[發明專利]圖像掩膜生成方法、裝置、電子設備和存儲介質

在審

• 申請號: 202110685248.6
• 申請日: 2021-06-21
• 公開（公告）號: CN113378948A
• 公開（公告）日: 2021-09-10
• 發明（設計）人: 崔致豪;王子芃;王正;耿嘉;丁有爽;邵天蘭
• 申請（專利權）人: 梅卡曼德（北京）機器人科技有限公司
• 主分類號: G06K9/62
• 分類號: G06K9/62
• 代理公司: 北京科石知識產權代理有限公司 11595
• 代理人: 徐紅崗

1.一種圖像掩膜生成方法，其特征在于，包括：

獲取包含掩膜特征的圖像數據，其中，所述掩膜特征為包括待識別物品的圖像的掩膜特征；

獲取所述圖像數據上的待識別物品的中心點信息以及識別框參數；

基于所述中心點信息以及識別框信息從圖像數據中提取所述待識別物品的掩膜特征；

基于從圖像數據中提取的所述待識別物品的掩膜特征生成物品的圖像掩膜。

2.根據權利要求1所述的圖像掩膜生成方法，其特征在于：所述識別框參數包括識別框的寬度信息以及識別框的高度信息。

3.根據權利要求1所述的圖像掩膜生成方法，其特征在于：所述中心點包括真實中心點。

4.根據權利要求1-3任一項所述的圖像掩膜生成方法，其特征在于：所述包含掩膜特征的圖像數據包括從骨干網絡中獲取并經融合后獲得的特征圖像數據。

5.根據權利要求4所述的圖像掩膜生成方法，其特征在于：所述融合包括通道級的相加運算和/或通道級的疊加運算。

6.根據權利要求4所述的圖像掩膜生成方法，其特征在于：所述骨干網絡包括第一數據處理過程和第二數據處理過程，所述數據處理過程包括一個或多個處理階段，所述數據階段包括一個或多個處理分支。

7.根據權利要求6所述的圖像掩膜生成方法，其特征在于：在所述第一處理過程中，在后處理階段包括比在先處理階段更多的處理分支。

8.根據權利要求6所述的圖像掩膜生成方法，其特征在于：在所述第二處理過程中，在后處理階段包括比在先處理階段更少的處理分支。

9.根據權利要求6所述的圖像掩膜生成方法，其特征在于：所述第一處理過程的最后一個處理階段與所述第二處理過程的第一個處理階段具有相同數量的處理分支。

10.一種圖像掩膜生成裝置，其特征在于，包括：

圖像數據獲取模塊，用于獲取包含掩膜特征的圖像數據，其中，所述掩膜特征為包括待識別物品的圖像的掩膜特征；

信息獲取模塊，用于獲取所述圖像數據上的待識別物品的中心點信息以及識別框參數；

掩膜特征獲取模塊，用于基于所述中心點信息以及識別框信息從圖像數據中提取所述待識別物品的掩膜特征；

掩膜生成模塊，用于基于從圖像數據中提取的所述待識別物品的掩膜特征生成物品的圖像掩膜。

11.根據權利要求10所述的圖像掩膜生成裝置，其特征在于：所述識別框參數包括識別框的寬度信息以及識別框的高度信息。

12.根據權利要求10所述的圖像掩膜生成裝置，其特征在于：所述中心點包括真實中心點。

13.根據權利要求10-12任一項所述的圖像掩膜生成裝置，其特征在于：所述包含掩膜特征的圖像數據包括從骨干網絡中獲取并經融合后獲得的特征圖像數據。

14.根據權利要求13所述的圖像掩膜生成裝置，其特征在于：所述融合包括通道級的相加運算和/或通道級的疊加運算。

15.根據權利要求13所述的圖像掩膜生成裝置，其特征在于：所述骨干網絡包括第一數據處理過程和第二數據處理過程，所述數據處理過程包括一個或多個處理階段，所述數據階段包括一個或多個處理分支。

16.根據權利要求15所述的圖像掩膜生成裝置，其特征在于：在所述第一處理過程中，在后處理階段包括比在先處理階段更多的處理分支。

17.根據權利要求15所述的圖像掩膜生成裝置，其特征在于：在所述第二處理過程中，在后處理階段包括比在先處理階段更少的處理分支。