[發明專利]支撐結構及其制備方法和顯示組件

有效

• 申請號: 202110686279.3
• 申請日: 2021-06-21
• 公開（公告）號: CN113370601B
• 公開（公告）日: 2022-07-29
• 發明（設計）人: 丁賀明
• 申請（專利權）人: 合肥維信諾科技有限公司
• 主分類號: B32B7/12
• 分類號: B32B7/12;B32B7/06;G02F1/1333;G09F9/33;G09F9/35
• 代理公司: 北京布瑞知識產權代理有限公司 11505
• 代理人: 秦衛中

1.一種支撐結構，其特征在于，所述支撐結構具有用于支撐屏體的支撐區域和從所述支撐區域延伸出的多個外擴區域，其中，所述支撐結構包括：

層疊設置的基材層和膠層，所述膠層用于將所述基材層與所述屏體相連接；

間隔層，設置在所述多個外擴區域中的至少一個外擴區域內，所述間隔層覆蓋所述膠層的至少部分外表面，所述間隔層覆蓋所述膠層的側面。

2.根據權利要求1所述的支撐結構，其特征在于，所述間隔層層疊設置在所述膠層的遠離所述基材層一側的表面上。

3.根據權利要求1所述的支撐結構，其特征在于，在層疊的方向上，所述間隔層延伸至與所述膠層的靠近所述基材層一側的表面齊平或延伸至與所述基材層的遠離所述膠層一側的表面齊平。

4.根據權利要求1所述的支撐結構，其特征在于，所述多個外擴區域中的至少一個外擴區域包括靠近所述支撐區域的第一外擴子區域和遠離所述支撐區域的第二外擴子區域，所述間隔層設置在所述第二外擴子區域內。

5.根據權利要求4中所述的支撐結構，其特征在于，所述第一外擴子區域的寬度與所述屏體對應的貼附公差正相關，和/或，所述第一外擴子區域的寬度與所述屏體對應的裁切公差的正公差正相關或與所述屏體對應的裁切公差的負公差負相關。

6.根據權利要求1-5中任一項所述的支撐結構，其特征在于，還包括：

離型膜層，層疊設置在所述膠層和所述間隔層的遠離所述基材層一側的表面上。

7.根據權利要求6所述的支撐結構，其特征在于，所述間隔層的遠離所述基材層一側的表面高于所述膠層的遠離所述基材層一側表面。

8.根據權利要求6所述的支撐結構，其特征在于，所述離型膜層、所述膠層和所述間隔層之間形成非接觸的過渡區域，所述過渡區域的寬度小于或等于靠近所述支撐區域的第一外擴子區域的寬度。

9.一種支撐結構的制備方法，其特征在于，包括：

提供由多個如權利要求1-8中任一項所述的支撐結構組成的組合支撐結構，所述組合支撐結構中相鄰的兩個支撐結構之間通過組合間隔層連接；

沿所述組合間隔層上的切割線切割所述組合支撐結構以形成所述支撐結構。

10.一種顯示組件，其特征在于，包括：

屏體；

如權利要求1-5中任一項所述的支撐結構，所述屏體設置在所述支撐結構中膠層的遠離基材層一側的表面上。