[發明專利]一種具有抗反射、高透過率的太陽能聚光器及其制備方法在審
| 申請號： | 202110684610.8 | 申請日： | 2021-06-21 |
| 公開（公告）號： | CN113416337A | 公開（公告）日： | 2021-09-21 |
| 發明（設計）人： | 李煥榮;陳靜蕾;王元;謝廣敏 | 申請（專利權）人： | 河北工業大學 |
| 主分類號： | C08J7/04 | 分類號： | C08J7/04;C08J7/06;C08L33/12;C09D133/12;C09D5/22;C09D1/00;C09D7/65;F24S23/70;C07F5/00;C09K11/06 |
| 代理公司： | 天津翰林知識產權代理事務所(普通合伙) 12210 | 代理人： | 趙鳳英 |
| 地址： | 300130 天津市紅橋區*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 具有 反射 透過 太陽能 聚光器 及其 制備 方法 | ||
1.一種具有抗反射、高透過率的太陽能聚光器，其特征為該聚光器的組成由下至上依次為基體、發光薄膜和二氧化硅抗反射減反涂層；所述的發光薄膜包括含有發光稀土配合物Eu(2mCND)4Na和聚甲基丙烯酸甲酯，稀土配合物和聚甲基丙烯酸甲酯的質量比為＝0.5％～5％：1；
所述的基體為玻璃。
2.如權利要求1所述的具有抗反射、高透過率的太陽能聚光器，其特征為所述的發光薄膜的厚度為100nm～2000nm，二氧化硅抗反射減反涂層的厚度為10nm～200nm。
3.如權利要求1所述的具有抗反射、高透過率的太陽能聚光器，其特征為所述的玻璃優選為亞克力玻璃。
4.如權利要求1所述的具有抗反射、高透過率的太陽能聚光器，其特征為所述的發光稀土配合物所用的配體為4-羥基-2-甲基-3-甲腈-1,5-萘啶(簡稱2mCND)的結構式如下：
5.如權利要求1所述的具有抗反射、高透過率的太陽能聚光器的制備方法，其特征為該方法包括以下步驟：
(1)將Eu(2mCND)4Na/PMMA溶液涂覆在基體上，80～95℃下加熱40～120分鐘后，得到覆蓋有薄膜的基體；
其中，每12.5平方厘米基體滴涂0.5～5mL溶液；
(2)將上步得到的覆蓋有薄膜一側的基體浸沒到抗反射減反液中，以50～70mm/min的速度提拉鍍膜，在聚光器表面鍍上一層抗反射薄膜，最終得到具有抗反射、高透過率的太陽能聚光器。
6.如權利要求5所述的具有抗反射、高透過率的太陽能聚光器的制備方法，其特征為所述的Eu(2mCND)4Na/PMMA溶液的制備方法，包括以下步驟：
(a)將配體4-羥基-2-甲基-3-甲腈-1,5-萘啶(2mCND)于反應器中，加入無水乙醇后超聲分散，再加入NaOH的乙醇溶液，繼續超聲20～40min，得到透明液體；
其中，每20mL無水乙醇加入2～6mmol配體、2～6mmol NaOH；NaOH的乙醇溶液的濃度為0.05～0.20mol/L；
(b)將上述得到的溶液油浴加熱20～40分鐘后，加入EuCl3乙醇溶液，攪拌10～14小時，得到白色沉淀；
其中，EuCl3乙醇溶液的濃度為0.05～0.20mol/L，EuCl3與配體2mCND的物質的量比為1:4；
(c)將上述得到的含有白色沉淀的溶液，超聲，離心，洗滌，烘干后,得到發光稀土配合物Eu(2mCND)4Na；
(d)將聚甲基丙烯酸甲酯粉末放入反應器中，加入DMF溶液，進行65～75℃油浴加熱，得到聚甲基丙烯酸甲酯的DMF溶液；
其中，每10mL DMF加入0.5～2.0g聚甲基丙烯酸甲酯；
(e)將發光稀土配合物的DMF溶液與聚甲基丙烯酸甲酯的DMF溶液混合，得到Eu(2mCND)4Na/PMMA溶液；
其中稀土配合物：聚甲基丙烯酸甲酯的質量比＝0.5％～5％:1；每1mL的DMF溶有0.5～5mg發光稀土配合物。
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