[發明專利]一種圖像目標的定位方法、裝置、設備和存儲介質

在審

• 申請號: 202110684556.7
• 申請日: 2021-06-21
• 公開（公告）號: CN113378816A
• 公開（公告）日: 2021-09-10
• 發明（設計）人: 楊海林;高凱珺;潘柳華;徐麟
• 申請（專利權）人: 上海眼控科技股份有限公司
• 主分類號: G06K9/20
• 分類號: G06K9/20;G06K9/62;G06N3/04;G06N3/08;G06T3/40;G06T5/50;G06T7/62;G06T7/66
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種圖像目標的定位方法，其特征在于，包括：

對當前圖像的淺層目標全局特征和深層目標局部特征進行特征拼接，得到所述當前圖像的目標特征向量；

基于預構建的目標檢測模型，采用所述深層目標局部特征確定對應的第一目標定位特征圖，并采用所述目標特征向量確定對應的第二目標定位特征圖；

對所述第一目標定位特征圖和所述第二目標定位特征圖進行特征拼接，確定所述當前圖像內的目標定位信息。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一目標定位特征圖和所述第二目標定位特征圖包括目標熱力特征圖、目標寬高特征圖和目標偏置特征圖；

所述對所述第一目標定位特征圖和所述第二目標定位特征圖進行特征拼接，確定所述當前圖像內的目標定位信息，包括：

對所述第一目標定位特征圖和所述第二目標定位特征圖中的目標熱力特征圖進行特征拼接，并根據拼接后的目標熱力特征圖確定所述當前圖像內各目標的中心點坐標；

對所述第一目標定位特征圖和所述第二目標定位特征圖中的目標寬高特征圖進行特征拼接，并根據拼接后的目標寬高特征圖確定所述當前圖像內各目標的寬高信息；

對所述第一目標定位特征圖和所述第二目標定位特征圖中的目標偏置特征圖進行特征拼接，并根據拼接后的目標偏置特征圖確定所述當前圖像內各目標的中心點偏置信息；

利用所述當前圖像內各目標的中心點坐標、寬高信息和中心點偏置信息，在所述當前圖像內標記出各所述目標。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述根據拼接后的目標熱力特征圖確定所述當前圖像內各目標的中心點坐標，包括：

從所述拼接后的目標熱力特征圖中，提取出由高斯分布值超出預設閾值的特征點組成的各特征圖區域，并將各所述特征圖區域的平均中心點作為所述當前圖像內各目標的中心點坐標。

4.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述第一目標定位特征圖和所述第二目標定位特征圖還包括目標傾斜角特征圖；

所述對所述第一目標定位特征圖和所述第二目標定位特征圖進行特征拼接，確定所述當前圖像內的目標定位信息，還包括：

對所述第一目標定位特征圖和所述第二目標定位特征圖中的目標傾斜角特征圖進行特征拼接，并根據拼接后的目標傾斜角特征圖確定所述當前圖像內各目標的傾斜角度。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述目標檢測模型包括具備相同網絡結構的第一目標檢測網絡和第二目標檢測網絡；

所述采用所述深層目標局部特征確定對應的第一目標定位特征圖，包括：

將所述深層目標局部特征輸入所述第一目標檢測網絡中，輸出對應的第一目標定位特征圖；

所述采用所述目標特征向量確定對應的第二目標定位特征圖，包括：

將所述目標特征向量輸入所述第二目標檢測網絡中，輸出對應的第二目標定位特征圖。

6.根據權利要求1-5任一項所述的方法，其特征在于，所述對當前圖像的淺層目標全局特征和深層目標局部特征進行特征拼接，包括：

按照所述淺層目標全局特征的維度，對所述深層目標局部特征進行上采樣；

對所述淺層目標全局特征和上采樣后的深層目標局部特征進行特征拼接。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述淺層目標全局特征和上采樣后的深層目標局部特征具備相同的維度；

所述對所述淺層目標全局特征和上采樣后的深層目標局部特征進行特征拼接，包括：

對所述淺層目標全局特征和上采樣后的深層目標局部特征內每一維度下的特征值進行拼接融合。