duì)應(yīng)的第一紅外子圖像；

根據(jù)所述第一紅外子圖像，獲取所述缺陷部件的溫度信息；

將所述第一紅外子圖像以及所述缺陷部件的溫度信息，與數(shù)據(jù)庫(kù)中所述待識(shí)別電氣設(shè)備的各組成部件的第二紅外圖像以及各組成部件的溫度信息分別進(jìn)行比對(duì)，其中，所述第二紅外圖像為所述待識(shí)別電氣設(shè)備的各組成部件處于正常狀態(tài)下的紅外圖像；

根據(jù)比對(duì)的結(jié)果，確定缺陷部件的部件信息。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述缺陷確定模型包括具有多個(gè)卷積模塊的深度殘差網(wǎng)絡(luò)，所述通過(guò)訓(xùn)練好的缺陷確定模型提取所述溫度異常區(qū)域的特征，包括：

通過(guò)所述深度殘差網(wǎng)絡(luò)的多個(gè)卷積模塊對(duì)所述溫度異常區(qū)域進(jìn)行處理，得到多個(gè)輸出尺寸均不相同的第一特征圖；

將輸出尺寸最小的第一特征圖經(jīng)過(guò)卷積層處理，得到第二特征圖；

對(duì)所述第二特征圖進(jìn)行卷積和下采樣操作，得到深層網(wǎng)絡(luò)特征圖；

對(duì)輸出尺寸第二小的第一特征圖進(jìn)行卷積處理，得到第三特征圖；

將所述第二特征圖進(jìn)行放大，并將放大后的第二特征圖與所述第三特征圖進(jìn)行求和，得到淺層網(wǎng)絡(luò)特征圖。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述缺陷確定模型還包括掩膜生成網(wǎng)絡(luò)以及系數(shù)生成網(wǎng)絡(luò)，所述掩膜生成網(wǎng)絡(luò)與所述系數(shù)生成網(wǎng)絡(luò)為并行網(wǎng)絡(luò)；

所述根據(jù)所述特征生成所述溫度異常區(qū)域?qū)?yīng)的多個(gè)第一掩膜，并確定所述溫度異常區(qū)域中缺陷部件的第一掩膜系數(shù)，包括：

將所述淺層網(wǎng)絡(luò)特征圖輸入到所述掩膜生成網(wǎng)絡(luò)，通過(guò)所述掩膜生成網(wǎng)絡(luò)基于所述淺層網(wǎng)絡(luò)特征圖生成所述溫度異常區(qū)域?qū)?yīng)的多個(gè)第一掩膜；

將所述第二特征圖、深層網(wǎng)絡(luò)特征圖和淺層網(wǎng)絡(luò)特征圖共同輸入到所述系數(shù)生成網(wǎng)絡(luò)，通過(guò)所述系數(shù)生成網(wǎng)絡(luò)基于所述第二特征圖、深層網(wǎng)絡(luò)特征圖及淺層網(wǎng)絡(luò)特征圖確定所述溫度異常區(qū)域中缺陷部件的第一掩膜系數(shù)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述通過(guò)所述缺陷確定模型，根據(jù)所述第二掩膜確定所述待識(shí)別電氣設(shè)備的缺陷部件在所述第一紅外圖像中的圖像位置，包括：

通過(guò)所述缺陷確定模型，對(duì)所述溫度異常區(qū)域的第二掩膜進(jìn)行分割，得到所述溫度異常區(qū)域中各缺陷部件對(duì)應(yīng)的第三掩膜；

通過(guò)所述缺陷確定模型，對(duì)所述第三掩膜進(jìn)行圖像二值化處理，根據(jù)二值化處理后的第三掩膜確定所述缺陷部件在所述第一紅外圖像中的圖像位置。